[發明專利]一種針對反艦導彈末制導雷達的分布式無源協同干擾方法

有效

• 申請號: 201710761851.1
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN107300691B
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 趙路楊;張花國;魏平;彭麗;辛曉晟
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: G01S7/38
• 分類號: G01S7/38
• 代理公司: 成都點睛專利代理事務所(普通合伙) 51232
• 代理人: 孫一峰

1.一種針對反艦導彈末制導雷達的分布式無源協同干擾方法，包括基于分布式平臺的箔條彈無源協同干擾方法和基于分布式平臺編隊隊形的多層次、多階段無源協同干擾方法，其特征在于，

所述基于分布式平臺的箔條彈無源協同干擾方法用于在不能確定末制導雷達開機時間的情況下，實施沖淡干擾效果差，而某個平臺被末制導雷達跟蹤，根據所有平臺的分布情況，采取實施沖淡質心相結合干擾的方式脫離導彈跟蹤，包括步驟：

S11、導彈末制導雷達開機搜索時，確定無源干擾協同平臺與被跟蹤平臺間距：

S111、確定大于實施質心式干擾的最小距離：

假設目標在方位上必須布放在末制導雷達的跟蹤波束之內，即要求橫向距離R_max<R_θ2；

平臺間距要滿足：

其中，θ為末制導雷達的波束寬度，R_θ/2為末制導雷達角度分辨單元的寬度的一半，R_max為箔條云與平臺最大橫向距離，L為兩個平臺的間距；

S112、確定大于實施沖淡式干擾的最小距離：

為了滿足沖淡式干擾的要求，平臺與平臺的間距應保證編隊各平臺的沖淡式干擾互不影響，即協同平臺實施形成的箔條云與被跟蹤平臺的間距r_l滿足：

r_l>R_m (2)

式中：R_m為反艦導彈末制導雷達的搜索區域半徑；

由余弦定理可得：

r_l²＝L²+l_c²-2Ll_ccos(θ_B-θ_j) (3)

代入上式可得：

其中，L為兩個平臺的間距，l_c為實施沖淡式干擾時箔條彈的發射距離，θ_j為箔條彈發射線相對反艦導彈方位線發射夾角，θ_B為導彈方位線與編隊隊列線的夾角；

S113、確定小于箔條彈射程：

兩個平臺發射箔條彈進行無源干擾協同的前提條件滿足：

R_Bmax>L (5)

其中R_Bmax箔條彈最大射程；

S12、編隊平臺無源干擾協同時，確定箔條干擾彈布放位置：

S121、反艦導彈位于平臺正橫來向：

在平臺上方和航路上形成橫向箔條干擾走廊；

S122、反艦導彈位于平臺首尾來向：

在平臺上方和航路上形成縱向箔條干擾走廊；

S13、確定箔條彈的發射方式：

箔條云的雷達反射面積σ應當足以遮蓋平臺的寬度，建立屏蔽的模型為：

σ/A_c＝1-exp(-Nσ₀) (6)

式中：A_c為箔條云對雷達的投影面積；N為箔條云投影面積內單位面積的箔條數量；σ₀為一根箔條在考慮屏蔽效應時的平均有效雷達截面積，σ₀＝0.153λ²；

利用協同平臺發射箔條彈在本平臺與反艦導彈連線的路徑上布設箔條云，箔條云靠近艦船，箔條云投影可以遮蓋整個艦船；

S14、在平臺實施箔條無源干擾后，調整平臺航行方向：

將平臺的運動速度和方向調整與風一致，并將來襲目標置于左右側30°～75°之間；

所述的基于分布式平臺編隊隊形的多層次、多階段無源協同干擾方法用于反艦導彈從平臺編隊的多個方向來襲，根據導彈末制導的狀態，在不同階段實施不同的無源干擾措施，根據所有平臺的分布情況和受威脅程度將平臺劃分為多個層次，不同層次的平臺實施不同的干擾措施，包括以下步驟：

S21、劃分反艦導彈末制導雷達狀態階段及確定相應的干擾方式：

S211、在反艦導彈發射前階段：

在敵平臺雷達對己方平臺進行搜索階段，采用迷惑式干擾，利用平臺遠程干擾設備向平臺周圍一定距離上發射若干箔條假目標；

箔條云的位置應當滿足：

R_c>R_m (7)

式中：R_c為箔條云離保護平臺的距離；R_m為反艦導彈末制導雷達的搜索區域半徑；

S212、末制導雷達開機前階段：

末制導雷達未對己方平臺進行搜索的慣性制導階段采用沖淡式干擾，由平臺向平臺跟蹤單元外發射若干箔條干擾彈，形成多個假目標；

S213、末制導雷達搜索階段：

末制導雷達已開機對己方平臺進行搜索，但是己方平臺未能及時發現導彈，選擇采用沖淡質心結合干擾方式進行對抗；

S214、末制導雷達跟蹤階段：

在前幾個階段干擾實施未取得效果的情況下末制導雷達跟蹤鎖定本平臺，采用質心式干擾，在末制導雷達的跟蹤波門內形成假目標；

S22、劃分平臺編隊隊形層次體系：

S221、反艦導彈“切入攻擊區”和層次的劃分：

以最外層平臺為中心，導彈搜索區域直徑為半徑的區域是本平臺的受威脅區，根據編隊的威脅情況將導彈來襲方向劃分“切入攻擊區”，在攻擊區內，平臺按照威脅程度分為接敵平臺和非接敵平臺，其中最外層平臺受威脅程度最大為誘導平臺；處于編隊中心的核心平臺為中心平臺，受保護優先最高；其他滿足可協同距離方位要求平臺為輔助平臺；

S222、誘導平臺采取無源干擾方式：

誘導平臺主要干擾方式是在末制導雷達搜索階段采取中程沖淡質心結合干擾，以及在末制導雷達跟蹤階段質心干擾；

S23、中心平臺和輔助采取無源干擾方式：

中心平臺，主要在末制導雷達搜索階段協助誘導平臺或本平臺實施沖淡質心結合干擾方式，輔助平臺主要根據誘導平臺的偵察告警信息實施沖淡干擾，同時協助誘導平臺和中心平臺實施沖淡質心結合干擾的方式；

在誘導平臺處于末制導雷達搜索階段時，輔助平臺和中心平臺獲取誘導平臺的偵察告警信息，即輔助平臺和中心平臺是在末制導雷達搜索前發現導彈，末制導雷達開機前階段，在區域內實施沖淡式干擾，沖淡式干擾主要是針對誘導平臺干擾實施成功后，反艦導彈穿過箔條走廊重新進入搜索狀態的情況。