[發(fā)明專利]一種陣列基板、顯示面板及顯示器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710731640.3 | 申請日: | 2017-08-23 |
| 公開(公告)號: | CN107272263B | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 葉壽;肖磊;黃麗娟;張高玲;黃鸝;楚沁媛;趙凱;陳中龍;劉爽 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 顯示 面板 器件 | ||
1.一種陣列基板,用于顯示面板,其特征在于,所述陣列基板包括基板以及形成在所述基板上的反射層,所述反射層靠近所述顯示面板的液晶層設(shè)置;
所述反射層中摻雜有夜光材料;
所述反射層將經(jīng)所述液晶層入射的環(huán)境光反射至所述液晶層,所述夜光材料吸收并儲存所述環(huán)境光的能量;
所述夜光材料發(fā)射光線至所述液晶層;
所述反射層具有偏光功能;其中,所述反射層是將銀吸附在高分子薄膜上,并加以還原而形成的;
其中,所述夜光材料能夠吸收的環(huán)境光包括:450納米以下的短波可見光、陽光和紫外線光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述基板包括薄膜晶體管陣列,所述薄膜晶體管陣列形成在所述基板靠近所述液晶層的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括薄膜晶體管陣列,所述薄膜晶體管陣列形成在所述反射層上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述夜光材料為無機(jī)材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述夜光材料為不含放射性元素的稀土材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述夜光材料為可循環(huán)使用材料。
7.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括權(quán)利要求1至6任一項所述的陣列基板,與所述陣列基板相對設(shè)置的彩膜基板,填充在所述陣列基板與所述彩膜基板之間的液晶層,以及覆蓋在所述彩膜基板遠(yuǎn)離所述液晶層一側(cè)的偏光片。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述偏光片包括四分之一波片,所述四分之一波片設(shè)置在靠近所述彩膜基板的一側(cè)。
9.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括權(quán)利要求7至8任一項所述的顯示面板。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





