[發明專利]相位調制有源設備、驅動方法以及包括其的光學裝置有效
| 申請號: | 201710799993.7 | 申請日: | 2017-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN107807462B | 公開(公告)日: | 2022-06-10 |
| 發明(設計)人: | 李斗鉉;申昶均;慶智秀;崔秉龍 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01;G01S17/04;G01S17/48 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 錢大勇 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 相位 調制 有源 設備 驅動 方法 以及 包括 光學 裝置 | ||
提供相位調制有源設備和驅動相位調制有源設備的方法。相位調制有源設備包括獨立調制入射光相位的通道。該方法包括:選擇要用于通道的第一相位值和第二相位值,通過以其中布置通道的順序將所選擇的第一相位值或所選擇的第二相位值準周期性地分配給所述通道的每一個,來設置二進制相位分布;和基于設置的二進制相位分布來驅動相位調制有源設備。
相關申請的交叉引用
本申請要求2016年9月9日在韓國知識產權局提交的韓國專利申請No.10-2016-0116580的優先權,其公開內容通過引用整體并入本文。
技術領域
與示例實施例一致的裝置和方法涉及相位調制有源設備、驅動相位調制有源設備的方法、以及包括相位調制有源設備的光學裝置。
背景技術
改變透射/反射、偏振、相位、強度和入射光路徑的光學元件已經用于各種光學設備中。為了在光學系統中以期望的方式控制光的上述特征,已經提出了具有各種結構的光學調制器。
例如,使用光阻擋/反射元件的精細機械運動的光學各向異性液晶和微機電系統(MEMS)結構已被廣泛用于相關技術的光學調制器中。由于光調制器的驅動方案的性質,這種光調制器具有幾微秒(μs)的長操作響應時間。
最近已經嘗試將元結構應用于光學調制器。元結構是其中將小于入射光的波長的值應用于厚度、圖案或周期的結構。光調制可以通過組合用于入射光的相位調制類型而以各種形式實現,并且由于高響應速度可以實現各種光學特性。因此,元結構可以有利地應用于超微型設備。
發明內容
示例實施例可以解決至少上述問題和/或缺點以及上面沒有描述的其它缺點。此外,示例性實施例不需要克服上述缺點,并且可能不會克服上述任何問題。
示例性實施例提供能夠以相位調制形式的組合實現所需光學性能的相位調制有源設備和驅動相位調制有源設備的方法。
根據示例實施例的一個方面,提供了一種驅動相位調制有源設備的方法,該相位調制有源設備包括獨立地調制入射光的相位的通道,該方法包括:選擇要用于通道的第一相位值和第二相位值;通過以其中布置通道的順序將所選擇的第一相位值或所選擇的第二相位值準周期性地分配給所述通道的每一個,來設置二進制相位分布;和基于設置的二進制相位分布來驅動相位調制有源設備。
二進制相位分布的設置可以包括:重復將所選擇的第一相位值分配給通道中的一個或多個第一相鄰通道以及將所選擇的第二相位值分配給通道中的一個或多個第二相鄰通道的過程,以及該方法還包括基于重復所選擇的第一相位值和所選擇的第二相位值的布置圖案的周期的平均值來調整相位調制有源設備的光學性能。
二進制相位分布的設置還可以包括設置二進制相位分布,使得相位調制有源設備基于等式將入射光轉向θ。λ可以表示入射光的波長,Tk可以表示重復所選擇的第一相位值和所選擇的第二相位的布置圖案的第k個周期,并且Tk可以表示周期的平均值。
所選擇的第一相位值和所選擇的第二相位值之間的差可以是π。
二進制相位分布的設置可以包括:設置相位值范圍從0到2π的全相位分布,以實現相位調制有源設備的光學性能;和將包括在全相位分布中的相位值校正為所選擇的第一相位值或所選擇的第二相位值。
相位值的校正可以包括:響應于相位值處于第一范圍,將相位值校正為所選擇的第一相位值;和響應于相位值在第一范圍之外,將相位值校正為所選擇的第二相位值。
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