[發明專利]輻射成像系統及其控制方法

有效

• 申請號: 201710805529.4
• 申請日: 2017-09-08
• 公開（公告）號: CN109464153B
• 公開（公告）日: 2022-09-20
• 發明（設計）人: J·E·特卡茨克;潘鋒;顧嘉俊;翟梓融
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 侯穎媖

1.一種用于成像檢測目標的輻射成像系統，其特征在于，包括：

輻射源，其位于所述檢測目標的第一側，用于發射多個射線；

探測器，其位于所述檢測目標的第二側，用于檢測來自所述輻射源的多個射線；

第一傳感器，其位于所述檢測目標的第一側，用于獲取所述檢測目標的相關信息；

第二傳感器，其位于所述探測器上，用于獲取探測器位置的相關信息；以及

控制器，其用于基于所述第一傳感器獲取的所述檢測目標的相關信息和所述第二傳感器獲取的所述探測器位置的相關信息重建三維場景，且基于所述重建的三維場景去控制所述輻射源和所述探測器至少一個的操作。

2.如權利要求1所述的輻射成像系統，其中，所述操作所述輻射源和所述探測器的至少一個包括調整所述輻射源和所述探測器至少一個的位置和/或方向，優化所述輻射源的至少一個曝光參數。

3.如權利要求1所述的輻射成像系統，其中，所述三維場景的信息包括檢測目標的三維圖像信息、檢測目標位置的相關信息、探測器位置的相關信息和輻射源位置的相關信息中的至少一個，且所述控制器基于所述三維場景信息去控制所述輻射源和所述探測器的操作。

4.如權利要求1所述的輻射成像系統，包括用于支撐所述輻射源的支撐裝置，所述支撐裝置包括機架以及安裝于所述機架上的支撐柱，所述輻射源耦接于所述支撐柱，所述第一傳感器安裝于所述支撐柱或者所述輻射源。

5.如權利要求4所述的輻射成像系統，包括安裝于所述輻射源或者所述支撐裝置的指示裝置，所述指示裝置用于提供調整所述輻射源、所述探測器、和所述檢測目標的至少一個的位置和/或方向的指示。

6.如權利要求1所述的輻射成像系統，包括設置于所述輻射源的顯示裝置，其用于顯示所述檢測目標的解剖中心相對于所述輻射源的視場的相對對齊。

7.如權利要求1所述的輻射成像系統，其中，所述第一傳感器包括相機和測距儀的至少一個。

8.如權利要求1所述的輻射成像系統，其中，所述第二傳感器包括慣性傳感器，其用于追蹤所述探測器相對于所述輻射源的運動以確定所述探測器的位置。

9.如權利要求1所述的輻射成像系統，包括至少一個設置在所述檢測目標和操作員至少一個上的標記，其用于識別所述檢測目標和所述操作員或者確定所述檢測目標和/或操作員的位置。

10.如權利要求9所述的輻射成像系統，其中，所述至少一個標記包括電磁線圈。

11.如權利要求10所述的輻射成像系統，其中，所述至少一個標記設置于所述檢測目標上，所述第二傳感器包括至少一個電磁傳感器，所述至少一個電磁傳感器和所述至少一個標記配合以獲得所述探測器和所述至少一個標記之間的距離，基于獲得的所述距離和由第一傳感器獲得的所述至少一個標記和所述輻射源之間的相對位置信息以確定探測器的位置。

12.如權利要求1所述的輻射成像系統，其中，所述第二傳感器包括接近傳感器，其用以獲得所述探測器位于所述檢測目標邊緣時的初始位置和所述探測器位于所述檢測目標后面的最終位置之間的相對位置信息。

13.如權利要求12所述的輻射成像系統，其中，所述探測器的位置可以通過第一傳感器獲得的探測器的初始位置和所述探測器的相對位置信息確定。