[發明專利]NMP水溶液的純化系統及純化方法在審
| 申請號: | 201710778125.0 | 申請日: | 2017-09-01 |
| 公開(公告)號: | CN108863887A | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發明(設計)人: | 寺師亮輔;山田響介;日比聰 | 申請(專利權)人: | 奧加諾株式會社 |
| 主分類號: | C07D207/267 | 分類號: | C07D207/267 |
| 代理公司: | 北京白洲磐華知識產權代理事務所(普通合伙) 11607 | 代理人: | 徐謙 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 純化系統 滲透汽化膜 濃縮液 惰性氣體供給 惰性氣體填充 過氧化物 吡咯烷酮 氣相部 水除去 儲存 上游 | ||
本發明提供了N?甲基?2?吡咯烷酮水溶液的純化系統及純化方法。本發明的課題是在NMP水溶液的純化系統(1)中抑制NMP的過氧化物的生成。NMP水溶液的純化系統(1)具有從NMP水溶液中將水除去而生成NMP濃縮液的滲透汽化膜裝置(201)、設置在滲透汽化膜裝置(201)的上游或下游并儲存有NMP水溶液或NMP濃縮液的容器(101)、(103)、(106)、(301)、和將容器(101)、(103)、(106)、(301)的氣相部用惰性氣體填充的惰性氣體供給機構(L401)、(L402)、(L403)、(L404)、(L405)、(U402)、(U403)、(U404)、(U405)。
技術領域
本發明涉及NMP水溶液的純化系統及純化方法
背景技術
以往,已知一種從N-甲基-2-吡咯烷酮(以下稱為NMP)與水的混合液(以下稱為NMP水溶液)中將NMP通過滲透汽化法(PV法)分離的方法。PV法與將NMP水溶液減壓并蒸餾的方法(減壓蒸餾法)相比,在節省能源的性能上更優越。在PV法中,使用具備和水有親和性的分離膜(滲透汽化膜)的滲透汽化膜裝置。通過在滲透汽化膜的入口側供給NMP水溶液并對透過側進行減壓,從而能夠得到使NMP水溶液從入口側向透過側移動的驅動力。此時,通過NMP與水的透過速度差,主要是水向透過側移動,從而進行NMP與水的分離(專利文獻1~3)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利公開2013-018747號公報
專利文獻2:日本專利公開2015-071139號公報
專利文獻3:日本專利公開2016-030232號公報
具備上述滲透汽化膜裝置的NMP水溶液的純化系統通常具備用于從供給至滲透汽化膜裝置的NMP水溶液中預先將微粒子和離子成分除去的子系統。NMP水溶液的純化系統有時在滲透汽化膜裝置的后段還具備用于將從滲透汽化膜裝置洗脫的離子成分、微粒子和色度成分除去的子系統。在這些子系統中,使用將處理前的NMP水溶液和濃縮后的NMP濃縮液暫時儲存的各種各樣的容器。在容器的下部儲存有NMP水溶液或NMP濃縮液,容器的上部由于吸收NMP水溶液或NMP濃縮液的儲存量的變動,因此變為由空氣構成的氣相部。
本申請的發明人在上述這樣的上部變為氣相部的容器中,發現了由于NMP水溶液或NMP濃縮液氧化而生成NMP的過氧化物。若NMP的過氧化物生成,則NMP的純度下降。此外,若NMP的過氧化物積聚,有可能導致爆炸。
發明內容
本發明的目的是提供一種NMP水溶液的純化系統,在內部儲存有NMP水溶液或NMP濃縮液,且形成有NMP水溶液或NMP濃縮液與氣相部的界面的容器中,能夠抑制NMP的過氧化物的生成。
本發明的包括NMP和水的NMP水溶液的純化系統具有從NMP水溶液中將水除去而生成NMP濃縮液的滲透汽化膜裝置、設置在滲透汽化膜裝置的上游或下游且儲存有NMP水溶液或NMP濃縮液的容器、和將容器的氣相部用惰性氣體充填的惰性氣體供給機構。
根據本發明,由于通過惰性氣體供給機構,容器的氣相部由惰性氣體形成,因此能夠抑制NMP的過氧化物的生成。
附圖說明
圖1是根據本發明的一個實施方式的NMP水溶液的純化系統的概略結構圖。
具體實施方式
以下,參照附圖,對根據本發明的一個實施方式的NMP水溶液的純化系統和純化方法進行說明。圖1表示根據本發明的一個實施方式的NMP水溶液的純化系統1的概略結構圖。在圖中,CW表示冷卻水,BR表示鹽水,ST表示高溫蒸汽。
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