[發明專利]清潔刮刀和成像裝置

在審

• 申請號: 201710752953.7
• 申請日: 2017-08-29
• 公開（公告）號: CN107797428A
• 公開（公告）日: 2018-03-13
• 發明（設計）人: 由德大介
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G21/00
• 分類號: G03G21/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 朱巧博

技術領域

本發明涉及一種構造成與清潔目標部件接觸以及清潔所述清潔目標部件的表面的清潔刮刀，并且涉及一種包括該清潔刮刀的成像裝置。

背景技術

構造成與清潔目標部件(例如感光鼓或中間轉印帶)接觸以清潔該清潔目標部件的表面的清潔刮刀廣泛地用于在電子照相成像裝置中使用的清潔單元中。清潔刮刀包括板形(刮刀形)的部件，所述部件構造成在其尖端部分處與清潔目標部件接觸，并且通過在與清潔目標部件接觸的部分處阻擋諸如調色劑的粘著材料而展現其清潔作用。

順便說一下，當使用顆粒直徑小和高度球形的調色劑以便改善圖像質量等時，為了防止調色劑滑動通過清潔刮刀，清潔刮刀的高接觸壓力是優選的。然而，如果接觸壓力增大，則在清潔刮刀和清潔目標部件之間產生大的摩擦力，并且清潔刮刀的尖端部分可能被清潔目標部件拖拽和卷曲。這種卷曲可能產生因清潔刮刀的尖端部分振動所引起的噪聲，并且可能加速清潔刮刀的磨損。

于是，可以設想的是，通過設置使得清潔刮刀的與清潔目標部件接觸的一側的表面(接觸表面)比其內層更堅硬而減少清潔刮刀和清潔目標部件之間的摩擦。未審的日本專利公開No.2015-206990公開了一種通過使用異氰脲酸酯催化劑來使由聚氨酯橡膠制成的清潔刮刀的朝向感光鼓的接觸表面硬化的技術。這種設置通過將接觸表面處的楊氏模量設定成大于預定值而減小了清潔刮刀的表面的摩擦力。還可行的是通過設置使得楊氏模量從清潔刮刀的接觸表面至內側急劇下降而確保接觸表面對感光鼓表面的不規則性的跟隨能力。

然而，當使用如上述文獻中所述的形成為使得硬度(楊氏模量)從接觸表面至內側下降的清潔刮刀時，已經存在這樣的情況，其中清潔刮刀的磨損局部地發生在清潔刮刀的尖端部分處(下文稱為“局部磨損”)。這種局部磨損通常被觀察到沿著清潔目標部件的旋轉方向呈凹槽狀磨損。如果發生這種局部磨損，則例如調色劑的粘著材料會滑動通過由磨損形成的間隙，因而可能引發缺陷圖像。

發明內容

本發明提供了一種清潔刮刀，所述清潔刮刀能夠減少刮刀表面的摩擦并且改善刮刀表面的耐用性。

本發明的一個方面涉及一種清潔刮刀，所述清潔刮刀構造成與清潔目標部件接觸并且清潔該清潔目標部件的表面。清潔刮刀具有構造成與清潔目標部件接觸的接觸表面，并且清潔刮刀被形成為使得：(i)沿著清潔刮刀的厚度方向在接觸表面內側的峰值位置處清潔刮刀的楊氏模量達到峰值，以及(ii)適用關系式Ym>Yc>Yb，其中，Yc是接觸表面處的楊氏模量的值，Ym是峰值位置處的楊氏模量的峰值，Yb是在厚度方向上與峰值位置相比離接觸表面更遠的位置處的楊氏模量的值。

參考附圖，根據下文對示例性實施例的描述，本發明的其它特征將變得顯而易見。

附圖說明

圖1是示出了本發明的成像裝置的結構的示意圖。

圖2是示出了清潔刮刀的布置的示意圖。

圖3A是示意性地示出了其中已經發生局部磨損的清潔刮刀的透視圖。

圖3B是示出了從圖3A所示的一個方向(IIIB)來看圖3A中的清潔刮刀的示意圖。

圖3C是示出了從圖3A所示的另一方向(IIIC)來看圖3A中的清潔刮刀的示意圖。

圖4A是從清潔刮刀的縱向方向來看清潔刮刀的示意圖。

圖4B是表示本發明的清潔刮刀的關于厚度方向的楊氏模量曲線的圖。

圖5A是示出了清潔刮刀的模制過程中的第一步驟的示意圖。

圖5B是示出了清潔刮刀的模制過程中的第二步驟的示意圖。

圖5C是示出了清潔刮刀的模制過程中的第三步驟的示意圖。

圖5D是示出了清潔刮刀的模制過程中的第四步驟的示意圖。

圖5E是示出了清潔刮刀的模制過程中的第五步驟的示意圖。

圖5F是示出了清潔刮刀的模制過程中的第六步驟的示意圖。

圖5G是示出了清潔刮刀的模制過程中的第七步驟的示意圖。

圖6是示出了用于測量楊氏模量的方法的示意圖。

具體實施方式

下文將描述本實施例的成像裝置。在此應當注意到，以下實施例中所述的部件的尺寸、材料、形狀、相對布置等根據本公開所應用的裝置的結構和各種情況而適當地進行改變，并且本公開的范圍不應當僅限于此。