[發(fā)明專利]終端設備外殼的制作方法及終端設備外殼、終端設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710775573.5
• 申請日: 2017-08-31
• 公開（公告）號: CN107458058B
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發(fā)明（設計）人: 張維;余江;林四亮
• 申請（專利權）人: 維沃移動通信有限公司
• 主分類號: B32B27/06
• 分類號: B32B27/06;B32B27/36;H04M1/02
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

1.一種終端設備外殼的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

將基底材料裁剪成預定形狀，形成基底層；

在所述基底層上形成具有終端設備外殼的外表面的第一硬化層，所述第一硬化層包括具有不同表面質(zhì)感的第一表面區(qū)域和第二表面區(qū)域，其中，所述第一表面區(qū)域為光面區(qū)域，所述第二表面區(qū)域為磨砂面區(qū)域；

在所述第一硬化層上形成第二硬化層，所述第二硬化層上具有預設紋路圖案；

在所述第二硬化層上形成反射膜層；

在所述反射膜層上形成保護膜層；

對形成有所述保護膜層的基底層進行成型處理，得到終端設備外殼；

在所述第一硬化層上形成第二硬化層，所述第二硬化層上具有預設紋路圖案，包括：

在所述第一硬化層上形成第二硬化層；

采用具有預設紋路圖案的第三模具在所述第二硬化層的第三表面區(qū)域上轉印形成所述預設紋路圖案，所述第三表面區(qū)域的位置與所述第二表面區(qū)域的位置相對應；

其中，所述第三模具是通過鉆雕工藝方式在鋁合金基材上形成所述預設紋路圖案，并通過鎳沉積方式，在形成預設紋路圖案的鋁合金基材上電鍍鎳涂層形成的；

所述第一硬化層的硬度大于所述第二硬化層的硬度，且所述第一硬化層的硬度為5H；

在所述基底層上形成第一硬化層，所述第一硬化層包括具有不同表面質(zhì)感的第一表面區(qū)域和第二表面區(qū)域，具體包括：

在所述基底層上采用第一涂層材料形成第一硬化層；

采用第一模具在所述第一硬化層上轉印形成所述第一表面區(qū)域，所述第一表面區(qū)域為光面區(qū)域；

采用第二模具在所述第一硬化層上轉印形成所述第二表面區(qū)域，所述第二表面區(qū)域為磨砂面區(qū)域；

所述第一模具和所述第二模具集成為一體。

2.根據(jù)權利要求1所述的終端設備外殼的制作方法，其特征在于，所述預設紋路圖案包括直徑相同且等距設置的多個弧形條紋狀凹槽，每個所述弧形條紋狀凹槽的半徑為50-75mm。

3.根據(jù)權利要求2所述的終端設備外殼的制作方法，其特征在于，

每一所述弧形條紋狀凹槽為橫截面呈V形的V形槽，所述V形槽包括頂點端和與所述頂點端相對的開口端，相鄰兩個所述弧形條紋狀凹槽的開口端之間的距離為D，相鄰兩個所述弧形條紋狀凹槽的頂點端之間的距離為L，每一所述V形槽從所述頂點端至所述開口端的深度為H，所述V形槽的兩斜邊之間的頂角為α，其中，

D＝2-5μm；

H＝12±1μm；

α＝120°-150°。

4.根據(jù)權利要求1所述的終端設備外殼的制作方法，其特征在于，在所述第二硬化層上形成反射膜層，包括：

采用真空電鍍方式在所述第二硬化層上形成金屬膜層，所述金屬膜層為所述反射膜層。

5.根據(jù)權利要求1所述的終端設備外殼的制作方法，其特征在于，在所述反射膜層上形成保護膜層包括：

在所述反射膜層上形成油墨層；

在所述油墨層上形成粘結層；

在所述粘結層上貼覆保護膜。

6.一種終端設備外殼，其特征在于，采用權利要求1-5任一項所述的終端設備外殼的制作方法制作形成，包括依次設置的第一硬化層、第二硬化層、反射膜層，其中，所述第一硬化層包括具有不同表面質(zhì)感的第一表面區(qū)域和第二表面區(qū)域，所述第二硬化層上具有預設紋路圖案。

7.根據(jù)權利要求6所述的終端設備外殼，其特征在于，所述第一表面區(qū)域為光面區(qū)域，所述第二表面區(qū)域為磨砂面區(qū)域。

8.根據(jù)權利要求6所述的終端設備外殼，其特征在于，所述預設紋路圖案包括直徑相同且等距設置的多個弧形條紋狀凹槽，每個所述弧形條紋狀凹槽的半徑為50-75mm。