[發明專利]一種金屬板的鍍膜方法與設備

在審

• 申請號: 201710791343.8
• 申請日: 2017-09-05
• 公開（公告）號: CN107723677A
• 公開（公告）日: 2018-02-23
• 發明（設計）人: 汪會平
• 申請（專利權）人: 汪會平
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/32
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙)32249
• 代理人: 陳建和

1.金屬板的鍍膜方法，其特征是在設有的包括料庫、離子鍍室、第三真空室內進行，料庫內設有2-20片的金屬基板作為料庫，料庫及連通的離子鍍室、料庫和第三真空室設有可變軌道的金屬基板循環運輸系統；金屬基板循環運輸系統通過第二真空鍍膜室即離子鍍室進行鍍膜，離子鍍室中靶材采用鈦，碳化物合金或硼化物合金作為鍍硬質膜層的材料；金屬基板在可變軌道上在料庫及連通的離子鍍室、第三真空室多次循環，在經過離子鍍室的第一和第二橫向軌道上進行連續多次的循環鍍膜，逐次鍍膜即使金屬基板漸進地、吸收堆積靶材離子成膜而成為成品模壓板，每次鍍膜后的半成品模壓板有冷卻時間和空間；第一真空室與真空鍍膜室之間出入口設有密封門；金屬基板循環由多只V型輪和上軌的多組夾持輪支持和驅動。V型輪的V型槽上直接支撐基板；V型輪設有主動輪和被動輪，V型輪轉動而不滾動的方式驅動基板。

2.根據權利要求1所述的金屬板的鍍膜方法，其特征是料庫內置有若干8至20個平行的第一至第N水平軌道8及軌道上的基板，N為8至20之一整數，每個板料架攜運一片豎起的金屬基板，當第一至第N在縱向軌道上移動到與第一橫向軌道成一直線的位置時，基板被驅動在橫向軌道上右移，進入真空鍍室進行第一次鍍；第一至第N在料庫內移開后，第二軌道及軌道上的第二板料架在縱向軌道上移動到與第一橫向軌道成一直線的位置，第二板料架被驅動在橫向軌道上右移，尾隨第一板料架進入真空鍍室進行第一次鍍；依次類推；第一至第N上基板經真空鍍室后進入第三真空室，由設有的在縱向軌道上平移或變軌的可變換工位的裝置將第一至第N平移到與第二橫向軌道成一直線的位置，基板被驅動在第二橫向軌道上左移再進入真空鍍室進行第二次鍍，依次類推，第二、三…軌道依次第二次鍍；第二次鍍后的依次的第一、二、三…基板又通過縱向軌道上逐個平移到達料庫的各個平行軌道上，第一、二、三…基板攜帶的金屬基板或半成品再次到達第一橫向軌道并進入鍍膜室進行第三次鍍膜，依次類推；直到達到鍍膜的種類和厚度，全部鍍好的成品亦存儲于料庫。

3.根據權利要求1所述的金屬板的鍍膜方法，其特征是鍍膜過熱基板進入料庫后自然冷卻或強制冷卻，在整個鍍膜過程中根據板升溫的情況進行自然冷卻或強制冷卻；料庫設置基板均在平行軌道上放置；對模壓板膜層厚度，采用控制循環鍍膜次數和速度及調節靶功率大小來實現；對模壓板膜層硬度選擇包括鈦合金碳化物合金和硼化物合金靶材來實現；進出料時均要關閉真空鍍膜室與料庫的門。

4.應用權利要求1-3之一方法得到不銹鋼基板鍍鈦與碳化物合金或鈦與硼化物合金作為鍍硬質膜層的模壓板。

5.金屬板的真空鍍膜裝置，其特征是設有第一真空室即料庫、第二真空鍍膜室、第三真空室，第一真空室內設有2-20片的金屬基板作為料庫，料庫及連通的離子鍍室、第三真空室設有可變軌道的金屬基板循環運輸系統；第二真空鍍膜室為離子鍍室；金屬基板在可變軌道上在料庫及連通的離子鍍室、第三真空室多次循環；真空離子鍍室即真空鍍膜室為立式爐室；可變軌道的金屬基板循環運輸系統包括板料架和輸送軌道，輸送軌道包括料庫中若干平行軌道、縱向軌道和橫貫第一真空室即料庫、第二真空鍍膜室、第三真空室的第一、第二橫向移動軌道，若干平行軌道是承載基板的下軌上軌在同一垂直平面的輸送軌道，基板在輸送軌道上運動包括在第一和第二橫向移動軌道的移動和縱向軌道移動裝置，橫向移動軌道的移動時通過自帶動力輪或由軌道上動力裝置驅動，基板在縱向軌道移動時指基板在平行軌道上跨至相鄰的平行位置移動；料庫及連通的離子鍍室、第三真空室之間設有第一、第二兩根橫向移動軌道，兩根橫向移動軌道的端部即離子鍍室和第三真空室均設有縱向軌道移動裝置，平行軌道上每個板料架帶動的金屬基板或半成品在兩根橫向移動軌道及在兩端的縱向軌道上方的平行軌道上移動的單方向循環轉動。