[發明專利]圖案曝光裝置、曝光頭以及圖案曝光方法

有效

• 申請號: 201710795277.1
• 申請日: 2017-09-06
• 公開（公告）號: CN107807495B
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: 水野博文;茂野幸英;植村春生
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇

1.一種圖案曝光裝置，其包括：

保持部，用于保持感光材料；

曝光頭，用于向所述感光材料輸出圖案光；

測量部，用于測量被所述保持部保持的所述感光材料的位置；以及

聚焦控制部，根據所述感光材料的位置，對所述圖案光的成像位置進行調節，其中，

所述曝光頭具備：

空間光調制器，所述空間光調制器具有多個調制元件，所述多個調制元件對從光源輸出的光進行空間光調制而形成圖案光；

第一成像光學系統，具有第一透鏡和第二透鏡，所述第一透鏡和所述第二透鏡配置在從所述空間光調制器輸出的圖案光的光路上，所述第二透鏡為像側遠心型；

微透鏡陣列，所述微透鏡陣列具有多個微透鏡，所述多個微透鏡對穿過所述第一成像光學系統的所述第二透鏡的所述圖案光進行聚焦；

第二成像光學系統，配置在穿過所述微透鏡陣列的所述圖案光的光路上，使所述圖案光進行成像；以及

透鏡移動部，用于使所述第二透鏡和所述微透鏡陣列在接近或遠離所述第一透鏡的方向上進行移動，

所述聚焦控制部通過控制所述透鏡移動部的動作來調節所述圖案光的所述成像位置，

所述第二透鏡和所述微透鏡陣列固定在所述透鏡移動部上，所述透鏡移動部 使所述第二透鏡和所述微透鏡陣列一體地移動。

2.根據權利要求1所述的圖案曝光裝置，其中，

所述第二成像光學系統是兩側遠心型。

3.根據權利要求1或2所述的圖案曝光裝置，其中，

所述第一成像光學系統是以大于一倍的橫向放大倍率進行成像的放大光學系統。

4.根據權利要求3所述的圖案曝光裝置，其還包括曝光頭支撐部，

所述曝光頭支撐部以將多個所述曝光頭排列的狀態支撐多個所述曝光頭。

5.根據權利要求1或2所述的圖案曝光裝置，其中，

所述第二成像光學系統是以大于第一成像光學系統的橫向放大倍率的橫向放大倍率進行成像的放大光學系統。

6.一種曝光頭，其為用于輸出圖案光的曝光頭，其包括：

空間光調制器，所述空間光調制器具有多個調制元件，所述多個調制元件對從光源輸出的光進行空間光調制而形成圖案光；

第一成像光學系統，具有第一透鏡和第二透鏡，所述第一透鏡和所述第二透鏡配置在從所述空間光調制器輸出的圖案光的光路上，所述第二透鏡是像側遠心型；

微透鏡陣列，所述微透鏡陣列具有多個微透鏡，所述多個微透鏡對穿過所述第一成像光學系統的所述第二透鏡的所述圖案光進行聚焦；

兩側遠心型第二成像光學系統，配置在穿過所述微透鏡陣列的所述圖案光的光路上，使所述圖案光進行成像；以及

透鏡移動部，用于使所述第二透鏡和所述微透鏡陣列在接近或遠離所述第一透鏡的方向上進行移動，

所述第二透鏡和所述微透鏡陣列固定在所述透鏡移動部上，所述透鏡移動部 使所述第二透鏡和所述微透鏡陣列一體地移動。

7.一種圖案曝光方法，其包括：

用于保持感光材料的(a)工序；

向所述感光材料輸出圖案光的(b)工序；

用于測量所述感光材料的位置的(c)工序；以及

根據所述(c)工序中測量的所述感光材料的位置，對所述(b)工序中的所述圖案光的成像位置進行調節的(d)工序，

所述(b)工序包括：

通過多個調制元件來對從光源輸出的光進行空間光調制而形成所述圖案光的(b-1)工序；

通過第一成像光學系統使所述圖案光進行成像的(b-2)工序，所述第一成像光學系統包括配置在所述圖案光的光路上的第一透鏡和第二透鏡，并且所述第二透鏡是像側遠心型；

通過具有多個微透鏡的微透鏡陣列對所述(b-2)工序中的從所述第一成像光學系統的所述第二透鏡輸出的所述圖案光進行聚焦的(b-3)工序；以及

通過第二成像光學系統使所述(b-3)工序中的穿過所述微透鏡陣列的所述圖案光進行成像的(b-4)工序，

所述(d)工序包括：

使所述第二透鏡和所述微透鏡陣列在接近或遠離所述第一透鏡的方向上進行移動的(d-1)工序，

所述第二透鏡和所述微透鏡陣列固定在透鏡移動部上，所述透鏡移動部 使所述第二透鏡和所述微透鏡陣列一體地移動。