[發(fā)明專(zhuān)利]顯影裝置及其顯影方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710780192.6
• 申請(qǐng)日: 2017-09-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107479339B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳克芳;周偉;徐加榮;李允偉;王朝磙;王震宇;陳遠(yuǎn)丹
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/30
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/30
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 姜春咸;陳源

1.一種顯影裝置，包括顯影機(jī)構(gòu)，所述顯影機(jī)構(gòu)用于對(duì)基板進(jìn)行顯影，其特征在于，所述顯影裝置還包括加熱機(jī)構(gòu)，所述加熱機(jī)構(gòu)包括多個(gè)加熱單元，每個(gè)加熱單元對(duì)應(yīng)所述基板上的至少一個(gè)顯影區(qū)域，不同加熱單元所對(duì)應(yīng)的顯影區(qū)域不同，且多個(gè)所述加熱單元能夠分別獨(dú)立控制；

所述顯影裝置還包括：

控制機(jī)構(gòu)，用于根據(jù)所述基板上的異常區(qū)域的位置，開(kāi)啟能夠加熱該異常區(qū)域的加熱單元；所述異常區(qū)域?yàn)槲醇訜崆闆r下，顯影后保留的圖形尺寸大于目標(biāo)尺寸的區(qū)域；

所述控制機(jī)構(gòu)包括：

加熱時(shí)間獲取模塊，用于根據(jù)預(yù)設(shè)的映射關(guān)系獲取目標(biāo)加熱時(shí)間，所述映射關(guān)系為基板上多個(gè)顯影區(qū)域顯影后保留的圖形尺寸的離散度與該基板上異常區(qū)域的加熱時(shí)間之間的映射關(guān)系，所述目標(biāo)加熱時(shí)間為最小離散度對(duì)應(yīng)的加熱時(shí)間；

加熱時(shí)間控制模塊，用于根據(jù)所述目標(biāo)加熱時(shí)間控制加熱單元對(duì)所述異常區(qū)域進(jìn)行加熱的時(shí)間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述顯影機(jī)構(gòu)包括傳輸組件和顯影液輸出組件，所述傳輸組件用于傳輸所述基板；所述顯影液輸出組件包括顯影液輸出口，該顯影液輸出口設(shè)置在所述傳輸組件上方，以向所述傳輸組件上的基板噴灑顯影液；

所述加熱機(jī)構(gòu)位于所述傳輸組件上方，且位于所述顯影液輸出口的沿基板傳輸方向的一側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯影裝置，其特征在于，多個(gè)所述加熱單元沿與基板傳輸方向相交叉的方向排列，每個(gè)加熱單元包括沿所述基板傳輸方向排列的多個(gè)加熱件；

所述加熱時(shí)間控制模塊包括：

計(jì)算單元，用于根據(jù)所述目標(biāo)加熱時(shí)間、所述基板的傳輸速度和每個(gè)加熱件在所述基板上的加熱寬度，計(jì)算用于加熱所述異常區(qū)域的加熱件的目標(biāo)數(shù)量；其中，所述加熱寬度為所述加熱件在基板上的加熱區(qū)域沿所述基板傳輸方向的尺寸；

目標(biāo)確定單元，用于在所述異常區(qū)域能夠經(jīng)過(guò)的加熱單元中，選擇所述目標(biāo)數(shù)量的加熱件作為目標(biāo)加熱件。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯影裝置，其特征在于，所述計(jì)算單元還能夠根據(jù)基板的傳輸速度、所述基板處于初始位置時(shí)所述異常區(qū)域到每個(gè)目標(biāo)加熱件的距離，計(jì)算每個(gè)目標(biāo)加熱件的開(kāi)啟時(shí)間；并根據(jù)所述異常區(qū)域沿所述基板傳輸方向的尺寸計(jì)算每個(gè)目標(biāo)加熱件的關(guān)閉時(shí)間；

所述加熱時(shí)間控制模塊還包括開(kāi)關(guān)控制單元，該開(kāi)關(guān)控制單元用于根據(jù)每個(gè)目標(biāo)加熱件的開(kāi)啟時(shí)間控制相應(yīng)的目標(biāo)加熱件開(kāi)啟；并根據(jù)每個(gè)目標(biāo)加熱件關(guān)閉時(shí)間控制相應(yīng)的目標(biāo)加熱件關(guān)閉。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯影裝置，其特征在于，所述初始位置位于所述顯影液輸出口的逆向于基板傳輸方向的一側(cè)，

所述顯影裝置還包括位置檢測(cè)器件，所述位置檢測(cè)器件用于檢測(cè)所述基板是否到達(dá)所述初始位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的顯影裝置，其特征在于，所述顯影裝置還包括：

參數(shù)設(shè)置模塊，用于預(yù)先設(shè)置多個(gè)樣本加熱時(shí)間，每個(gè)樣本加熱時(shí)間對(duì)應(yīng)一個(gè)樣本基板；

尺寸獲取模塊，用于獲取每個(gè)樣本基板上多個(gè)顯影區(qū)域顯影后保留的圖形尺寸；其中，每個(gè)樣本基板顯影過(guò)程中，樣本基板上的異常區(qū)域均被加熱，且加熱時(shí)間為相應(yīng)的樣本加熱時(shí)間；

關(guān)系獲取模塊，用于根據(jù)所述尺寸獲取模塊獲得的圖形尺寸，計(jì)算每個(gè)樣本基板上多個(gè)顯影區(qū)域顯影后保留的圖形尺寸的離散度，以獲取所述映射關(guān)系。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的顯影裝置，其特征在于，所述加熱件為紅外輻射燈。

8.一種利用權(quán)利要求1所述的顯影裝置的顯影方法，其特征在于，包括：

利用所述顯影機(jī)構(gòu)向基板上噴灑顯影液；

利用所述加熱機(jī)構(gòu)對(duì)所述基板上的異常區(qū)域進(jìn)行加熱，以使所述基板的各顯影區(qū)域的顯影速度相同；其中，所述異常區(qū)域?yàn)槲醇訜崆闆r下，顯影后保留的圖形尺寸大于目標(biāo)尺寸的區(qū)域。