[發明專利]具有高碳含量和可控光學指數的可交聯聚合物及其合成方法和應用

在審

• 申請號: 201710742206.5
• 申請日: 2017-08-25
• 公開（公告）號: CN107501459A
• 公開（公告）日: 2017-12-22
• 發明（設計）人: 蔣繼明
• 申請（專利權）人: 江蘇明魁高分子材料技術有限公司
• 主分類號: C08F212/32
• 分類號: C08F212/32;C08J3/24;C08L25/02
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司32218
• 代理人: 徐冬濤,邢賢冬

1.一種聚合物，其特征在于所述的聚合物由苯乙烯類單體和4-乙烯基苯并環丁烯共聚而成；

所述的聚合物是由以下方法制備得到的：將苯乙烯類單體、4-乙烯基苯并環丁烯、引發劑和有機溶劑混合后，在惰性氣體保護下反應，反應結束后降溫，將反應液倒入沉析溶劑中使聚合物沉淀出來，過濾，真空干燥得聚合物；

其中，所述的苯乙烯類單體如式其中，R為取代或未取代的苯基、聯苯基、萘基或蒽基，苯基、聯苯基、萘基或蒽基的取代基為烷基C_nH_2n+1，n為1-10。

2.根據權利要求1所述的聚合物，其特征在于所述的苯乙烯類單體為苯乙烯、乙烯基聯苯、2-乙烯基萘、9-乙烯基蒽。

3.根據權利要求1所述的聚合物，其特征在于所述的4-乙烯基苯并環丁烯的質量為單體總量的1～50wt％，優選為5～40wt％，更優選為5～30wt％。

4.根據權利要求1所述的聚合物，其特征在于所述的引發劑為有機過氧化物或偶氮化合物；所述的引發劑的用量為單體總量的0.01～5wt％，優選為0.1～1wt％；

所述的有機溶劑為苯、甲苯、1,3,5-三甲基苯、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、1,4-二氧六環，四氫呋喃、二甲基甲酰胺；

所述的沉析溶劑為甲醇、乙醇、己烷或石油醚。

5.根據權利要求4所述的聚合物，其特征在于所述的過氧化物為1,1-二叔丁基過氧化環己烷、2,2-二(叔丁基過氧化)丁烷、叔丁基過氧化-3,5,5-三甲基己酸酯、叔丁基過氧化苯甲酸酯、2,5-二甲基-2,5-二叔丁基過氧化己烷、二叔丁基過氧化物；所述的偶氮化合物為2,2'-偶氮二異丁腈(即偶氮二異丁腈)、2,2'_偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、4,4'-偶氮雙(4-氰基戊酸)、2,2'-偶氮雙(N-丁基-2-甲基丙酰胺)、2,2'-偶氮雙(N-環己基-2-甲基丙酰胺)。

6.根據權利要求1所述的聚合物，其特征在于所述的反應溫度為60～150℃；所述的反應時間為1～48小時；所述的真空干燥的溫度為20～100℃。

7.權利要求1所述的聚合物的合成方法，其特征在于包括：將苯乙烯類單體、4-乙烯基苯并環丁烯、引發劑和有機溶劑混合后，在惰性氣體保護下反應，反應結束后降溫，將反應液倒入沉析溶劑中使聚合物沉淀出來，過濾，真空干燥得聚合物。

8.權利要求1所述的聚合物在光刻工藝中作為硬掩模層和/或抗反射層的材料的應用。

9.權利要求1所述的聚合物在制備光刻工藝中作為硬掩模層和/或抗反射層的材料的方法，其特征在于包括：將聚合物溶解在溶劑中配成聚合物溶液，旋涂在硅晶片上成膜，置于熱臺上加熱使聚合物膜交聯；其中，所述的聚合物溶液的濃度為0.5～20wt％，所述的溶劑為丙二醇甲醚醋酸酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、甲苯、均三甲苯、乙酸乙酯或環己酮等中的一種或至少兩種的混合溶劑；所述的交聯溫度為190～350℃。

10.根據權利要求9所述的聚合物在制備光刻工藝中作為硬掩模層和/或抗反射層的材料的方法，其特征在于所述的聚合物溶液的濃度為1～5wt％；所述的交聯溫度為220～260℃。