[發明專利]坐標校正方法和坐標測定裝置

有效

• 申請號: 201710743552.5
• 申請日: 2017-08-25
• 公開（公告）號: CN107782222B
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發明（設計）人: 中川英幸;石川修弘
• 申請（專利權）人: 株式會社三豐
• 主分類號: G01B5/008
• 分類號: G01B5/008
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種坐標校正方法，是使用于第一坐標測定裝置的坐標校正方法，該第一坐標測定裝置具備：第一測定探頭，其具備第一測針和探頭主體，該第一測針具有用于與被測定物接觸的第一測定觸頭，該探頭主體將該第一測針以能夠移動的方式支承，并按照該第一測定觸頭的位移進行第一探頭輸出；第一驅動機構，其使該第一測定探頭相對于所述被測定物相對地移動；以及第一處理裝置，其基于該第一探頭輸出和由該第一驅動機構使該第一測定探頭移動的第一移動量運算所述被測定物的形狀坐標，該坐標校正方法的特征在于，

作為前級校正步驟，包括以下步驟：

將第二測定探頭配置于第二坐標測定裝置的第二驅動機構，該第二坐標測定裝置具備所述第二驅動機構和第二處理裝置，該第二驅動機構使所述第二測定探頭移動，該第二測定探頭具備將具有第二測定觸頭的第二測針以能夠移動的方式支承的所述探頭主體，該第二處理裝置基于按照所述第二測定觸頭的位移的第二探頭輸出和由該第二驅動機構使該第二測定探頭移動的第二移動量求出能夠對針對該第二移動量的該第二探頭輸出進行校正的前級校正矩陣；

限制所述第二測定觸頭的平動位移；

在由所述第二驅動機構使所述第二測定探頭進行了移動時分別獲取所述第二移動量和所述第二探頭輸出；以及

使用所述第二移動量和所述第二探頭輸出來生成所述前級校正矩陣，所述前級校正矩陣由分別用于對所述第二探頭輸出的線性坐標成分和非線性坐標成分進行校正的第二線性校正元素和第二非線性校正元素構成，所述第二移動量和所述第二探頭輸出是在該第二線性校正元素的數量與該第二非線性校正元素的數量的合計數以上的測定點處分別獲取的，

作為后級校正步驟，包括以下步驟：

將所述第一測定探頭配置于所述第一驅動機構；

限制所述第一測定觸頭的平動位移；

在由所述第一驅動機構使所述第一測定探頭進行了移動時分別獲取所述第一移動量和所述第一探頭輸出；

使用所述第一移動量和所述第一探頭輸出來生成由用于對該第一探頭輸出的線性坐標成分進行校正的第一線性校正元素構成的中間校正矩陣；以及

利用基于所述中間校正矩陣和所述前級校正矩陣生成的后級校正矩陣來校正所述第一探頭輸出。

2.根據權利要求1所述的坐標校正方法，其特征在于，

作為所述前級校正步驟，還包括以下步驟：將僅由所述第二線性校正元素構成的前級線性校正矩陣的逆矩陣與所述前級校正矩陣相乘來生成前級中間校正矩陣，

作為所述后級校正步驟，還包括以下步驟：使用所述前級中間校正矩陣生成所述后級校正矩陣。

3.根據權利要求2所述的坐標校正方法，其特征在于，

利用基于所述中間校正矩陣和所述前級校正矩陣生成的后級校正矩陣來校正所述第一探頭輸出的步驟包括以下步驟：將所述中間校正矩陣與所述前級中間校正矩陣相乘來生成所述后級校正矩陣。

4.根據權利要求2所述的坐標校正方法，其特征在于，

作為所述前級校正步驟，還包括以下步驟：

與所述第二測定探頭的不同的形態數對應地變更該第二測定探頭的形態，重復進行從將該第二測定探頭配置于所述第二驅動機構的步驟至生成所述前級校正矩陣的步驟；以及

基于多個該前級校正矩陣，生成所述第二線性校正元素或該第二測定探頭的形態與所述前級中間校正矩陣的非線性校正元素之間的相關關系，

利用基于所述中間校正矩陣和所述前級校正矩陣生成的后級校正矩陣來校正所述第一探頭輸出的步驟包括以下步驟：

使用所述相關關系求出所述第一線性校正元素來代替所述第二線性校正元素，或者使用所述相關關系求出與所述第一測定探頭的形態對應的所述前級中間校正矩陣的非線性校正元素來代替與所述第二測定探頭的形態對應的非線性校正元素；以及

利用所述第一線性校正元素和該前級中間校正矩陣的非線性校正元素生成所述后級校正矩陣。

5.根據權利要求4所述的坐標校正方法，其特征在于，

所述第二測定探頭的不同的形態數基于所述第二測針的不同的形態數，并且所述第一測定探頭的形態基于所述第一測針的形態。