[發明專利]具有抑制零級衍射的激光投影裝置

有效

• 申請號: 201710789630.5
• 申請日: 2017-09-01
• 公開（公告）號: CN107490930B
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: 鄧想全
• 申請（專利權）人: 深圳奧比中光科技有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

1.一種激光投影裝置，其特征在于，包括

基底，用于固定光源，所述光源用于發射光束；

衍射光學元件，用于接收及擴束所述光束，并向目標空間投射圖案化光束；

零級衍射抑制單元，包括起偏器和檢偏器,位于所述衍射光學元件射出光束的一側，所述起偏器和所述檢偏器為透振方向互不平行的線偏振片，用于衰減所述圖案化光束中的零級衍射光束；

其中，所述起偏器與所述檢偏器的透振方向所成的夾角使得所述零級衍射光束經所述起偏器與所述檢偏器后衰減，且衰減后的零級衍射光束的能量強度與高階衍射光束的能量強度相當并且將零級衍射光束與高階衍射光束共同投影于目標平面的區域而形成具有完整性、均勻性的二維形狀圖案或二維斑點圖案，從而避免因所述零級衍射光束被遮蔽、吸收而導致所述目標平面出現圖案的消光區域。

2.如權利要求1所述的激光投影裝置，其特征在于，還包括準直單元，位于所述光源與所述衍射光學元件之間，用于準直或聚焦所述光源發射的光束。

3.如權利要求1或2所述的激光投影裝置，其特征在于，所述起偏器和所述檢偏器的橫截面積不小于所述零級衍射光束的光斑面積。

4.如權利要求1所述的激光投影裝置，其特征在于，所述零級衍射抑制單元還包括非光學作用的透明部分，所述起偏器與所述檢偏器安裝在所述透明部分內，經過所述零級衍射抑制單元的高階衍射光束能從所述透明部分透射出來。

5.如權利要求1所述的激光投影裝置，其特征在于，所述起偏器和所述檢偏器的透振方向的夾角為60-90度。

6.如權利要求1所述的激光投影裝置，其特征在于，所述光源包括邊發射激光器及其陣列或垂直腔面發射激光器及其陣列。

7.如權利要求1所述的激光投影裝置，其特征在于，所述零級衍射抑制單元固定在所述衍射光學元件射出光束的側壁上。

8.如權利要求1所述的激光投影裝置，其特征在于，所述圖案化光束由均勻分布但不相關的隨機光斑構成。

9.一種用于制造激光投影裝置的方法，其特征在于，所述方法包括提供基底與光源，將所述光源固定在基底上；提供準直單元與衍射光學元件，將所述準直單元固定在所述光源與衍射光學元件之間，用于準直或聚焦所述光源發射的光束，并向所述衍射光學元件投射平行光束；所述衍射光學元件，用于接受及擴束所述平行光束，并向目標空間投射圖案化光束；提供零級衍射抑制單元，所述零級衍射抑制單元包括起偏器和檢偏器，所述零級衍射抑制單元設置在所述衍射光學元件射出光束的一側，所述起偏器和所述檢偏器為透振方向互不平行的線偏振片，用于衰減所述圖案化光束中的零級衍射光束；其中，所述起偏器與所述檢偏器的透振方向所成的夾角使得所述零級衍射光束經所述起偏器與所述檢偏器衰減，且衰減后的零級衍射光束的能量強度與高階衍射光束的能量強度相當并且將零級衍射光束與高階衍射光束共同投影于目標平面的區域而形成具有完整性、均勻性的二維形狀圖案或二維斑點圖案，從而避免因所述零級衍射光束被遮蔽、吸收而導致所述目標平面出現圖案的消光區域。