[發明專利]一種雜化吸附劑吸附分離放射性含鈷廢水的方法

有效

• 申請號: 201710809206.2
• 申請日: 2017-09-10
• 公開（公告）號: CN107358987B
• 公開（公告）日: 2019-03-19
• 發明（設計）人: 劉俊生;馬志啟;強修福;黃俊俊;王青
• 申請（專利權）人: 合肥學院
• 主分類號: G21F9/12
• 分類號: G21F9/12;C02F9/02;B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

1.一種雜化吸附劑吸附分離放射性含鈷廢水的方法，其特征在于，步驟如下：

(1)首先，將放射性含鈷廢水通入管式膜分離器中，采用錯流操作的方式，用顆粒狀雜化吸附劑吸附分離放射性廢水中的大部分鈷離子；

(2)其次，將上述步驟(1)處理后的廢水再進行反滲透膜過濾處理；

(3)最后，將上述步驟(2)處理后的放射性含鈷廢水通入板框式膜分離器中，采用逆流操作的方式，用膜片狀雜化吸附劑再進行吸附分離，脫除水中殘留的微量鈷離子，由此實現脫除放射性廢水中的鈷離子；

所述雜化吸附劑的制備步驟如下：

①、雜化前驅體的制備

在惰性氣氛或空氣中，在10～70℃的溫度條件下，將正硅酸乙酯(TEOS)按照質量比TEOS：硅烷偶聯劑＝1：0.1～10的比例加入到硅烷偶聯劑中去，溶解后進行溶膠-凝膠反應1～12h，制備得到雜化前驅體；

②、涂膜液的制備

在50～80g質量百分濃度為3～5％的聚乙烯醇(PVA)水溶液中，加入0.1～5g的上述制備得到的雜化前驅體，室溫下再繼續反應1～12h，將所得到的物質靜置脫泡，即可制備得到所需的涂膜液；

③、雜化吸附劑的制備

將上述靜置脫泡后的涂膜液在10～80℃、相對濕度為50％～90％的惰性氣氛或空氣中干燥1～48h，冷卻放置24h后即得到顆粒狀的雜化吸附劑；

或者，將上述靜置脫泡后的涂膜液直接在支撐體上涂膜至得到膜片，室溫下放置24h，將膜片與支撐體分離，然后再將膜片在10～120℃條件下干燥12h，冷卻后即得到不帶有支撐體的膜片狀雜化吸附劑；

或者，將上述靜置脫泡所得到的涂膜液在支撐體上涂膜至得到膜片，然后將支撐體和膜片共同在10～120℃條件下干燥3～48h，冷卻后即得到帶有支撐體的膜片狀雜化吸附劑。

2.如權利要求1所述的吸附分離方法，其特征在于，所述膜分離器選自實驗室級或工業級，其操作時間為0.5-3h。

3.如權利要求1所述的吸附分離方法，其特征在于，所述反滲透的操作條件為：操作壓力≤1.0MPa，0℃≤操作溫度≤35℃。

4.如權利要求1所述的吸附分離方法，其特征在于，所述硅烷偶聯劑為N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷A-1100、γ-氨丙基三乙氧基硅烷KH-550中的一種或多種相互混合后所得到的產物。

5.如權利要求1所述的吸附分離方法，其特征在于，所述支撐體選用無紡布、聚乙烯膜、滌綸布、玻璃纖維布或尼龍布。

6.如權利要求1所述的吸附分離方法，其特征在于，所述干燥選用真空干燥、對流干燥、紫外干燥或微波干燥。

7.如權利要求1所述的吸附分離方法，其特征在于，所述涂膜選用流動涂膜、浸漬涂膜、噴灑涂膜、刮膜或旋轉涂膜。