[發明專利]彩色濾光片及其檢測方法、掩膜版以及液晶顯示器

有效

• 申請號: 201710724932.4
• 申請日: 2017-08-22
• 公開（公告）號: CN107462945B
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: 方金波;朱景河;王學雷;藍雷雷;黃偉東;李建華
• 申請（專利權）人: 信利（惠州）智能顯示有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G01M11/00;G02F1/1335
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 葉劍

1.一種彩色濾光片檢測方法，其特征在于，包括：

提供彩色濾光片，其中，所述彩色濾光片包括顯示區和測試區，所述測試區包括像素閑置區和像素檢測區，所述像素檢測區與所述像素閑置區分別具有相同形狀的若干像素圖形，且所述像素檢測區中的每一像素圖形的面積大于所述像素閑置區的每一像素圖形的面積；

對所述彩色濾光片的所述像素檢測區進行檢測。

2.根據權利要求1所述的彩色濾光片檢測方法，其特征在于，在所述提供彩色濾光片的步驟之前還包括：

提供基板；

在所述基板上涂膠，并經過曝光和顯影處理，形成彩色濾光片。

3.根據權利要求2所述的彩色濾光片檢測方法，其特征在于，所述在所述基板上涂膠，并經過曝光和顯影處理，形成彩色濾光片的步驟包括：

在所述基板上涂膠；

提供掩膜版，所述掩膜版具有顯示掩膜區和測試掩膜區，所述測試掩膜區包括閑置掩膜區和檢測掩膜區，所述檢測掩膜區與所述閑置掩膜區分別具有相同形狀的若干像素圖形，且所述檢測掩膜區中的每一像素圖形大于所述閑置掩膜區的每一像素圖形；

通過所述掩膜版對所述基板進行曝光和顯影處理，形成所述彩色濾光片，其中，在所述顯示掩膜區形成所述彩色濾光片的顯示區，在所述測試掩膜區形成所述彩色濾光片的測試區，在所述閑置掩膜區形成所述彩色濾光片的像素閑置區，在所述檢測掩膜區形成所述彩色濾光片的像素檢測區。

4.根據權利要求1所述的彩色濾光片檢測方法，其特征在于，所述對所述彩色濾光片的所述像素檢測區進行檢測的步驟包括：

對所述彩色濾光片的所述像素檢測區的平整度進行檢測。

5.根據權利要求1所述的彩色濾光片檢測方法，其特征在于，所述對所述彩色濾光片的所述像素檢測區進行檢測的步驟包括：

對所述彩色濾光片的所述像素檢測區的厚度進行檢測。

6.根據權利要求1所述的彩色濾光片檢測方法，其特征在于，所述對所述彩色濾光片的所述像素檢測區進行檢測的步驟包括：

對所述彩色濾光片的所述像素檢測區的色度進行檢測。

7.根據權利要求1所述的彩色濾光片檢測方法，其特征在于，所述對所述彩色濾光片的所述像素檢測區進行檢測的步驟包括：

對所述彩色濾光片的所述像素檢測區的平整度、厚度以及色度進行檢測。

8.一種掩膜版，其特征在于，所述掩膜版具有顯示掩膜區和測試掩膜區，所述測試掩膜區包括閑置掩膜區和檢測掩膜區，所述檢測掩膜區與所述閑置掩膜區分別具有相同形狀的若干像素圖形，且所述檢測掩膜區中的每一像素圖形的面積大于所述閑置掩膜區的每一像素圖形的面積。

9.一種彩色濾光片，其特征在于，所述彩色濾光片包括顯示區和測試區，所述測試區包括像素閑置區和像素檢測區，所述像素檢測區與所述像素閑置區分別具有相同形狀的若干像素圖形，且所述像素檢測區中的每一像素圖形的面積大于所述像素閑置區的每一像素圖形的面積。

10.一種液晶顯示器，其特征在于，包括權利要求9中所述的彩色濾光片。