[發(fā)明專利]一種用于圓柱面掩膜電解加工的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710791093.8 | 申請日： | 2017-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN107598315B | 公開（公告）日： | 2019-02-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 明平美;趙晨昊;秦歌;閆亮;鄭興帥;申繼文;楊文娟 | 申請（專利權(quán)）人： | 河南理工大學(xué) |
| 主分類號： | B23H9/00 | 分類號： | B23H9/00;B23H3/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 454003 河南*** | 國省代碼： | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 壓板 緊固套 通孔 掩膜 泡沫金屬片 電解加工 螺栓螺母 不封閉 密封墊 前密封 圓柱面 組合件 凸臺 密封 圓筒狀金屬殼體 沿圓周方向 工件陽極 固定貼合 加工間隙 微坑陣列 依次減小 進(jìn)液口 內(nèi)表面 一次性 傳質(zhì) 正對 垂直 傳遞 加工 | ||
1.一種用于圓柱面掩膜電解加工的裝置，包括工件陽極(1)、掩膜(2)、泡沫金屬片(3)，其特征在于：它還包括緊固套(5) 、前密封墊(4)、后密封墊(8) 、密封塊(6) 和螺栓螺母組合件(7)；所述的緊固套(5)為含有不封閉口(5-1-6)的圓筒狀金屬殼體；所述的緊固套(5)的內(nèi)表面為圓柱面；所述的緊固套(5)的外表面設(shè)有沿圓周方向均勻分布的偶數(shù)個(gè)凸臺(5-2)；所述的不封閉口(5-1-6)設(shè)有垂直于緊固套(5)外表面的壓板Ⅰ(5-1-1)和壓板Ⅱ(5-1-2);所述的壓板Ⅰ(5-1-1)和壓板Ⅱ(5-1-2)正對安設(shè)，兩者形成間隙(5-1-5)；所述的間隙(5-1-5)在緊固套(5)的內(nèi)表面處最大，并沿緊固套(5)的徑向方向依次減小；所述的壓板Ⅰ(5-1-1)和壓板Ⅱ(5-1-2)分別設(shè)有通孔Ⅰ(5-1-3)和通孔Ⅱ(5-1-4)；所述的通孔Ⅰ(5-1-3)和通孔Ⅱ(5-1-4)均安設(shè)有螺栓螺母組合件(7)；所述的凸臺(5-2)設(shè)有進(jìn)液口(5-3) ；所述的密封塊(6)置于壓板Ⅰ(5-1-1)和壓板Ⅱ(5-1-2)之間；所述的前密封墊(4)和后密封墊(8)均安設(shè)于泡沫金屬片(3)和緊固套(5)之間的間隙內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于圓柱面掩膜電解加工的裝置，其特征在于：所述的掩膜(2)貼附在工件陽極(1)的表面；所述的泡沫金屬片(3)貼附在掩膜(2)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于圓柱面掩膜電解加工的裝置，其特征在于：所述的泡沫金屬片(3) 厚度為0.5~3mm，孔隙率大于90%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于圓柱面掩膜電解加工的裝置，其特征在于：所述的前密封墊(4)、后密封墊(8) 和密封塊(6)的材質(zhì)均為電絕緣彈性材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于圓柱面掩膜電解加工的裝置，其特征在于：所述的前密封墊(4)和后密封墊(8)的厚度為3~5mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于圓柱面掩膜電解加工的裝置，其特征在于：所述的密封塊(6)的厚度為5~7mm。
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