[發明專利]無氰鍍銅電鍍液在審
| 申請號: | 201710738124.3 | 申請日: | 2017-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN107299366A | 公開(公告)日: | 2017-10-27 |
| 發明(設計)人: | 胡國輝;劉軍;肖春燕;李禮;吳星星 | 申請(專利權)人: | 重慶立道表面技術有限公司;重慶立道科技有限公司 |
| 主分類號: | C25D3/38 | 分類號: | C25D3/38 |
| 代理公司: | 重慶謝成律師事務所50224 | 代理人: | 劉貽行 |
| 地址: | 402260*** | 國省代碼: | 重慶;85 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍銅 電鍍 | ||
1.一種無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述電鍍液包括細化劑;所述細化劑按重量份包括如下成分:0.1~10份硫脲改性衍生物和0.1~5份硝酸鉍。
2.根據權利要求1所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述電鍍液還包括速成劑;所述速成劑按重量份包括如下成分:0.1~10份聚乙二醇、0.1~30份蘋果酸和0.1~40份丁二酸鈉。
3.根據權利要求2所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述細化劑按重量份包括如下成分:5份硫脲改性衍生物和2.5份硝酸鉍;
所述速成劑按重量份包括如下成分:5份聚乙二醇、15份蘋果酸和20份丁二酸鈉。
4.根據權利要求2所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述電鍍液還包括硫酸銅、海因、檸檬酸;
其中,各組分按濃度的配比如下:
5.根據權利要求4所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述電鍍液各組分按濃度的配比如下:
6.根據權利要求1所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述的硫脲改性衍生物為甲基硫脲、二甲基硫脲、四甲基硫脲、乙基硫脲、二乙基硫脲、正丙基硫脲、二異丙基硫脲、烯丙基硫脲、苯基硫脲、甲苯基硫脲和氯苯基硫脲、硫代乙酰胺、N-苯甲?;?N、-對甲基苯基硫脲和N-苯甲?;?N、-對羥基苯基硫脲中的一種或幾種組成的混合物。
7.根據權利要求2所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述聚乙二醇的分子量為300~600。
8.根據權利要求4所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述電鍍液的工作pH值為9.0~12。
9.根據權利要求4所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:所述電鍍液的工作溫度為40~60℃。
10.根據權利要求4所述的無氰鍍銅電鍍液,其特征在于:電鍍時,給予所述電鍍液的陰極電流密度為0.1~5A/dm2。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于重慶立道表面技術有限公司;重慶立道科技有限公司,未經重慶立道表面技術有限公司;重慶立道科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710738124.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:粉末料箱及氧化鋁粉料箱
- 下一篇:無氰光亮鍍銀電鍍液





