[發明專利]一種調焦調平裝置及方法有效
| 申請號： | 201710773192.3 | 申請日： | 2017-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN109426101B | 公開（公告）日： | 2020-05-01 |
| 發明（設計）人： | 莊亞政 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備（集團）股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 調焦 平裝 方法 | ||
1.一種調焦調平裝置，包括分設于工件臺上基底兩側的測量光發射部分和測量光接收部分，其特征在于，所述測量光發射部分包括沿光路依次設置的光源、投影狹縫組和投影組件；所述測量光接收部分包括沿光路依次設置的探測組件、探測狹縫組和探測器，所述探測狹縫組上設有多個探測狹縫對，每個所述探測狹縫對與一個投影光斑對應，且包括兩個位置不重合的子探測狹縫；
所述光源發出的光線依次經過所述投影狹縫組和所述投影組件，在所述基底上形成多個投影光斑，同時所述基底將光線反射，并經過所述探測組件成像在所述探測狹縫組上，透過所述探測狹縫組中每個探測狹縫對的光由所述探測器接收，所述探測器根據所接收到的光強大小采集相應的電壓值。
2.根據權利要求1所述的調焦調平裝置，其特征在于，所述測量光發射部分還包括位于所述光源和投影狹縫組之間的照明組件。
3.根據權利要求1所述的調焦調平裝置，其特征在于，所述測量光接收部分還包括設于所述探測狹縫組和探測器之間的中繼組件。
4.根據權利要求1所述的調焦調平裝置，其特征在于，兩個所述子探測狹縫在投影方向的距離D，在非投影方向的距離L，子探測狹縫在投影方向的長度Dd，子探測狹縫在非投影方向的寬度Ld之間滿足以下關系：LLd，0DDd。
5.根據權利要求4所述的調焦調平裝置，其特征在于，所述投影光斑在探測狹縫組上所成的像在投影方向的長度Dp，在非投影方向寬度Lp與探測狹縫對的關系滿足：Dp＝Dd，LpL+Ld。
6.根據權利要求1所述的調焦調平裝置，其特征在于，兩個所述子探測狹縫在投影方向的距離D，在非投影方向的距離L，子探測狹縫在投影方向的長度Dd，子探測狹縫在非投影方向的寬度Ld之間滿足以下關系：LLd，D≥Dd。
7.根據權利要求1所述的調焦調平裝置，其特征在于，兩個所述子探測狹縫在投影方向的距離D，在非投影方向的距離L，子探測狹縫在投影方向的長度Dd，子探測狹縫在非投影方向的寬度Ld之間滿足以下關系：LLd，DDd。
8.根據權利要求6或7所述的調焦調平裝置，其特征在于，所述投影光斑在探測狹縫組上所成的像在投影方向的長度Dp，在非投影方向寬度Lp與探測狹縫對的關系滿足：Dp＝D，LpL+Ld。
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