[發(fā)明專利]基板處理方法及基板處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710800919.2
• 申請(qǐng)日: 2017-09-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107818912B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-01-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尾辻正幸
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/02
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/02;H01L21/67
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 崔炳哲;向勇

本發(fā)明提供基板處理方法及基板處理裝置，該基板處理方法包括：基板保持工序，將基板保持為水平；液膜形成工序，向所述基板的上表面供給處理液，形成覆蓋該基板的上表面的處理液的液膜；液膜去除區(qū)域形成工序，從所述處理液的液膜排除一部分處理液，在所述處理液的液膜形成液膜去除區(qū)域；液膜去除區(qū)域形成工序，從所述處理液的液膜排除一部分處理液，在所述處理液的液膜形成液膜去除區(qū)域；液膜去除區(qū)域擴(kuò)大工序，將所述液膜去除區(qū)域向所述基板的外周擴(kuò)大；氟化氫環(huán)境氣體保持工序，與所述液膜去除區(qū)域擴(kuò)大工序并行地，將所述液膜去除區(qū)域和所述處理液的液膜的邊界周?chē)沫h(huán)境氣體保持為含有氟化氫的蒸氣的環(huán)境氣體。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基板處理方法及基板處理裝置。成為處理對(duì)象的基板，例如包括半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示裝置用基板、FED(Field EmissionDisplay；場(chǎng)致發(fā)射顯示裝置)用基板、光盤(pán)用基板、磁盤(pán)用基板、光磁盤(pán)用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽(yáng)能電池用基板等。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體裝置的制造工序中，用處理液對(duì)半導(dǎo)體晶片等基板的表面進(jìn)行處理。對(duì)基板一張一張地進(jìn)行處理的單張式基板處理裝置包括：旋轉(zhuǎn)夾具，其將基板保持為大致水平，并且使該基板旋轉(zhuǎn)；噴嘴，其用于向由該旋轉(zhuǎn)夾具旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液。

在典型的基板處理工序中，向被旋轉(zhuǎn)夾具保持的基板供給藥液。之后，向基板供給水，由此用水替換基板上的藥液。之后，進(jìn)行用于排除基板上的水的旋轉(zhuǎn)干燥工序。在旋轉(zhuǎn)干燥工序中，通過(guò)使基板高速旋轉(zhuǎn)來(lái)甩出去除(干燥)附著在基板上的水。通常的水是去離子水。

在基板的表面形成有微細(xì)的圖案的情況下，在旋轉(zhuǎn)干燥工序中，會(huì)存在不能去除進(jìn)入到圖案內(nèi)部的水的憂慮，由此會(huì)存在干燥不良的憂慮。于是，提出了如下方法：向用水處理后的基板表面，供給異丙醇(isopropyl alcohol：IPA)等有機(jī)溶劑，用有機(jī)溶劑替換進(jìn)入到基板表面的圖案間隙的水，從而使基板表面干燥。

如美國(guó)的未經(jīng)實(shí)質(zhì)審查的US5882433A公報(bào)中所示，在通過(guò)基板的高速旋轉(zhuǎn)來(lái)使基板干燥的旋轉(zhuǎn)干燥工序中，液面(空氣和液體的界面)形成在圖案內(nèi)。在該情況下，液體的表面張力作用于液面和圖案的接觸位置。該表面張力是使圖案倒塌的原因之一。

如美國(guó)的未經(jīng)實(shí)質(zhì)審查的US5882433A公報(bào)中所示，在沖洗處理后、旋轉(zhuǎn)干燥工序前，向基板的表面供給有機(jī)溶劑液體(以下，簡(jiǎn)稱為“有機(jī)溶劑”)的情況下，有機(jī)溶劑進(jìn)入到圖案之間。有機(jī)溶劑的表面張力低于作為典型的沖洗液的水的表面張力。因此，能夠緩解因表面張力發(fā)生的圖案倒塌的問(wèn)題。

但是，近年來(lái)，為了使利用基板處理來(lái)制作的裝置(例如，半導(dǎo)體裝置)實(shí)現(xiàn)高集成化，微細(xì)且高縱橫(aspect)比的圖案(凸?fàn)顖D案、線狀圖案等)形成在基板表面成為趨勢(shì)。就微細(xì)且高縱橫比的圖案而言，由于其強(qiáng)度低，因此，存在作用于有機(jī)溶劑液面的表面張力也會(huì)引起倒塌的憂慮。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的目的在于，提供能夠有效地抑制圖案的倒塌，同時(shí)能夠使基板的上表面干燥的基板處理方法及基板處理裝置。

本發(fā)明提供一種基板處理方法，其包括：基板保持工序，將基板保持為水平；液膜形成工序，向所述基板的上表面供給處理液，形成覆蓋該基板的上表面的處理液的液膜；液膜去除區(qū)域形成工序，從所述處理液的液膜排除一部分處理液，在所述處理液的液膜形成液膜去除區(qū)域；液膜去除區(qū)域擴(kuò)大工序，與所述液膜去除區(qū)域形成工序并行地，使所述液膜去除區(qū)域向所述基板的外周擴(kuò)大；氟化氫環(huán)境氣體保持工序，與所述液膜去除區(qū)域擴(kuò)大工序并行地，將所述液膜去除區(qū)域和所述處理液的液膜的邊界周?chē)沫h(huán)境氣體保持為含有氟化氫的蒸氣的環(huán)境氣體。