[發明專利]高潔凈度光學薄膜保護方法

在審

• 申請號: 201710752492.3
• 申請日: 2017-08-28
• 公開（公告）號: CN107300729A
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發明（設計）人: 張勇;顧開宇;魏厚偉;張文龍
• 申請（專利權）人: 寧波維真顯示科技股份有限公司
• 主分類號: G02B1/14
• 分類號: G02B1/14;G02B1/10;G02B1/18
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所23109
• 代理人: 岳昕

技術領域

本發明屬于光學薄膜制作領域，涉及光學薄膜運輸、存儲期間的保護技術。

背景技術

高潔凈度光學薄膜因其加工精細，表面潔凈度達納米級別，光學薄膜保護有其特殊的要求，要求保護其光學表面不被擠壓變形、不被長時間保存發生形變等，因此高潔凈度光學薄膜的保護是光學薄膜大批量生產、運輸所需要的。

在現有的光學薄膜保護工藝中，較為常見的方式是將光學薄膜表面覆上一層不同粘度的保護膜(如圖1所示)，然后進行收卷以卷材方式進行保護(如圖2所示)。使用這種保護方式，在短時間保存條件下，光學薄膜的表面潔凈度影響不大，但隨時間增加，由于保護膜與光學薄膜之間接觸不均，導致光學薄膜表面局部受力擠壓，加上光學薄膜表面上存上一些成分擴散，則光學薄膜表面的微結構發生變形或者一些分子聚集，造成光學薄膜表面潔凈度下降，大大影響了光學效果。

另一保護方式是采用平放式保存，通過表面放置無粘度的保護膜(紙)，將光學薄膜進行隔層放置，以平放方式進行保存，放置一定數量后再以隔板隔開，實現片材的保存，參見圖3所示。這種方式批量保存成本高，體積大不易運輸。

以上兩種技術存在的問題主要如下：

1、受力擠壓造成光學薄膜表面微結構發生變形，不利于長時間保存。

2、保護膜與光學薄膜表面有空隙的部分容易發生分子遷移，造成表面污染，影響光學薄膜光學效果。

3、單片保存的方式保存成本高，保寸裝置大，成本高，不易運輸。

發明內容

本發明目的是為了解決現有技術的不足，提供了一種高潔凈度光學薄膜保護方法。

本發明所述高潔凈度光學薄膜保護方法，該方法包括以下步驟：

步驟一、在光學薄膜的光學結構側覆蓋保護膜；

步驟二、在光學結構和保護膜之間的空隙內填充膠水；

步驟三、將填充的膠水固化，使得光學薄膜平坦化；

步驟四、將平坦化光學薄膜以卷材方式進行收卷；

步驟五、使用光學薄膜時，首先裁切卷材，然后將裁切下來的光學薄膜進行脫模操作，所述脫模操作的過程包括：沿保護膜與膠水邊緣撕起，將整面保護膜、連帶固化后的膠水從光學結構上脫離。

優選地，光學薄膜的制作方式為：通過模具轉印方式在PET基材上面成型光學結構來制作光學薄膜。

優選地，步驟二填充的膠水為氟改性膠水或含有機硅膠水。

優選地，步驟三中的膠水固化后與保護膜具有附著性，與光學薄膜的光學結構具有互可脫模特性。

優選地，步驟三中膠水固化采用UV光照射固化方式。

本發明的有益效果：

1、對精細光學薄膜結構進行有效保護，防止壓傷等不良影響；

2、通過無間隙保護，使光學薄膜表面不被污染，保持原有特性；

3、可大批量被存儲與運輸。

附圖說明

圖1是背景技術中提及的第一種光學薄膜保護方式的原理圖；

圖2是背景技術中提及的第一種光學薄膜保護方式的卷材過程原理圖；

圖3是背景技術中提及的第二種光學薄膜保護方式的原理圖；

圖4是本發明所述高潔凈度光學薄膜保護方法的流程圖；

圖5是本發明所述高潔凈度光學薄膜保護方法的原理圖；

圖6是本發明所述高潔凈度光學薄膜保護方法的卷材過程原理圖；

圖7是本發明所述高潔凈度光學薄膜保護方法的撕除保護膜原理圖。

具體實施方式

以下將結合附圖及實施例來詳細說明本發明的實施方式，借此對本發明如何應用技術手段來解決技術問題，并達成技術效果的實現過程能充分理解并據以實施。需要說明的是，只要不構成沖突，本發明中的實施例中的各個特征可以相互結合，所形成的技術方案均在本發明的保護范圍之內。

實施例：

通過模具轉印方式在PET基材上面成型光學結構的光學薄膜。