[發明專利]一種目標駐留狀態的確定方法、裝置及電子設備

有效

• 申請號: 201710762203.8
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN108307546B
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發明（設計）人: 余建國;林尚靜
• 申請（專利權）人: 北京郵電大學
• 主分類號: H04W76/27
• 分類號: H04W76/27;H04W76/28
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 馬敬;項京

1.一種目標駐留狀態的確定方法，其特征在于，所述方法包括：

針對影響駐留狀態確定的每一影響因素，根據預設比較標度表，確定每一影響因素相對于除當前該影響因素以外的其他影響因素的第一重要程度，獲取第一權重向量，其中，所述每一影響因素包括：功率消耗、信令開銷和時延消耗中的至少兩種；

針對所述每一影響因素，在當前該影響因素的度量值最低的情況下，根據所述預設比較標度表，確定設備駐留各個預設駐留狀態相對于除當前該影響因素以外的其他駐留狀態的第二重要程度，獲取第二權重向量；

將所述第一權重向量和所述第二權重向量的積作為第三權重向量，將所述第三權重向量中的權重因子對應的駐留狀態作為目標駐留狀態；

所述針對影響駐留狀態確定的每一影響因素，根據預設比較標度表，確定每一影響因素相對于除當前該影響因素以外的其他影響因素的第一重要程度，獲取第一權重向量，包括：

針對影響駐留狀態確定的每一影響因素，根據預設比較標度表，獲取所述影響因素相對于除當前該影響因素以外的其他影響因素的第一重要程度，并根據所述第一重要程度構造第一對比矩陣；

根據所述第一對比矩陣的階數、以及所述第一對比矩陣的階數與第一隨機一致性因子的對應關系，確定出與所述第一對比矩陣的階數對應的第一隨機一致性因子；

根據所述第一對比矩陣的最大特征值、所述第一對比矩陣的階數，利用公式計算所述第一對比矩陣的一致性因子；

其中，CI_A為第一對比矩陣的一致性因子；λ_A為第一對比矩陣的最大特征值；n為第一對比矩陣的階數；

根據所述第一對比矩陣的一致性因子，和所述第一隨機一致性因子，利用公式計算所述第一對比矩陣的檢驗系數；

其中，β_A為第一對比矩陣的檢驗系數；CI_A為第一對比矩陣的一致性因子；RI_A為第一隨機一致性因子；

在所述第一對比矩陣的檢驗系數不小于第一預設閾值的情況下，重新確定所述影響因素相對于其他影響因素的第一重要程度，根據重新確定的所述第一重要程度構造第二對比矩陣，將所述第一對比矩陣的內容替換為所述第二對比矩陣的內容，并返回執行所述根據所述第一對比矩陣的最大特征值、所述第一對比矩陣的階數，計算所述第一對比矩陣的一致性因子的步驟；

在所述第一對比矩陣的檢驗系數小于第一預設閾值的情況下，根據所述第一對比矩陣的特征向量和所述第一對比矩陣的最大特征值，獲取所述第一對比矩陣的第一權重向量；

所述針對所述每一影響因素，在當前該影響因素的度量值最低的情況下，根據預設比較標度表，確定所述設備駐留各個預設駐留狀態相對于除當前該影響因素以外的其他駐留狀態的第二重要程度，獲取第二權重向量，包括：

針對所述每一影響因素，在當前影響因素的度量值最低的情況下，根據預設比較標度表，確定所述設備駐留各個駐留狀態相對于除當前該駐留狀態以外的其他駐留狀態的第二重要程度，并根據所述第二重要程度構造第三對比矩陣；

根據所述第三對比矩陣的階數、以及所述第三對比矩陣的階數與第二隨機一致性因子的對應關系，確定出與所述第三對比矩陣的階數對應的第二隨機一致性因子；

根據所述第三對比矩陣的最大特征值、所述第三對比矩陣的階數，利用公式計算所述第三對比矩陣的一致性因子；

其中，CI_B為第三對比矩陣的一致性因子；λ_B為第三對比矩陣的最大特征值；m為第三對比矩陣的階數；

根據所述第三對比矩陣的一致性因子、和所述第二隨機一致性因子，利用公式計算所述第三對比矩陣的檢驗系數；

其中，β_B為第三對比矩陣的檢驗系數；CI_B為第三對比矩陣的一致性因子；RI_B為第二隨機一致性因子；

在所述第三對比矩陣的檢驗系數不小于第二預設閾值的情況下，重新確定所述影響因素相對于其他影響因素的第二重要程度，根據重新確定的所述第二重要程度構造第四對比矩陣，將所述第三對比矩陣的內容替換為所述第四對比矩陣的內容，并返回執行所述根據所述第三對比矩陣的最大特征值、所述第三對比矩陣的階數，計算所述第三對比矩陣的一致性因子的步驟；

在所述第三對比矩陣的檢驗系數小于第二預設閾值的情況下，根據所述第三對比矩陣的特征向量和所述第三對比矩陣的最大特征值獲取所述第三對比矩陣的第二權重向量。