[發(fā)明專利]一種目標(biāo)駐留狀態(tài)的確定方法、裝置及電子設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710762203.8
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN108307546B
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 余建國;林尚靜
• 申請（專利權(quán)）人: 北京郵電大學(xué)
• 主分類號: H04W76/27
• 分類號: H04W76/27;H04W76/28
• 代理公司: 北京柏杉松知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413
• 代理人: 馬敬;項京

1.一種目標(biāo)駐留狀態(tài)的確定方法，其特征在于，所述方法包括：

針對影響駐留狀態(tài)確定的每一影響因素，根據(jù)預(yù)設(shè)比較標(biāo)度表，確定每一影響因素相對于除當(dāng)前該影響因素以外的其他影響因素的第一重要程度，獲取第一權(quán)重向量，其中，所述每一影響因素包括：功率消耗、信令開銷和時延消耗中的至少兩種；

針對所述每一影響因素，在當(dāng)前該影響因素的度量值最低的情況下，根據(jù)所述預(yù)設(shè)比較標(biāo)度表，確定設(shè)備駐留各個預(yù)設(shè)駐留狀態(tài)相對于除當(dāng)前該影響因素以外的其他駐留狀態(tài)的第二重要程度，獲取第二權(quán)重向量；

將所述第一權(quán)重向量和所述第二權(quán)重向量的積作為第三權(quán)重向量，將所述第三權(quán)重向量中的權(quán)重因子對應(yīng)的駐留狀態(tài)作為目標(biāo)駐留狀態(tài)；

所述針對影響駐留狀態(tài)確定的每一影響因素，根據(jù)預(yù)設(shè)比較標(biāo)度表，確定每一影響因素相對于除當(dāng)前該影響因素以外的其他影響因素的第一重要程度，獲取第一權(quán)重向量，包括：

針對影響駐留狀態(tài)確定的每一影響因素，根據(jù)預(yù)設(shè)比較標(biāo)度表，獲取所述影響因素相對于除當(dāng)前該影響因素以外的其他影響因素的第一重要程度，并根據(jù)所述第一重要程度構(gòu)造第一對比矩陣；

根據(jù)所述第一對比矩陣的階數(shù)、以及所述第一對比矩陣的階數(shù)與第一隨機(jī)一致性因子的對應(yīng)關(guān)系，確定出與所述第一對比矩陣的階數(shù)對應(yīng)的第一隨機(jī)一致性因子；

根據(jù)所述第一對比矩陣的最大特征值、所述第一對比矩陣的階數(shù)，利用公式計算所述第一對比矩陣的一致性因子；

其中，CI_A為第一對比矩陣的一致性因子；λ_A為第一對比矩陣的最大特征值；n為第一對比矩陣的階數(shù)；

根據(jù)所述第一對比矩陣的一致性因子，和所述第一隨機(jī)一致性因子，利用公式計算所述第一對比矩陣的檢驗系數(shù)；

其中，β_A為第一對比矩陣的檢驗系數(shù)；CI_A為第一對比矩陣的一致性因子；RI_A為第一隨機(jī)一致性因子；

在所述第一對比矩陣的檢驗系數(shù)不小于第一預(yù)設(shè)閾值的情況下，重新確定所述影響因素相對于其他影響因素的第一重要程度，根據(jù)重新確定的所述第一重要程度構(gòu)造第二對比矩陣，將所述第一對比矩陣的內(nèi)容替換為所述第二對比矩陣的內(nèi)容，并返回執(zhí)行所述根據(jù)所述第一對比矩陣的最大特征值、所述第一對比矩陣的階數(shù)，計算所述第一對比矩陣的一致性因子的步驟；

在所述第一對比矩陣的檢驗系數(shù)小于第一預(yù)設(shè)閾值的情況下，根據(jù)所述第一對比矩陣的特征向量和所述第一對比矩陣的最大特征值，獲取所述第一對比矩陣的第一權(quán)重向量；

所述針對所述每一影響因素，在當(dāng)前該影響因素的度量值最低的情況下，根據(jù)預(yù)設(shè)比較標(biāo)度表，確定所述設(shè)備駐留各個預(yù)設(shè)駐留狀態(tài)相對于除當(dāng)前該影響因素以外的其他駐留狀態(tài)的第二重要程度，獲取第二權(quán)重向量，包括：

針對所述每一影響因素，在當(dāng)前影響因素的度量值最低的情況下，根據(jù)預(yù)設(shè)比較標(biāo)度表，確定所述設(shè)備駐留各個駐留狀態(tài)相對于除當(dāng)前該駐留狀態(tài)以外的其他駐留狀態(tài)的第二重要程度，并根據(jù)所述第二重要程度構(gòu)造第三對比矩陣；

根據(jù)所述第三對比矩陣的階數(shù)、以及所述第三對比矩陣的階數(shù)與第二隨機(jī)一致性因子的對應(yīng)關(guān)系，確定出與所述第三對比矩陣的階數(shù)對應(yīng)的第二隨機(jī)一致性因子；

根據(jù)所述第三對比矩陣的最大特征值、所述第三對比矩陣的階數(shù)，利用公式計算所述第三對比矩陣的一致性因子；

其中，CI_B為第三對比矩陣的一致性因子；λ_B為第三對比矩陣的最大特征值；m為第三對比矩陣的階數(shù)；

根據(jù)所述第三對比矩陣的一致性因子、和所述第二隨機(jī)一致性因子，利用公式計算所述第三對比矩陣的檢驗系數(shù)；

其中，β_B為第三對比矩陣的檢驗系數(shù)；CI_B為第三對比矩陣的一致性因子；RI_B為第二隨機(jī)一致性因子；

在所述第三對比矩陣的檢驗系數(shù)不小于第二預(yù)設(shè)閾值的情況下，重新確定所述影響因素相對于其他影響因素的第二重要程度，根據(jù)重新確定的所述第二重要程度構(gòu)造第四對比矩陣，將所述第三對比矩陣的內(nèi)容替換為所述第四對比矩陣的內(nèi)容，并返回執(zhí)行所述根據(jù)所述第三對比矩陣的最大特征值、所述第三對比矩陣的階數(shù)，計算所述第三對比矩陣的一致性因子的步驟；

在所述第三對比矩陣的檢驗系數(shù)小于第二預(yù)設(shè)閾值的情況下，根據(jù)所述第三對比矩陣的特征向量和所述第三對比矩陣的最大特征值獲取所述第三對比矩陣的第二權(quán)重向量。