[發(fā)明專利]水膜發(fā)生裝置及顯影機、清洗機在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710761357.5 | 申請日: | 2017-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN107340616A | 公開(公告)日: | 2017-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馬海買提 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司44304 | 代理人: | 孫偉峰,顧楠楠 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)生 裝置 顯影 清洗 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種顯示面板技術(shù),特別是一種水膜發(fā)生裝置及顯影機、清洗機。
背景技術(shù)
液晶面板行業(yè)發(fā)展越來越迅速,尤其在中小尺寸面板產(chǎn)業(yè)(如LCD(液晶顯示器)/LTPS(低溫多晶硅技術(shù))),由于行業(yè)競爭愈加激烈,新技術(shù)、新工藝、新設(shè)備面臨的挑戰(zhàn)和創(chuàng)造顯得尤為關(guān)鍵。
現(xiàn)階段濕法設(shè)備作為工藝制程中重要的環(huán)節(jié),無論是能夠滿足生產(chǎn)中要求的特性值(CD)接近設(shè)計的水準,還是對產(chǎn)品品質(zhì)(異物、Mura(斑馬紋)等)的提升,是每個液晶面板工廠最為重視的。
目前無論是清洗機還是顯影機這類濕法設(shè)備,大體的設(shè)備結(jié)構(gòu)都以定型,而且從成本角度出發(fā),大多數(shù)細小的缺陷不會被作為采購中的一個指標,但是往往一些設(shè)備簡單的設(shè)計可能無法真正應(yīng)用到大的生產(chǎn)線中,制程未涂布前的表面是否有異物,怎樣防止這些異物,或者制程后的濕膜怎樣保證其膜面的完整性和良好的外觀性等問題。
LCD/LTPS中CF(彩色濾光片)工藝,其工藝生產(chǎn)中使用的主要濕法類設(shè)備清洗機和顯影機。其中最廣泛的濕法設(shè)備A/K單元(風刀干燥單元)前為了防止CDA(干凈壓縮氣體)直接對玻璃或制程膜層造成損傷,會加裝水膜發(fā)生裝置,即水膜的噴嘴,使膜層表面覆上一層水膜,水膜的完整性和均一性就顯得尤其重要;而為了加工和組裝的方便,設(shè)備設(shè)計者往往對此機構(gòu)忽略,往往是設(shè)計為孔,靠水的壓力形成水柱,但如果孔堵塞或水壓突變就容易造成水膜被破壞或均一性受到影響;清洗機一般就會因此形成斜紋Mura(斑馬紋)或水殘Mura,顯影機造成斜紋Mura或水殘,殘渣等缺陷。
一般CF工藝(主制程)產(chǎn)線結(jié)構(gòu)如下:基板投入-清洗裝置-涂布裝置-真空干燥-預(yù)烘烤裝置-曝光裝置-顯影裝置-烘烤裝置-基板產(chǎn)出。
洗凈裝置(清洗機)和顯影裝置(顯影機)的A/K單元(風刀干燥單元)的水膜發(fā)生裝置結(jié)構(gòu)為一根長管,在管體的兩端分別接進水管道以及出水管道,管體的管體壁上設(shè)有一排噴孔。
此裝置最重要的作用是對膜層或基板表面形成一層保護性水膜,禁止風刀吹的氣體對膜面或基板表面造成不必要的Mura或影響膜面的瑕疵(如水殘,光阻殘留等)。當基板通過風刀前,其形成的水膜均一性比較差,且出水量受壓力影響較明顯,時而會出現(xiàn)水膜斷掉或不完整的情形,容易對高精細產(chǎn)品的膜面造成不良,從而降低了產(chǎn)品的良率。
發(fā)明內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提供一種水膜發(fā)生裝置及顯影機、清洗機,使得能夠保證水膜的完整性,而且方便清理堵塞。
本發(fā)明提供了一種水膜發(fā)生裝置,包括噴嘴,所述噴嘴包括基座、與基座可拆卸地連接的前蓋,所述基座與前蓋之間密封連接,所述基座的下端面上設(shè)有狹縫狀的噴孔,在基座上設(shè)有進水孔,所述基座與前蓋相對的一側(cè)表面設(shè)有凹槽,凹槽與噴孔以及進水孔連通。
進一步地,所述基座的高度小于前蓋的高度,基座的上端面與前蓋的上端面對齊設(shè)置,所述前蓋的下端延伸至基座的下端面外形成導(dǎo)向部。
進一步地,所述凹槽設(shè)有多個,進水孔以及噴孔均勻每個凹槽連通。
進一步地,所述基座與前蓋相對的一側(cè)表面上設(shè)有第一螺孔,在前蓋上與基座相對的一側(cè)表面上設(shè)有第二螺孔,第二螺孔與第一螺孔的位置相對應(yīng),基座與前蓋通過螺絲與第一螺孔、第二螺孔螺紋連接固定。
進一步地,所述第一螺孔位于凹槽的上方。
進一步地,所述基座與前蓋均為條狀。
進一步地,所述基座和前蓋的下端面均為斜面。
進一步地,所述噴孔沿噴嘴本體的長度方向設(shè)置。
本發(fā)明還提供了一種顯影機,包括所述的水膜發(fā)生裝置。
本發(fā)明還提供了一種清洗機,包括所述的水膜發(fā)生裝置。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,采用基座與可拆卸的前蓋,兩者密封連接并在基座的下端面設(shè)有狹縫狀的噴孔,使得能夠保持水膜完整性,可拆卸的結(jié)構(gòu)實現(xiàn)了在堵塞時容易清理,噴孔為狹縫狀加工成本低。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的噴嘴的外部結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明的第一種基座的外部結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是本發(fā)明噴嘴的剖視圖;
圖4是本發(fā)明的第二種基座的外部結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5是本發(fā)明水膜發(fā)生裝置安裝在清洗機中的位置關(guān)系圖;
圖6是本發(fā)明水膜發(fā)生裝置安裝在顯影機中的位置關(guān)系圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢華星光電技術(shù)有限公司,未經(jīng)武漢華星光電技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710761357.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 離子發(fā)生器件、離子發(fā)生單元和離子發(fā)生裝置
- 離子發(fā)生元件、離子發(fā)生單元及離子發(fā)生裝置
- 過熱蒸汽發(fā)生容器、過熱蒸汽發(fā)生裝置以及發(fā)生方法
- 吸收-發(fā)生-再發(fā)生體系與分段發(fā)生吸收式機組
- 泡沫發(fā)生裝置和泡沫發(fā)生方法
- 離子發(fā)生元件、離子發(fā)生單元及離子發(fā)生裝置
- 臭氧發(fā)生管內(nèi)電極體、臭氧發(fā)生管及臭氧發(fā)生器
- 信號發(fā)生裝置及信號發(fā)生方法
- 微米·納米氣泡發(fā)生方法,發(fā)生噴嘴,與發(fā)生裝置
- 壓力發(fā)生裝置及發(fā)生方法





