[發明專利]掩膜板、透鏡陣列及其制備方法、顯示面板

有效

• 申請號: 201710801909.0
• 申請日: 2017-09-07
• 公開（公告）號: CN107357130B
• 公開（公告）日: 2021-04-27
• 發明（設計）人: 周剛;楊小飛;牟勛;代科;林亞麗;孟佳;郭明周;劉庭良
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/54
• 分類號: G03F1/54;G02B3/00;G02F1/29
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

一種掩膜板、透鏡陣列及其制備方法、顯示面板。該掩膜板包括至少一個圖案單元，圖案單元包括透明基板和設置在透明基板上的半透膜，半透膜的透射率在所述圖案單元內部至少沿垂直于所述半透膜厚度方向的第一方向上逐漸變化。該透鏡陣列包括至少一個透鏡單元，該透鏡陣列的制備方法包括：使用該掩膜板，通過光刻工藝形成所述透鏡陣列，并且所述掩膜板的圖案單元與所述透鏡單元一一對應。該制備方法工藝簡單，成本低廉。該顯示面板包括上述透鏡陣列，通過透鏡陣列對光的折射可以達到調節顯示面板視角的技術效果。

技術領域

本發明的實施例涉及一種掩膜板、透鏡陣列及其制備方法、顯示面板。

背景技術

透鏡陣列是制備某些小型光電子系統的關鍵元件，它具有體積小、厚度薄、質量輕等優點，因此能夠實現普通光學元件難以實現的某些功能，例如元件微小化、陣列化、集成度高、成像質量好及可用于波面轉換等，因此可廣泛應用于光纖通訊、LED照明、汽車照明、數碼相機、生物醫療等諸多領域。

但是，現有的透鏡陣列制備技術大多工藝復雜，并且只能制備平凸或平凹微透鏡。

發明內容

本發明至少一實施例提供一種掩膜板，包括至少一個圖案單元，所述圖案單元包括透明基板和設置在所述透明基板上的半透膜，所述半透膜的透射率在所述圖案單元內部至少沿垂直于所述半透膜厚度方向的第一方向上逐漸變化。

本發明至少一實施例提供的一種掩膜板中，所述半透膜的透射率在所述圖案單元內從邊緣到中心逐漸增加或逐漸減小。

本發明至少一實施例提供的一種掩膜板中，所述半透膜的厚度在所述圖案單元內部逐漸變化從而使得所述半透膜的透射率在所述圖案單元內部逐漸變化；或者所述半透膜的材料的透射率在所述圖案單元內部逐漸變化從而使得所述半透膜的透射率在所述圖案單元內部逐漸變化。

本發明至少一實施例提供的一種掩膜板中，所述半透膜摻雜有不透明染料并且所述不透明染料的摻雜濃度在所述半透膜內部逐漸變化，從而使得所述半透膜的材料的透射率在所述圖案單元內部逐漸變化。

本發明至少一實施例提供一種透鏡陣列的制備方法，所述透鏡陣列包括至少一個透鏡單元，該方法包括：使用權利要求上述任一所述的掩膜板，通過光刻工藝形成所述透鏡陣列，其中，所述掩膜板的圖案單元與所述透鏡單元一一對應。

本發明至少一實施例提供的一種透鏡陣列的制備方法中，通過兩次光刻工藝形成雙面透鏡陣列，且所述兩次光刻工藝所使用的光刻膠的極性相反。

本發明至少一實施例提供的一種透鏡陣列的制備方法中，所述通過兩次光刻工藝形成雙面透鏡陣列包括：在基底上形成第一極性光刻膠層；使用第一掩膜板對所述第一極性光刻膠層曝光，然后進行顯影以形成具有第一透鏡形狀的第一光刻膠圖案；使用所述第一光刻膠圖案對基底的表面進行第一刻蝕工藝形成第一透鏡陣列表面；在所述第一透鏡陣列表面上形成透鏡材料層；在所述透鏡材料層表面上形成第二極性光刻膠層，其中所述第一極性和所述第二極性相反；使用第二掩膜板對所述第二極性光刻膠層曝光，然后進行顯影形成具有第二透鏡形狀的第二光刻膠圖案；使用所述第二光刻膠圖案對所述透鏡材料層進行第二刻蝕工藝以形成第二透鏡陣列表面，其中，所述第一掩膜板和所述第二掩模板為上述任一掩膜板。

本發明至少一實施例提供的一種透鏡陣列的制備方法中，所述透鏡材料層的形成厚度等于最終所要形成的透鏡陣列的厚度。

本發明至少一實施例提供的一種透鏡陣列的制備方法中，所述第一掩膜板和所述第二掩模板為同一個掩模板。

本發明至少一實施例提供的一種透鏡陣列的制備方法中，所述第一透鏡陣列表面的透鏡單元與所述第二透鏡陣列表面的透鏡單元一一對應。

本發明至少一實施例提供的一種透鏡陣列的制備方法中，所述第一刻蝕工藝和所述第二刻蝕工藝為干刻工藝。