[發(fā)明專利]全無機柔性上轉(zhuǎn)換發(fā)光器件及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710764836.2 | 申請日： | 2017-08-30 |
| 公開（公告）號： | CN107527983B | 公開（公告）日： | 2020-06-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 孫星浩;汪堯進;鐘茂;楊斌;王鼎 | 申請（專利權(quán)）人： | 南京理工大學 |
| 主分類號： | H01L33/50 | 分類號： | H01L33/50;C23C14/08;C23C14/28;C09K11/67 |
| 代理公司： | 南京理工大學專利中心 32203 | 代理人： | 鄒偉紅;朱顯國 |
| 地址： | 210094 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 無機 柔性 轉(zhuǎn)換 發(fā)光 器件 及其 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.全無機柔性上轉(zhuǎn)換發(fā)光器件，包括柔性超薄云母襯底以及無機上轉(zhuǎn)換發(fā)光薄膜層，其特征在于，所述的無機上轉(zhuǎn)換發(fā)光薄膜層為摻雜了0.75 mol%Er和0.75 mol%Yb的Ba0.85Ca0.15TiO3薄膜，所述的柔性超薄云母襯底采用白云母、金云母或者氟晶云母中任意一種；柔性超薄云母襯底厚度為5微米以下。
2.如權(quán)利要求1所述的全無機柔性上轉(zhuǎn)換發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
（1）按無機上轉(zhuǎn)換發(fā)光薄膜層的化學計量比，制備靶材；
（2）利用物理方法對云母襯底沿解理面剝離進行減薄處理，減薄至5微米以下；
（3）設定沉積溫度為500-800℃，氧壓為0.1-100Pa，激光能量為50-250mJ，采用脈沖激光沉積法進行薄膜的制備。
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