[發明專利]一種工件表面PVD鍍膜的方法

有效

• 申請號: 201710776302.1
• 申請日: 2017-08-31
• 公開（公告）號: CN107675136B
• 公開（公告）日: 2019-05-17
• 發明（設計）人: 陳君;樂務時
• 申請（專利權）人: 蘇州涂冠鍍膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/32
• 代理公司: 蘇州謹和知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 葉棟

1.一種工件表面PVD鍍膜的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

A、將經過預清洗處理的待鍍工件放入鍍膜室內，然后，將鍍膜室進行抽真空和加熱處理；

B、加熱完全后，再通入氬氣，對待鍍工件進行離子轟擊處理；

C、通入工作氣體，打開電源，對待鍍工件施加偏壓，開啟靶源開始鍍膜；然后，靶源受電場和磁場的周期變化驅動，在磁控濺射與陰極電弧模式間切換鍍膜，在待鍍工件表面沉積相應材料的鍍層，得到表面鍍層后的工件；其中，所述靶電流的周期變化公式為10+140∣sin(∏t1)|；所述磁場強度的周期變化公式為1000-900∣sin(∏t1)∣；其中，上述t1表示鍍膜時間，所述靶電流的單位為A，且所述磁場強度的單位為Gs。

2.根據權利要求1所述工件表面PVD鍍膜的方法，其特征在于，步驟C中所述靶源的靶電流在10A～150A之間呈連續或階梯周期變化；所述磁場的磁場強度在100Gs～1000Gs之間呈連續或階梯變化。

3.根據權利要求1所述工件表面PVD鍍膜的方法，其特征在于，步驟C中所述靶電流周期變化公式為150-140[t2-(k-1)]，磁場強度為100+900[t2-(k-1)]；其中，t2表示鍍膜時間，k表示周期次數；所述電流和磁場強度的變化周期均為1秒；所述靶電流的單位為A，且所述磁場強度的單位為Gs。

4.根據權利要求2或3所述工件表面PVD鍍膜的方法，其特征在于，當步驟C中所述靶電流＜30A時，采用磁控濺射的模式對待鍍工件進行鍍膜；當所述靶電流≥30A時，采用陰極電弧離子鍍膜的模式對待鍍工件進行鍍膜。

5.根據權利要求2或3所述工件表面PVD鍍膜的方法，其特征在于，步驟C中所述鍍膜時間為2500～3000秒；所述鍍層的厚度為1.5μm～2.0μm。

6.根據權利要求1所述工件表面PVD鍍膜的方法，其特征在于，步驟B中所述離子轟擊處理具體為：

開啟電源，并將磁場強度調節到500Gs和將靶電流的電流值調節到70A，然后，對待鍍膜工件的表面進行離子轟擊處理。

7.根據權利要求1所述待鍍工件表面PVD鍍膜的方法，其特征在于，步驟A中所述待鍍膜工件采用陶瓷材料、鋁合金、合金或合金鋼材加工而成。

8.根據權利要求1所述待鍍工件表面PVD鍍膜的方法，其特征在于，步驟C中所述工作氣體選自氮氣、氬氣或烴類氣體。