[發明專利]一種用于芯片表面的蝕刻裝置在審
| 申請號: | 201710745782.5 | 申請日: | 2017-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN107579024A | 公開(公告)日: | 2018-01-12 |
| 發明(設計)人: | 卓廷厚 | 申請(專利權)人: | 華天恒芯半導體(廈門)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 361000 福建省廈門*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 芯片 表面 蝕刻 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及芯片蝕刻技術領域,尤其涉及一種用于芯片表面的蝕刻裝置。
背景技術
芯片為電子產品中不可或缺的基本元件,而其以在基板表面噴灑蝕刻液,以蝕刻銅箱以形成導電電路。但是在蝕刻過程中,常常發生一種稱為「水池效應」的現象,即基板表面的銅箱經蝕刻液蝕刻后將形成凹陷區,而反應后的蝕刻液容易滯留于凹陷區中,令較晚噴灑的蝕刻液無法進入凹陷區中繼續蝕刻,造成蝕刻深度不足,此為其中一個缺失,另一方面,反應后的蝕刻液滯留于凹陷區中,將會持續侵蝕 凹陷區側面的銅箱,造成蝕刻過度而導致預定的導電路徑道蝕斷。上述兩個問題,都嚴重影響到產品的生產質量,造成品質的不穩定及成本的提升。
發明內容
本發明的目的是為了解決現有技術中存在的缺點,而提出的一種用于芯片表面的蝕刻裝置。
為了實現上述目的,本發明采用了如下技術方案:
一種用于芯片表面的蝕刻裝置,包括工作臺,所述工作臺為中空結構,且工作臺一側底部內壁焊接有蝕刻液箱,所述蝕刻液箱一側底部螺紋連接有高壓水泵,且高壓水泵通過螺栓連接在工作臺底部內壁上,所述高壓水泵出水口螺紋連接有出液管,所述工作臺在一側頂部開設有通孔,且出液管通過通孔穿過工作臺,所述出液管遠離高壓水泵的一端螺紋連接有噴桿,所述噴桿螺紋連接有高壓噴頭,所述工作臺頂部外壁兩端分別焊接有第一支撐腳和第二支撐腳,且第一支撐腳和第二支撐腳均為兩個,兩個所述第一支撐腳之間通過軸承連接有第一傳動輥,兩個所述第二支撐腳之間通過軸承連接有第二傳動輥,所述第一傳動輥和第二傳動輥外壁均套接有傳送帶,所述工作臺位于出液管和傳送帶之間頂部兩端均焊接有第一支架,且兩個第一支架之間焊接有回收槽,所述工作臺遠離出液管的一側頂部兩端均焊接有第二支架,且兩個第二支架之間通過螺絲連接有噴氣管,且噴氣管開設有噴氣孔。
優選的,所述高壓噴頭等距離均勻分布在噴桿上。
優選的,所述噴氣孔等距離均勻分布在噴氣管上,且噴氣孔與高壓噴頭交叉分布。
優選的,所述回收槽緊貼傳送帶,且回收槽低于傳送帶的水平面。
優選的,所述第一傳動輥通過活動銷連接有驅動電機輸出軸,且驅動電機通過導線連接有開關。
優選的,所述噴氣管螺紋連接有空壓機,且空壓機通過螺栓連接在工作臺的頂部外壁上。
本發明的有益效果為:噴桿和高壓噴頭的設置,能夠讓蝕刻液均勻的噴灑到芯片上進行蝕刻,通過噴氣管和噴氣孔的設置,能夠讓噴氣孔噴出高壓氣體,把滯留在凹陷區的蝕刻液吹出芯片,避免造成蝕刻過度而導致預定的導電路徑道蝕斷,通過回收槽的設置,能夠把高壓氣體吹出的蝕刻液進行回收處理再利用。
附圖說明
圖1為本發明提出的一種用于芯片表面的蝕刻裝置的結構示意圖;
圖2為本發明提出的一種用于芯片表面的蝕刻裝置的俯視示意圖。
圖中:1工作臺、2蝕刻液箱、3第一支撐腳、4第一傳動輥、5噴氣孔、6噴氣管、7噴桿、8高壓噴頭、9回收槽、10第二傳動輥、11第二支撐腳、12出液管、13高壓水泵、14傳送帶。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。
參照圖1-2,一種用于芯片表面的蝕刻裝置,包括工作臺1,工作臺1為中空結構,且工作臺1一側底部內壁焊接有蝕刻液箱2,蝕刻液箱2一側底部螺紋連接有高壓水泵13,且高壓水泵13通過螺栓連接在工作臺1底部內壁上,高壓水泵13出水口螺紋連接有出液管12,工作臺1在一側頂部開設有通孔,且出液管12通過通孔穿過工作臺1,出液管12遠離高壓水泵13的一端螺紋連接有噴桿7,噴桿7螺紋連接有高壓噴頭8,工作臺1頂部外壁兩端分別焊接有第一支撐腳3和第二支撐腳11,且第一支撐腳3和第二支撐腳11均為兩個,兩個第一支撐腳3之間通過軸承連接有第一傳動輥4,兩個第二支撐腳11之間通過軸承連接有第二傳動輥10,第一傳動輥4和第二傳動輥10外壁均套接有傳送帶14,工作臺1靠近出液管12的一側頂部兩端均焊接有第一支架,且兩個第一支架之間焊接有回收槽9,工作臺1位于出液管12和傳送帶14之間頂部兩端均焊接有第二支架,且兩個第二支架之間通過螺絲連接有噴氣管6,且噴氣管6開設有噴氣孔5。
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
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