[發明專利]彩膜基板的制造方法

在審

• 申請號: 201710751189.1
• 申請日: 2017-08-28
• 公開（公告）號: CN107479244A
• 公開（公告）日: 2017-12-15
• 發明（設計）人: 魏雄周;黎敏;熊強;龐家齊;劉超;萬彬;孫紅雨;畢瑞琳
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司11438
• 代理人: 袁禮君,王衛忠

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種彩膜基板的制造方法。

背景技術

彩膜基板作為顯示器件的重要組成部分，其制備需要繁雜的工藝。彩膜基板的制備過程中，主要的工藝集中于對像素的制備，對于傳統的RGB三原色組成的像素，每形成一個顏色的像素都需要一道單獨的掩膜工藝，包括清洗、涂膠、曝光、顯影等工序，三原色組成的像素則需要三道掩膜工藝。目前具有RGBY四色像素的顯示器件也得到了廣泛的發展。RGBY四色像素是在傳統的RGB三原色組成像素的基礎上，再增加一個黃色的子像素形成RGBY四色像素，通過四色技術，無須多耗費電力，就能實現更廣闊的色域。

但是這也意味著又需要增加形成黃色像素的掩膜，工藝復雜度加大。無論是傳統的RGB三原色像素結構還是現在新興的RGBY四色像素結構，都需要盡量減少掩膜的使用，每減少一道掩膜就能減少清洗、涂膠、曝光、顯影等一系列的工序，能很大程度上減少工藝復雜度。

發明內容

鑒于相關技術中的上述問題，本發明的目的在于提供一種彩膜基板的制造方法。

本發明提供一種彩膜基板的制造方法，所述彩膜基板包括襯底基板、黑矩陣層和多個彩色像素單元，所述彩色像素單元包括至少三種顏色的亞像素單元，其中，所述彩膜基板的制造方法包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上形成黑矩陣層和所述多個彩色像素單元，其中形成所述多個彩色像素單元的步驟包括：

在所述襯底基板上沉積不可逆溫變材料；

對所述不可逆溫變材料進行加熱，以形成所述彩色像素單元中的至少兩種顏色的亞像素單元。

可選的，所述不可逆溫變材料包括鉛、鎳、鈷、鐵、鎘、鍶、鋅、猛、鉬、鎂等的硫酸鹽、硝酸鹽、磷酸鹽、硫化物、氧化物以及偶氮顏料、酞菁顏料、芳基甲烷燃料中的任意一種或其組合。

可選的，所述彩色像素單元包括紅色亞像素單元、綠色亞像素單元、藍色亞像素單元和黃色亞像素單元，所述彩膜基板的制作方法包括：

在每個所述彩色像素單元中采用不可逆溫變材料形成至少兩個黃色亞像素單元，加熱所述黃色亞像素單元中的一個得到綠色亞像素單元。

可選的，所述不可逆溫變材料包括PbCrO₄，且對所述不可逆溫變材料PbCrO₄加熱的溫度為800℃以上。

可選的，對所述不可逆溫變材料PbCrO₄加熱的溫度為800℃以上。

可選的，所述黃色亞像素為島狀結構。

可選的，所述黃色亞像素的排列為條狀結構。

可選的，采用定點且獨立控制的加熱方式對需要加熱的亞像素單元進行加熱。

可選的，采用整條加熱的方式對需要加熱的亞像素單元進行加熱。

本發明提供的彩膜基板的制造方法，選擇不可逆溫變材料形成彩色像素單元中部分顏色的亞像素單元，對該部分顏色的亞像素單元進行加熱得到其他顏色的亞像素單元，節約了所用掩膜的次數，減小了工藝復雜度。

附圖說明

圖1為RGB三色像素的彩膜基板的結構示意圖。

圖2為RGBY四色像素的彩膜基板的結構示意圖。

圖3為相關技術中島狀結構的黃色亞像素單元模版的設計版圖。

圖4為相關技術中條狀設計的黃色亞像素單元模版的設計版圖。

圖5為根據本發明彩膜基板的制造方法的流程圖。

圖6為根據本發明實施例一的彩膜基板的制造方法的流程圖。

圖7為根據本發明實施例一的島狀結構的黃色亞像素單元模版的設計版圖。

圖8為示出采用圖7中的版圖進行曝光顯影后的像素排列的示意圖。

圖9示出了對黃色亞像素單元進行加熱的加熱裝置的結構示意圖。

圖10為示出對圖8中的像素進行加熱后的像素排列的示意圖。

圖11為根據本發明實施例二的條狀結構的黃色亞像素單元模版的設計版圖。

圖12為示出采用圖11中的版圖進行曝光顯影后的像素排列的示意圖。

圖13為示出對圖12中的像素進行加熱后的像素排列的示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明作進一步的詳細說明。可以理解的是，此處所描述的具體實施例僅用于解釋本發明，而非對本發明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發明相關的部分而非全部結構。