[發明專利]一種用于熱光伏系統的選擇性熱發射器在審
| 申請號： | 201710721835.X | 申請日： | 2017-08-22 |
| 公開（公告）號： | CN107482994A | 公開（公告）日： | 2017-12-15 |
| 發明（設計）人： | 鄭義;卡尼克·阿洛克;田彥培 | 申請（專利權）人： | 鄭義;卡尼克·阿洛克;田彥培 |
| 主分類號： | H02S10/30 | 分類號： | H02S10/30;H02S40/44 |
| 代理公司： | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350 | 代理人： | 湯東鳳 |
| 地址： | 100013 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 熱光伏 系統 選擇性 發射器 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于熱光伏系統的選擇性熱發射器，其特征在于，包括基底材料，所述基底材料上設置有鎢層；所述鎢層上設置有二氧化硅層，所述二氧化硅層內部分散有鎢納米顆粒。
2.根據權利要求1所述的用于熱光伏系統的選擇性熱發射器，其特征在于，所述基底材料為硅片。
3.如權利要求1-2任一所述的用于熱光伏系統的選擇性熱發射器的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
S1分別用丙酮、甲醇和異丙醇清洗硅片，得到的硅片作為基底材料；
S2用氮氣吹干硅片上剩余的液體；
S3將經過步驟S2處理的硅片加熱以去除多余的氣體；
S4用RF濺射機在硅片上濺射出設定厚度的鎢層；
S5將按照設定體積比混合的鎢納米顆粒和二氧化硅粉末加上PVDF粘合劑制成靶，將制成的靶放置在RF濺射機中，然后用RF濺射機在鎢層上濺射出分散有鎢納米顆粒的二氧化硅層。
4.權利要求1-2任一所述的用于熱光伏系統的選擇性熱發射器在熱光伏系統中的應用。
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