[發明專利]一種橡皮布正反面加熱浸漬清洗裝置有效
| 申請號: | 201710777192.0 | 申請日: | 2017-09-01 |
| 公開(公告)號: | CN107415466B | 公開(公告)日: | 2019-07-16 |
| 發明(設計)人: | 周鋼 | 申請(專利權)人: | 海南世能科技有限公司 |
| 主分類號: | B41F35/06 | 分類號: | B41F35/06 |
| 代理公司: | 北京華識知識產權代理有限公司 11530 | 代理人: | 廖彬佳 |
| 地址: | 578101 海南省儋州市*** | 國省代碼: | 海南;46 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 橡皮布 浸漬 刷毛 導向滾筒 滾筒 正反面加熱 浸漬處理 牽引滾筒 清洗裝置 頂蓋 浸漬池 污垢 底蓋 快速去除 輸送滾筒 正反兩面 中部位置 內頂部 上表面 刷洗腔 外側部 下表面 | ||
本發明公開了一種橡皮布正反面加熱浸漬清洗裝置,包括機架,機架的上部與下部均設有導向滾筒,機架的中部位置設有一對牽引滾筒,牽引滾筒與導向滾筒對接;機架的內底部設有浸漬池,浸漬池的內底部設有浸漬滾筒,浸漬滾筒與導向滾筒對接;機架的外側部位置設有刷洗殼,刷洗殼的內頂部位置設有頂蓋,頂蓋的下表面設有第一刷毛,刷洗殼的內底部設有底蓋,底蓋的上表面設有第二刷毛,第二刷毛與第一刷毛之間形成刷洗腔。本發明通過浸漬滾筒可以使輸送過來的橡皮布進行浸漬處理,對橡皮布表面的污垢進行浸漬處理;通過輸送滾筒對橡皮布進行輸送;可以方便對橡皮布的正反兩面進行快速去除污垢。
技術領域
本發明涉及一種清洗裝置,具體涉及一種橡皮布正反面加熱浸漬清洗裝置。
背景技術
橡皮布即膠印機上轉印滾筒的包復物;包襯的組成部分;橡皮布由橡膠涂層和基材構成的復合材料制品,在間接平版印刷中,用其將油墨從印版轉移至承印物上。橡皮布它提供印刷時油墨轉印之用,具有有效之抗壓性能、回復力快、黏性強、不留任何粘貼物的特點,其滑順之表層與織物層,使油墨傳送不論網點或滿版更穩定,橡皮布這一轉移單元,在印刷之過程中,它扮演一個重要的角色,少了橡皮布,印刷就無法完成了。印刷橡皮布是由多層專用纖織品和合成橡膠化合物制成,在制造作業時,纖織品和橡膠用熱能和化學能量在精確控制的工序中結合在一起,此外不同的化合物和結構賦予橡皮布在印刷機上不同的性能。現有的橡皮布不方便進行正反面加熱,且對橡皮布進行浸漬清洗操作效率低。
發明內容
本發明的目的在于提供一種通過金屬滾筒可以對橡皮布的正反兩面進行電加熱處理;向浸漬池倒入清洗液,通過浸漬滾筒可以使輸送過來的橡皮布進行浸漬處理,對橡皮布表面的污垢進行浸漬處理;通過輸送滾筒對橡皮布進行輸送;可以方便對橡皮布的正反兩面進行快速去除污垢的橡皮布正反面加熱浸漬清洗裝置。
為實現上述目的,本發明的技術方案是:
一種橡皮布正反面加熱浸漬清洗裝置,包括機架,機架的上部與下部均設有導向滾筒,導向滾筒通過第一安裝軸安裝在機架上,導向滾筒與第一安裝軸之間設有第一金屬滾筒,第一金屬滾筒的外端位置設有第一溫控器,第一溫控器與第一金屬滾筒為電連接;機架的中部位置設有一對牽引滾筒,牽引滾筒通過第二安裝軸安裝在機架上,牽引滾筒與導向滾筒對接;牽引滾筒與第二安裝軸之間設有第二金屬滾筒;第二金屬滾筒的外端設有第二溫控器,第二溫控器與第二金屬滾筒為電連接;機架的內底部設有浸漬池,浸漬池的內底部設有浸漬滾筒,浸漬滾筒通過第三安裝軸安裝在浸漬池的內底部,浸漬滾筒與導向滾筒對接;機架的外側部位置設有刷洗殼,刷洗殼的內頂部位置設有頂蓋,頂蓋的下表面設有第一刷毛,刷洗殼的內底部設有底蓋,底蓋的上表面設有第二刷毛,第二刷毛與第一刷毛之間形成刷洗腔;機架與刷洗殼之間設有第四安裝軸,第四安裝軸的外周面套裝有輸送滾筒,浸漬滾筒與輸送滾筒對接,輸送滾筒布置在刷洗腔的內側方位置。
進一步地,所述牽引滾筒安裝在移動架上,移動架的一側設有移動軸,移動軸的外周面套裝有導向套管,導向套管的端部通過固定板固定在機架的一內側位置,機架的另一側設有固定座,固定座上設有液壓缸,液壓缸的前部設有活塞桿,活塞桿的端部安裝在移動架的另一側。
進一步地,所述機架上設有支撐架,支撐架的前部設有導向管,活塞桿穿過導向管;固定座的上部設有扣架,導向管的下部安裝在扣架上。
進一步地,所述固定座的底部設有加強座,加強座固定在機架上。
進一步地,所述機架的內底部設有支撐座,支撐座的頂部設有儲液罐,儲液罐的端部設有端蓋,儲液罐的底部與浸漬池的端部之間設有輸液泵。
進一步地,所述頂蓋的外側設有第一旋管,刷洗殼的頂部外側設有第一定位軸,第一定位軸的兩端安裝在刷洗殼的頂部外側上,第一旋管套裝在第一定位軸的外周面上。
進一步地,所述底蓋的外側設有第二旋管,刷洗殼的底部外側設有第二定位軸,第二定位軸的兩端安裝在刷洗殼的底部外側上,第二旋管套裝在第二定位軸的外周面上。
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