[發明專利]一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法

在審

• 申請號: 201710800552.4
• 申請日: 2017-09-07
• 公開（公告）號: CN107686972A
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發明（設計）人: 彭壽;沈洪雪;金克武;王天齊;甘治平;李剛;姚婷婷;楊勇
• 申請（專利權）人: 蚌埠玻璃工業設計研究院
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/35;C23C14/06
• 代理公司: 安徽省蚌埠博源專利商標事務所34113
• 代理人: 尹杰

1.一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一、選用0.3-0.5mm的超白玻璃為襯底材料；

步驟二、對襯底材料進行超聲波清洗；

步驟三、設置W靶材和C靶材，W靶材和C靶材相交是設置，且兩靶材的交點位于樣品架處；

步驟四、把清洗后的超白玻璃襯底放置于樣品架上；

步驟五、使用Ar離子轟擊W、C兩靶材，達到清洗和活化靶材的作用；

步驟六、把清洗后的襯底材料放入真空度抽至3.0×10^-4—5.0×10^-4Pa的濺射腔室內，通入氬氣進行預濺射起輝，同時再通入氮氣。

2.根據權利要求1所述的一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于：所述襯底材料為0.4mm的超白高透玻璃。

3.根據權利要求1所述的一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于：所述W靶材和所述C靶材與水平面都成45°交角。

4.根據權利要求1或3所述的一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于：所述W靶材和所述C靶材的功率能夠單獨調節。

5.根據權利要求1所述的一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于：所述薄膜的整個制備過程中保持所述W靶材和所述C靶材的基距，以及襯底轉速不變。

6.根據權利要求1所述的一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于：步驟二采用丙酮、酒精和去離子水分別對所述襯底材料進行超聲波清洗，以達到去除襯底表面雜質和油污的目的，清洗后用熱風吹干。

7.根據權利要求1所述的一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于：步驟六中在通入氬氣后，讓兩靶材空燒一段時間，除表面的雜質以及氧化物。

8.根據權利要求1所述的一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于：步驟六中所述濺射腔室的真空度為4.0×10^-4Pa。

9.根據權利要求1所述的一種共摻雜類金剛石薄膜的制備方法，其特征在于：步驟六中濺射起輝的電源為直流電源，進行濺射鍍膜時，W靶材和C靶材的工藝參數為：兩靶材功率都為20—50W，氬氣與氮氣的流量比例為3:1—16:1，具體的為氬氣10—40sccm、氮氣2—10sccm，工作氣壓為0.2—2.0Pa，濺射時間10—60s。