[發(fā)明專利]一種全息防藍(lán)光薄膜及其制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710779303.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107329200A | 公開(公告)日: | 2017-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃裕樂;徐志樂;梁亦森;鄭麥杰;曹輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佛山科學(xué)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G02B5/26 | 分類號(hào): | G02B5/26 |
| 代理公司: | 廣州新諾專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司44100 | 代理人: | 許英偉 |
| 地址: | 528000 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 全息 防藍(lán)光 薄膜 及其 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光學(xué)護(hù)眼薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種全息防藍(lán)光薄膜及其制作方法。
背景技術(shù)
隨著科技的高速發(fā)展,電子產(chǎn)品已成為人們生活中必不可缺的一部分,“低頭族”、“手機(jī)依賴癥”等現(xiàn)象越來越多,人們對(duì)電子產(chǎn)品的依賴性也越來越高;長(zhǎng)期面對(duì)電子屏幕容易眼睛疲勞,電子屏幕散發(fā)出的藍(lán)光更是容易誘發(fā)致盲眼病。
短波藍(lán)光是波長(zhǎng)處于400nm-455nm之間具有相對(duì)較高能量的光線,該波長(zhǎng)內(nèi)的藍(lán)光,尤其是波長(zhǎng)處于442nm-445nm之間的藍(lán)光,會(huì)使眼睛內(nèi)的黃斑區(qū)毒素量增高,嚴(yán)重威脅我們的眼底健康,會(huì)傷害人的視網(wǎng)膜;而波長(zhǎng)465~495nm的藍(lán)光為有益藍(lán)光,是可見光不可缺的組成部分,可以幫助瞳孔收縮,幫助眼睛正常顯示物體的顏色。
在國(guó)內(nèi)外,普遍采用化學(xué)工藝流程的形式制作防藍(lán)光鏡片、防藍(lán)光眼鏡膜層、藍(lán)光吸收劑等,這種采用化學(xué)工藝流程形式制作而成的防藍(lán)光器材,在對(duì)有害波段的藍(lán)光進(jìn)行衍射的同時(shí),容易反射有益波段的藍(lán)光,導(dǎo)致物體顏色失真,而且在長(zhǎng)期使用的過程中,化學(xué)制作材料在一定程度上會(huì)對(duì)眼睛造成二次傷害,且制作工藝技術(shù)操作復(fù)雜、制作成本高。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明的目的在于提供一種制作簡(jiǎn)單、制作成本低,且能有效對(duì)有害短波藍(lán)光進(jìn)行反射的同時(shí)避免有益波長(zhǎng)藍(lán)光的反射而造成物體顏色失真,以幫助健康用眼的一種全息防藍(lán)光薄膜及其制作方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明按以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):
本發(fā)明所述的一種全息防藍(lán)光薄膜的制作方法,包括以下步驟:
S10、選取光響應(yīng)記錄介質(zhì)及記錄光源,制作體積全息圖;
S20、根據(jù)布拉格條件及體積全息圖再現(xiàn)特性計(jì)算布拉格反射角;
S30、根據(jù)S20所得布拉格反射角制作反射全息防藍(lán)光薄膜。
作為優(yōu)選,步驟S10中所述光響應(yīng)記錄介質(zhì)為重鉻酸鹽明膠,所述記錄光源為氦-鎘激光器。
作為優(yōu)選,步驟S20中還包括以下步驟:
S201、根據(jù)光響應(yīng)介質(zhì)、體積全息圖衍射效率計(jì)算式及布拉格條件:η=sin(yr)計(jì)算體積全息圖參數(shù);
S202、根據(jù)光響應(yīng)介質(zhì),計(jì)算布拉格角度在衍射效率為0時(shí)的偏量;
S203、根據(jù)折射定律及光響應(yīng)介質(zhì)的折射率,計(jì)算體積全息圖的干涉條紋間距及峰值反應(yīng)波長(zhǎng);
S204、采用室溫曝光,取室溫下光響應(yīng)介質(zhì)系數(shù);
S205、從有害藍(lán)光波段中取值,根據(jù)峰值反應(yīng)波長(zhǎng)計(jì)算式、干涉條紋間距計(jì)算式及布拉格角度偏量計(jì)算式計(jì)算全息防藍(lán)光薄膜厚度及布拉格反射角。
作為優(yōu)選,步驟S201中所述衍射效率計(jì)算式為:其中η為衍射效率,xi、yr為體積全息圖衍射效率公式中的參量,其中i、r分別表示虛部與實(shí)部。
作為優(yōu)選,步驟S202中計(jì)算所述布拉格角度偏量所用計(jì)算式為:δΨ=(xiλ0/2πn0sinΨxR)·δ,其中λ0為記錄光源的波長(zhǎng);δΨ為理論布拉格角度與實(shí)際布拉格角度的差值;n0為記錄介質(zhì)的折射率;δ為全息圖的厚度;xi為體積全息圖衍射效率公式中的參量;ΨxR為布拉格角度。
作為優(yōu)選,步驟S203中所述折射定律為:其中θxO為參考光的入射角;θxR為物光的入射角;ΨXO為參考光在記錄介質(zhì)中的角度;ΨxR為物光在記錄介質(zhì)中的角度;nD為記錄介質(zhì)的折射率。
作為優(yōu)選,步驟S205中所述干涉條紋間距計(jì)算式為:峰值反應(yīng)波長(zhǎng)計(jì)算式為:其中Λ為干涉條紋之間的間隔;λD為峰值反射波長(zhǎng);k為光響應(yīng)介質(zhì)在實(shí)驗(yàn)處理中的系數(shù)。
通過上述方法計(jì)算出布拉格反射角,并根據(jù)該反射角制作出對(duì)短波長(zhǎng)有害藍(lán)光具有高反射能力的全息防藍(lán)光薄膜。
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