[發明專利]照明光學系統、曝光裝置以及物品制造方法

有效

• 申請號: 201710788152.6
• 申請日: 2017-09-05
• 公開（公告）號: CN107807494B
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 大阪昇
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 孫蕾

1.一種照明光學系統，對被照明面進行照明，所述照明光學系統的特征在于，具有：

遮光板，形成由第1圓弧和第2圓弧規定的開口部，該開口部規定所述被照明面中的照明區域的形狀；

調整部，進行所述遮光板的調整，以變更所述遮光板中的所述第1圓弧的曲率或所述第2圓弧的曲率，使所述第1圓弧的曲率與所述第2圓弧的曲率不同，從而變更所述被照明面中的所述照明區域；以及

波長選擇部，選擇對所述被照明面進行照明的光的波長，

所述調整部根據由所述波長選擇部選擇出的波長的光，以降低起因于所述照明光學系統中包括的透鏡中產生的色差的照度不均的方式，變更所述照明區域。

2.根據權利要求1所述的照明光學系統，其特征在于，

所述照明光學系統一邊使掩模在第1方向移動，一邊對所述掩模的被照明面進行照明，

所述調整部根據由所述波長選擇部選擇的波長，使用所述遮光板來變更所述照明區域中的所述第1方向的前或者后的邊界的位置。

3.根據權利要求2所述的照明光學系統，其特征在于，

所述遮光板具有：第1遮光板，用于對所述照明區域中的所述第1方向的上游側以及下游側的邊界的位置進行變更；以及第2遮光板，用于對所述照明區域中的所述第1方向的上游側或者下游側的邊界的形狀進行變更，

所述調整部根據由所述波長選擇部選擇的波長，使用所述第1遮光板來變更所述照明區域中的所述第1方向的上游側和下游側的邊界的位置。

4.根據權利要求3所述的照明光學系統，其特征在于，

所述調整部包括：第1調整部，調整所述第1遮光板在所述第1方向上的位置；第2調整部，調整所述第2遮光板的形狀。

5.根據權利要求1所述的照明光學系統，其特征在于，

還具有積分器選擇部，該積分器選擇部將從用于對所述被照明面進行照明的射出角互不相同的多個光學積分器之中選擇出的光學積分器配置于光路，

所述調整部根據配置于所述光路的光學積分器，使用所述遮光板來變更所述照明區域。

6.根據權利要求1所述的照明光學系統，其特征在于，

還具有開口光闌選擇部，該開口光闌選擇部將從開口的形狀互不相同的多個開口光闌之中選擇出的開口光闌配置于光路，

根據配置于所述光路的開口光闌，使用所述遮光板來變更所述照明區域。

7.根據權利要求1所述的照明光學系統，其特征在于，

所述波長選擇部具有使互不相同的波長的光透射的多個波長濾波器，將從所述多個波長濾波器之中選擇出的波長濾波器配置于光路。

8.根據權利要求1所述的照明光學系統，其特征在于，

所述波長選擇部具有多個光源部，該多個光源部射出互不相同的波長的光。

9.一種曝光裝置，其特征在于具有：

對掩模進行照明的權利要求1至8中的任意一項所述的照明光學系統；以及

投影光學系統，將所述掩模的圖案的像投影到基板。

10.根據權利要求9所述的曝光裝置，其特征在于，

還具有測量部，該測量部對所述基板上的曝光區域中的照度分布的不均進行測量，

所述調整部根據由所述測量部測量出的所述照度分布的不均，使用所述遮光板來變更所述照明區域。

11.一種物品制造方法，其特征在于包括：

使用權利要求10所述的曝光裝置來對基板進行曝光的工序；以及

對在所述工序中被曝光的所述基板進行顯影的工序，

利用被顯影的所述基板制造物品。