[發明專利]一種帶冷卻系統的粉末冶金模具在審
| 申請號: | 201710746471.0 | 申請日: | 2017-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN107737925A | 公開(公告)日: | 2018-02-27 |
| 發明(設計)人: | 紀桂林 | 申請(專利權)人: | 南通冠達粉末冶金有限公司 |
| 主分類號: | B22F3/03 | 分類號: | B22F3/03 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 226500 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 冷卻系統 粉末冶金 模具 | ||
技術領域
本發明涉及粉末冶金領域,尤其涉及一種帶冷卻系統的粉末冶金模具。
背景技術
粉末冶金是制取金屬或用金屬粉末(或金屬粉末與非金屬粉末的混合物)作為原料,經過有壓或無壓成形后再通過燒結,制造金屬材料、復合以及各種類型制品的工藝技術。粉末冶金技術具備顯著節能、省材、性能優異、產品精度高且穩定性好等一系列優點,非常適合于大批量生產。目前,粉末冶金技術已被廣泛應用于交通、機械、電子、航空航天、兵器、生物、新能源、信息和核工業等領域,成為新材料科學中最具發展活力的分支之一。隨著國內粉末技術的飛速發展,許多金屬材料均采用粉末成型技術,即通過粉末成型壓機將金屬粉末壓制成餅狀,再通過燒結制得金屬制品。
現有的粉末冶金中很多模具沒有冷卻系統,金屬粉末在成型時候會散發大量的熱量,針對一些特定的產品制造的模具,模具的升溫若過高會影響產品在成型時的內應力,導致產品不合格。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種帶,冷卻系統的粉末冶金模具;能夠解決一些粉末冶金過程中模具散熱差導致產品內應過大問題。
為解決上述技術問題,本發明的技術方案為:一種帶冷卻系統的粉末冶金模具,其創新點在于:包括陰模、陰模板和固定沖板;所述陰模設置在陰模板內,所述固定沖板設置在陰模和陰模板的底端;
所述陰模上設置有容納金屬粉末與沖頭配合成形產品的型腔,該型腔呈圓柱結構;所述陰模的側邊底端外輪廓上設置有與陰模板配合的卡盤,且陰模與陰模板的底端齊平;
所述陰模板的中間設置有與陰模配合的通孔,所述陰模板的內壁上設置有螺旋梯形水槽;所述陰模板上設置有分別與螺旋梯形水槽的最頂端和螺旋梯形水槽的最底端相連的冷卻水進水通道和冷卻水出水通道;
所述固定沖板設置在陰模和陰模板的底端,固定沖板上設置有容納沖頭穿過的圓孔;所述圓孔的直徑大于型腔的直徑且小于陰模板上配合陰模的通孔的直徑;所述固定沖板上分別設置有進水口和出水口。
進一步的,所述冷卻水進水通道與冷卻水出水通道均呈L形結構,冷卻水自上而下沿著螺旋梯形水槽冷卻。
進一步的,所述固定沖板與陰模板之間通過沉頭螺紋相連。
進一步的,所述陰模板的頂端設置有限位銷孔。
本發明的優點在于:
1)本發明中通過在陰模與陰模板之間設置自上而下冷卻的螺旋梯形水槽,采用梯形水槽保證了陰模板的結構強度的同時也保證了與陰模接觸的冷卻面從而達到更好的冷卻效果,采用自上而下的冷卻方式便于冷卻水快速的通過螺旋梯形水槽,散熱效率更高。
附圖說明
下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明。
圖1為本發明的一種帶冷卻系統的粉末冶金模具俯視圖。
圖2為本發明的一種帶冷卻系統的粉末冶金模具仰視圖。
圖3為本發明的一種帶冷卻系統的粉末冶金模具剖視圖。
圖4為本發明的一種帶冷卻系統的粉末冶金模具另一角度剖視圖。
具體實施方式
下面的實施例可以使本專業的技術人員更全面地理解本發明,但并不因此將本發明限制在所述的實施例范圍之中。
如圖1至圖4所示的一種帶冷卻系統的粉末冶金模具,包括陰模1、陰模板2和固定沖板3;所述陰模1設置在陰模板2內,所述固定沖板3設置在陰模1和陰模板2的底端。
陰模1上設置有容納金屬粉末與沖頭配合成形產品的型腔11,該型腔11呈圓柱結構;所述陰模1的側邊底端外輪廓上設置有與陰模板2配合的卡盤12,且陰模1與陰模板2的底端齊平。
陰模板2的中間設置有與陰模配合的通孔,所述陰模板2的內壁上設置有螺旋梯形水槽21;所述陰模板2上設置有分別與螺旋梯形水槽21的最頂端和螺旋梯形水槽21的最底端相連的冷卻水進水通道22和冷卻水出水通道23。
固定沖板3設置在陰模1和陰模板2的底端,固定沖板3上設置有容納沖頭穿過的圓孔;所述圓孔的直徑大于型腔的直徑且小于陰模板上配合陰模的通孔的直徑;所述固定沖板3上分別設置有進水口31和出水口32。
冷卻水進水通道22與冷卻水出水通道23均呈L形結構,冷卻水自上而下沿著螺旋梯形水槽21冷卻。
固定沖板3與陰模板2之間通過沉頭螺紋相連。
陰模板2的頂端設置有限位銷孔24。
本行業的技術人員應該了解,本發明不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理,在不脫離本發明精神和范圍的前提下,本發明還會有各種變化和改進,這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。
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