[發(fā)明專利]陣列基板、顯示面板和電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710775670.4 | 申請日: | 2017-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN107479237B | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 曾元清 | 申請(專利權(quán))人: | OPPO廣東移動通信有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 顯示 面板 電子設(shè)備 | ||
本申請公開了一種陣列基板、顯示面板和電子設(shè)備,其中陣列基板包括:觸控區(qū)域和多條觸控連接線,所述觸控區(qū)域包括多個第一觸控單元和多個第二觸控單元,所述多個第一觸控單元排布形成多個觸控行和多個觸控列,所述第一觸控單元的面積小于所述第二觸控單元的面積,所述多個第一觸控單元和所述多個第二觸控單元分別連接一條所述觸控連接線;所述第二觸控單元為環(huán)形,任意兩個所述第二觸控單元互不相交,所述第二觸控單元包括多個連接段,所述多個連接段依次連接組成所述第二觸控單元,所述連接段兩側(cè)為所述第一觸控單元。可以減少觸控連接線的個數(shù)。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及電子設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種陣列基板、顯示面板和電子設(shè)備。
背景技術(shù)
自容式觸控方式已經(jīng)被廣泛應用于顯示器件領(lǐng)域,但是在保證觸控分辨率的前提下,對于觸控單元的尺寸寬度是有要求的,現(xiàn)有的內(nèi)嵌自容式觸控面板包括的觸控單元大多采用正方形(Block Pattern)設(shè)計,內(nèi)嵌自容式觸控面板需要采用大量的觸控單元。
而在現(xiàn)有技術(shù)中,每一觸控單元與相應的觸控金屬線之間都通過單獨的觸控通道連接,每個有效觸控金屬線連接一個觸控單元和一個觸控通道,隨著內(nèi)嵌自容式觸控面板尺寸的增加,觸控單元數(shù)量增加,使得觸控金屬線及觸控通道的數(shù)量相應增加,從而增加內(nèi)嵌自容式觸控面板的尺寸和成本。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例提供一種陣列基板、顯示面板和電子設(shè)備,可以減小顯示面板的尺寸。
第一方面,本申請實施例提供一種陣列基板,所述陣列基板包括:觸控區(qū)域和多條觸控連接線,所述觸控區(qū)域包括多個第一觸控單元和多個第二觸控單元,所述多個第一觸控單元排布形成多個觸控行和多個觸控列,所述第一觸控單元的面積小于所述第二觸控單元的面積;
所述第二觸控單元為環(huán)形,任意兩個所述第二觸控單元互不相交,所述第二觸控單元包括多個連接段,所述多個連接段依次連接組成所述第二觸控單元,所述連接段兩側(cè)為所述第一觸控單元。
第二方面,本申請實施例提供了一種顯示面板,所述顯示面板包括彩膜基板、陣列基板和液晶層,所述液晶層位于所述彩膜基板和所述陣列基板之間,所述陣列基板為如上所述的陣列基板。
第三方面,本申請實施例提供了一種電子設(shè)備,所述電子設(shè)備包括殼體及設(shè)置在所述殼體中的顯示面板,所述顯示面板為如上所述的顯示面板。
本申請實施例提供的陣列基板中,觸控區(qū)域包括多個第一觸控單元和多個第二觸控單元,多個第一觸控單元排布形成多個觸控行和多個觸控列,第一觸控單元的面積小于第二觸控單元的面積;第二觸控單元為環(huán)形,任意兩個第二觸控單元互不相交,第二觸控單元包括依次連接的第一邊、第二邊、第三邊和第四邊,第一邊和第三邊位于兩個觸控行之間,第二邊和第四邊位于兩個觸控列之間。第二觸控單元的面積大于第一觸控單元,而且只需一個觸控連接線,可以減少觸控連接線的個數(shù),減小顯示面板的尺寸,減少成本。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請實施例中的技術(shù)方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例,對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本申請實施例提供的電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖1所示電子設(shè)備的分解示意圖。
圖3為本申請實施例提供的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為圖3所示顯示面板在A-A方向的剖面圖。
圖5為本申請實施例提供的陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6為本申請實施例提供的觸控區(qū)域的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖7為本申請實施例提供的觸控區(qū)域的另一結(jié)構(gòu)示意圖。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





