[發(fā)明專利]多錐形、多階段噴射噴嘴在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710729451.2 | 申請日: | 2017-08-23 |
| 公開(公告)號: | CN107764080A | 公開(公告)日: | 2018-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 邱彥;J·P·古德溫 | 申請(專利權(quán))人: | 費希爾控制產(chǎn)品國際有限公司 |
| 主分類號: | F28C3/08 | 分類號: | F28C3/08;F22G5/12;B05B1/30 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司72002 | 代理人: | 曹雯 |
| 地址: | 美國愛*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 錐形 階段 噴射 噴嘴 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本公開內(nèi)容涉及噴射噴嘴(spray nozzle),更具體地,涉及用于蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(例如,減溫器和蒸汽調(diào)節(jié)閥)的噴射噴嘴。
背景技術(shù)
在許多工業(yè)流體和氣體管線中使用蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備(例如,減溫器和蒸汽調(diào)節(jié)閥),以將過熱的過程流體和氣體的溫度降低到期望的設(shè)定點溫度。例如,減溫器用于電力過程工業(yè)以冷卻過熱的蒸汽。減溫器利用噴嘴將霧化的冷卻水或其它流體的精細噴射(可以稱為噴水云)注入到過程蒸汽流過的蒸汽管中。噴水云中的水滴的蒸發(fā)降低過程蒸汽的溫度。可以通過調(diào)整一個或多個控制變量(例如,被強制通過噴嘴的冷卻水的流速、壓力和/或溫度)而調(diào)整噴水云的特性來控制所得的溫度下降。但是這些控制變量的可調(diào)整性可以基于噴嘴本身的結(jié)構(gòu)而受限制。例如,配備用于高流速和/或高壓條件的噴嘴在低流速和/或低壓條件下可能不會正常運作。因此,當針對任何給定應用設(shè)計蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備時,必須考慮任何給定的噴嘴集合的操作范圍。
發(fā)明內(nèi)容
本公開內(nèi)容的一個方面提供了一種噴射噴嘴,其包括噴嘴主體、限定第一閥頭的閥桿、流體導管、第二閥頭以及偏置設(shè)備。噴嘴主體具有近端、遠端、在噴嘴主體的近端與遠端之間延伸的第一通孔以及設(shè)置在噴嘴主體的遠端處的閥座。閥桿可滑動地設(shè)置在噴嘴主體的第一通孔中,并且包括近端、遠端以及第一閥頭。第一閥頭限定就座表面,該就座表面適于當閥桿處于閉合位置時接合閥座以及適于當閥桿處于打開位置時與閥座間隔開。流體導管設(shè)置在閥桿中,并且限定第一閥頭中的在閥桿的遠端處的流體出口。第二閥頭附接到閥桿的閥頭處的流體出口,并且限定噴嘴開口,該噴嘴開口連續(xù)地打開并與閥桿中的流體導管流體連通。偏置設(shè)備產(chǎn)生使閥桿的第一閥頭朝向噴嘴主體的閥座偏置的力。在將小于閾值流體壓力的第一流體壓力施加在第一閥頭的就座表面上時,偏置設(shè)備將閥桿維持在閉合位置,同時第二閥頭連續(xù)地打開。并且,在將至少與閾值流體壓力一樣大的第二流體壓力施加在第一閥頭的就座表面上時,閥桿從閉合位置移動到打開位置,同時第二閥頭保持連續(xù)地打開。
本公開內(nèi)容的另一個方面提供了一種蒸汽調(diào)節(jié)設(shè)備,其包括蒸汽管和連接到歧管并圍繞蒸汽管安裝的多個噴射噴嘴。該多個噴射噴嘴適于將冷卻水流傳遞入蒸汽管。每個噴射噴嘴包括:噴嘴主體、限定第一閥頭的閥桿、流體導管、第二閥頭和偏置設(shè)備。噴嘴主體具有近端、遠端、在噴嘴主體的近端與遠端之間延伸的第一通孔以及設(shè)置在噴嘴主體的遠端處的閥座。該閥桿可滑動地設(shè)置在噴嘴主體的第一通孔中,并且包括近端、遠端、和第一閥頭。第一閥頭限定就座表面,該就座表面適于當閥桿處于閉合位置時接合閥座以及適于當閥桿處于打開位置時與閥座間隔開。流體導管設(shè)置在閥桿中,并且限定第一閥頭中的在閥桿的遠端處的流體出口。第二閥頭附接到閥桿的閥頭處的流體出口,并且限定噴嘴開口,該噴嘴開口連續(xù)地打開并與閥桿中的流體導管流體連通。偏置設(shè)備產(chǎn)生將閥桿的第一閥頭朝向噴嘴主體的閥座偏置的力。在將小于閾值流體壓力的第一流體壓力施加在第一閥頭的就座表面上時,偏置設(shè)備將閥桿維持在閉合位置,同時第二閥頭連續(xù)地打開。并且,在將至少與閾值流體壓力一樣大的第二流體壓力施加在第一閥頭的就座表面上時,閥桿從閉合位置移動到打開位置,同時第二閥頭保持連續(xù)地打開。
在一些方面中,噴嘴主體包括限定第一通孔的圓柱壁。
在一些方面中,偏置設(shè)備設(shè)置在閥桿的近端處。
在一些方面中,偏置設(shè)備包括附接到閥桿的近端的螺母以及設(shè)置在螺母與噴嘴主體的近端之間的彈簧。
在一些方面中,彈簧圍繞閥桿的近端而設(shè)置。
在一些方面中,噴嘴主體的近端限定肩部表面,并且當閥桿處于閉合位置時,螺母與肩部表面間隔開,當閥桿處于打開位置時,螺母與肩部表面接觸。
在一些方面中,噴嘴主體、閥桿和第二閥頭同軸地對齊。
一些方面還包括噴嘴殼體,其附接到噴嘴主體,并且包圍閥桿的近端并包圍偏置設(shè)備。
在一些方面中,第二閥頭的噴嘴開口包括固定的孔口直徑。
在一些方面中,閥桿中的流體導管包括第二通孔,第二通孔在閥桿的近端與遠端之間延伸,并且限定在閥桿的近端處的流體入口。
在一些方面中,流體導管包括多個流體導管,該多個流體導管以成角度的方式徑向地延伸穿過閥桿并且包括與流體出口流體連通的相應多個流體入口。
附圖說明
圖1是根據(jù)本公開內(nèi)容的教導來構(gòu)造的包括多個噴射噴嘴的蒸汽管的透視圖。
圖2是根據(jù)本公開內(nèi)容的教導來構(gòu)造的一種形式的噴射噴嘴的橫截面。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于費希爾控制產(chǎn)品國際有限公司,未經(jīng)費希爾控制產(chǎn)品國際有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710729451.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:氣體冷卻裝置、氣化爐和氣體冷卻方法
- 下一篇:一種微通道換熱器





