[發明專利]一種制氫用鋁顆粒及其制備方法在審
| 申請號： | 201710748411.2 | 申請日： | 2017-08-25 |
| 公開（公告）號： | CN107470611A | 公開（公告）日： | 2017-12-15 |
| 發明（設計）人： | 黃岳祥 | 申請（專利權）人： | 杭州氫源科技有限公司 |
| 主分類號： | B22F1/02 | 分類號： | B22F1/02;B22F3/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制氫用鋁 顆粒 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種制氫用鋁顆粒，其特征是：制氫用鋁顆粒為鋁粉末通過壓機制成；制氫用鋁顆粒表面包覆鋁箔。
2.按照權利要求1所述的制氫用鋁顆粒，其特征是：鋁粉末通過壓機制成的制氫用鋁顆粒形狀為球形或方形。
3.按照權利要求1或2所述的制氫用鋁顆粒，其特征是：鋁粉末的比表面積為0.001-0.02m2/g。
4.按照權利要求1或2所述的制氫用鋁顆粒，其特征是：通過真空包覆工藝在鋁顆粒表面包覆鋁箔。
5.按照權利要求1或4所述的制氫用鋁顆粒，其特征是：鋁箔厚度為0.1-0.2mm。
6.一種制氫用鋁顆粒的制備方法，其特征是：制氫用鋁顆粒由鋁粉末通過壓機壓制而成；制氫用鋁顆粒表面通過真空包覆工藝包覆鋁箔。
7.按照權利要求6所述的制氫用鋁顆粒的制備方法，其特征是：制氫用鋁顆粒表面通過真空包覆工藝包覆鋁箔。
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