[發明專利]顯示基板、顯示面板、顯示器及其制作方法在審
| 申請號: | 201710764194.6 | 申請日: | 2017-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN108364975A | 公開(公告)日: | 2018-08-03 |
| 發明(設計)人: | 董婷 | 申請(專利權)人: | 廣東聚華印刷顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 鄭彤 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 像素界定層 第一電極 顯示基板 顯示面板 顯示器 發光功能 墨水 發光功能層 發光均勻性 噴墨打印 制備工藝 不連續 漏電流 襯底 釘扎 制作 生產成本 薄膜 堆積 | ||
本發明涉及一種顯示基板、顯示面板、顯示器及其制作方法。該顯示基板包括設在襯底上的第一電極和像素界定層,所述像素界定層設置在相鄰的所述第一電極之間,且第一電極和像素界定層之間具有間隙。由于第一電極和像素界定層之間具有間隙,在采用噴墨打印過程中,可通過第一電極和像素界定層間的距調整實現有效降低發光功能墨水的釘扎點,繼而避免發光功能墨水在像素界定層壁上的堆積,避免像素界定層邊緣的發光功能層薄膜不連續而導致的漏電流,進而能夠有效提高顯示面板或顯示器的發光均勻性。同時,該顯示基板能夠降低像素界定層的制備工藝復雜程度和生產成本。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,特別是涉及一種顯示基板、顯示面板、顯示器及其制作方法。
背景技術
與當前主流的LCD相比,OLED作為新型第三代平板顯示技術,具有主動發光、結構簡單、視角廣、響應速度快、節能、輕薄、可彎曲等特點,已得到廣泛的研究和應用。
目前OLED的商業化應用主要是采用蒸鍍技術,但蒸鍍技術需要比較昂貴的真空設備,材料利用率低,生產成本相對較高,導致在市場價格競爭中處于劣勢。溶液加工技術,特別是噴墨打印技術,具有操作簡單、非接觸、無掩模、設備成本低、材料利用率高等優點而在器件制備上具有強勁的競爭優勢,能極大地推動顯示裝置向著更薄、更輕、更低成本、柔性、大面積的方向發展,加快OLED全面產業化的進程。
通常,如圖1和圖2所示,噴墨打印制作顯示基板10時需要預先在基板的平坦層11上制作電極12和像素界定層(PDL),以限定墨滴14落入電極12對應的子像素區內。目前,像素界定層一般采用下層131親水、上層132疏水的雙層結構。疏水的上表面使墨滴14在像素界定層上不容易鋪展而滾落入像素坑內,并使墨滴14不易溢出;親水的下層132像素界定層能夠保證墨水與其較好的浸潤接觸,保證墨水在像素坑內充分鋪展,能夠抑制漏電流的產生。
但是雙層結構的像素界定層制備工藝復雜,制備成本高,同時親水疏水界面加速了打印墨水的三相線釘扎,加劇了“咖啡環”的形成,使像素內薄膜均勻性下降。另外,目前像素界定層的制作工藝一般只能在頂部表面獲得很薄一層疏液性像素界定層,像素界定層下部則為親液性,這樣在干燥過程中墨水的扎釘點141就比較高,容易使像素界定層的側壁上堆積的墨水功能材料就較多,不僅降低了像素坑內發光薄膜的均勻性,也不利于后續功能墨水的均勻沉積,加劇像素內發光的不均勻性,進而影響器件的性能和壽命。
發明內容
基于此,有必要針對提供一種能夠降低墨水釘扎點并提高發光均勻性的顯示基板、顯示面板、顯示器及其制作方法。
一種顯示基板,包括襯底、第一電極和像素界定層;
所述第一電極和所述像素界定層均設在所述襯底上,所述像素界定層設置在相鄰的所述第一電極之間,且所述第一電極和所述像素界定層之間具有間隙。
在其中一個實施例中,所述顯示基板還包括平坦層;
所述襯底具有與所述第一電極連接的TFT,所述平坦層設在所述襯底上以覆蓋所述TFT,所述第一電極和所述像素界定層均設在所述平坦層上。
在其中一個實施例中,所述第一電極與所述像素界定層之間間隙的間距為1~10μm。
在其中一個實施例中,所述第一電極為金屬氧化物導電層或金屬導電層;
和/或所述第一電極的厚度為30~150nm。
在其中一個實施例中,所述像素界定層為疏水性像素界定層。
一種顯示面板,包括上述所述的顯示基板。
在其中一個實施例中,所述顯示面板還包括發光功能層和第二電極;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





