[發明專利]一種彩膜基板缺陷的分析方法、檢測修復方法及裝置

有效

• 申請號: 201710730999.9
• 申請日: 2017-08-23
• 公開（公告）號: CN109426013B
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 李鵬;李堅;李志賓;馮孟;孫瑞雪;丁秀娟;趙帥
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

本發明提供一種彩膜基板缺陷的分析方法、檢測修復方法及裝置，該彩膜基板缺陷的分析方法，包括：獲取自動光學檢出設備從多個彩膜基板樣本中檢出的第一數量個檢出缺陷的過濾參數的數據；獲取修復設備從第一數量個檢出缺陷中修復的第二數量個修復缺陷的過濾參數的數據；對第一數量個檢出缺陷的過濾參數的數據和第二數量個修復缺陷的過濾參數的數據進行分析，得到檢出缺陷的過濾參數的數據與修復缺陷的過濾參數的數據的差異數據，根據差異數據確定過濾參數對應的過濾范圍。本發明中，綜合檢出缺陷和修復缺陷的數據，確定用于過濾彩膜基板缺陷的過濾參數的過濾范圍，可以采用該過濾范圍對不需要修復的缺陷進行過濾，節省了修復設備確認檢出缺陷的時間。

技術領域

本發明涉及彩膜基板缺陷檢測技術領域，尤其涉及一種彩膜基板缺陷的分析方法、檢測修復方法及裝置。

背景技術

目前，在完成薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)彩膜基板的每一道工序后，通常都需要將彩膜基板送入自動光學檢出設備(AOI)進行微觀缺陷檢測，經AOI檢測出的具有微觀缺陷的彩膜基板還需要送入修復(Repair)設備進行缺陷修復。AOI檢出的微觀缺陷是否全部修復直接影響彩膜基板的品質。在實際生產中，AOI檢出的微觀缺陷僅有30％左右需要修復，其余70％缺陷在修復工序中，要么不可見，要么不需要修復。但為了保證彩膜基板的品質，這70％的微觀缺陷都需要在修復設備進行確認，造成時間浪費，嚴重影響產能。

為了降低確認不需要修復的缺陷的時間浪費，現有方法中，可以采用放寬AOI缺陷檢出標準，或者在修復設備直接過濾部分缺陷，但是這兩種過濾方式完全依靠工程師經驗，過濾效果不可量化，AOI漏檢風險及修復設備漏修風險均不可控，無法保證彩膜基板的品質。

發明內容

有鑒于此，本發明提供一種彩膜基板缺陷的分析方法、檢測修復方法及裝置，綜合檢出缺陷和修復缺陷的數據，確定用于過濾彩膜基板缺陷的過濾參數的過濾范圍，可以采用該過濾范圍對不需要修復的缺陷進行過濾，節省了修復設備確認檢出缺陷的時間。

為解決上述技術問題，本發明提供一種彩膜基板缺陷的分析方法，包括：

獲取自動光學檢出設備從多個彩膜基板樣本中檢出的第一數量個檢出缺陷的過濾參數的數據；

獲取修復設備從所述第一數量個檢出缺陷中修復的第二數量個修復缺陷的過濾參數的數據；

對所述第一數量個檢出缺陷的過濾參數的數據和所述第二數量個修復缺陷的過濾參數的數據進行分析，得到所述檢出缺陷的過濾參數的數據與修復缺陷的過濾參數的數據的差異數據，根據所述差異數據確定所述過濾參數對應的過濾范圍。

優選地，所述過濾參數包括缺陷大小、缺陷灰階值以及缺陷灰階值與對應的正常灰階值的灰階差值中的至少一個。

優選地，所述過濾參數包括缺陷大小時，所述對所述第一數量個檢出缺陷的過濾參數的數據和所述第二數量個修復缺陷的過濾參數的數據進行分析，得到所述檢出缺陷的過濾參數的數據與修復缺陷的過濾參數的數據的差異數據，根據所述差異數據確定所述過濾參數對應的過濾范圍的步驟包括：

根據所述第一數量個檢出缺陷的缺陷大小的數據和所述第二數量個修復缺陷的缺陷大小的數據，確定所述檢出缺陷和修復缺陷的不同缺陷大小的數量分布；

根據所述檢出缺陷和修復缺陷的不同缺陷大小的數量分布，得到所述檢出缺陷的缺陷大小的數據與修復缺陷的缺陷大小的數據的差異數據，根據所述差異數據確定所述缺陷大小對應的過濾范圍。

優選地，所述確定所述檢出缺陷和修復缺陷的不同缺陷大小的數量分布的步驟包括：

確定所有檢出缺陷的缺陷大小的第一取值范圍，將所述第一取值范圍劃分成多個第一缺陷大小分區，其中，每一第一缺陷大小分區的長度相同；

確定每一所述第一缺陷大小分區中的檢出缺陷的數量；