[發明專利]一種自動化處理惡臭污染氣體的裝置在審
| 申請號: | 201710719641.6 | 申請日: | 2017-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN107569991A | 公開(公告)日: | 2018-01-12 |
| 發明(設計)人: | 呂錫元;呂飛龍;陸平;陳燚 | 申請(專利權)人: | 江蘇三強環境工程有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/78 | 分類號: | B01D53/78 |
| 代理公司: | 貴陽派騰陽光知識產權代理事務所(普通合伙)52110 | 代理人: | 谷慶紅 |
| 地址: | 214205 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 自動化 處理 惡臭 污染 氣體 裝置 | ||
1.一種自動化處理惡臭污染氣體的裝置,其特征在于,主要包括:工作控制器(1)、進風機(2)、一級處理塔(3)、二級處理塔(4)、三級處理塔(5),所述進風機(2)與所述一級處理塔(3)連接,進風機(2)包括:主軸(201)、軸承(202)、風機外殼(203)、葉輪(204)、風道(205)、風機執行器(206),所述軸承(202)位于進風機(2)中間,所述主軸(201)位于軸承(202)中間,所述葉輪(204)與軸承(202)連接,所述風道(205)與所述風機外殼(203)連接;一級處理塔(3)包括:一級進風口(301)、植物提取液(302)、植物廢液排放口(303)、一級噴澆板(304)、一級執行器(305)、一級噴澆泵(306)、植物提取液儲備箱(307)、植物提取液補給口(308)、一級出風口(309),所述一級進風口(301)位于一級處理塔(3)左側外表面下方,另一端與風道(205)連接,所述植物提取液(302)位于一級處理塔(3)內,所述植物廢液排放口(303)位于一級處理塔(3)右側外表面下方,所述一級噴澆板(304)位于一級處理塔(3)內,所述一級執行器(305)與所述一級噴澆泵(306)連接,一級執行器(305)與一級噴澆泵(306)都位于噴澆板(304)上,所述植物提取液儲備箱(307)也位于噴澆板(304)上,所述植物提取液補給口(308)位于一級處理塔(3)右側外表面上方,所述一級出風口(309)也位于一級處理塔(3)右側外表面上方;一級處理塔(3)與所述二級處理塔(4)連接,二級處理塔(4)包括:二級進風口(401)、堿性溶液(402)、堿性廢液排放口(403)、二級噴澆板(404)、二級噴澆泵(405)、二級執行器(406)、堿性溶液儲備箱(407)、堿性溶液補給口(408)、二級出風口(409),所述二級進風口(401)位于二級處理塔(4)左側外表面下方,另一端與一級出風口(309)連接,所述堿性溶液(402)位于二級處理塔(4)內,所述堿性廢液排放口(403)位于二級處理塔(4)右側外表面下方,所述二級噴澆板(404)位于二級處理塔(4)內,所述二級執行器(406)與所述二級噴澆泵(405)連接,二級執行器(406)與二級噴澆泵(405)都位于噴澆板(404)上,所述堿性溶液儲備箱(407)也位于噴澆板(404)上,所述堿性溶液補給口(408)位于二級處理塔(4)右側外表面上方,所述二級出風口(409)也位于二級處理塔(4)右側外表面上方;二級處理塔(4)與所述三級處理塔(5)連接,三級處理塔(5)包括:氧化區(51)、廢液區(52)、還原區(53)、儲備液區(54)、三級進風口(501)、三級出風口(506),所述氧化區(51)與所述廢液區(52)連接,所述還原區(53)位于廢液區(52)上表面,所述儲備液區(54)位于氧化區(51)上表面,所述三級進風口(501)與氧化區(51)連接,另一端與二級出風口(409)連接,所述三級出風口(506)與廢液區(52)連接;氧化區(51)包括:氧化噴澆泵(502)、氧化執行器(503)、氧化液(504)、氧化廢液排放口(505)、氧化噴澆板(514),所述氧化噴澆泵(502)位于所述氧化噴澆板(514)上,氧化噴澆板(514)位于氧化區(51)內,所述氧化執行器(503)也位于氧化噴澆板(514)上,所述氧化液(504)位于氧化區(51)內,所述氧化廢液排放口(505)一端與氧化區(51)連接,另一端與廢液區(52)連接;還原區(53)包括:還原廢液排放口(507)、還原液(508)、還原噴澆板(509)、還原執行器(510)、還原噴澆泵(511),所述還原噴澆泵(511)位于所述還原噴澆板(509)上,還原噴澆板(509)位于還原區(53)內,所述還原執行器(510)也位于還原噴澆板(509)上,所述還原液(508)位于還原區(53)內,所述還原廢液排放口(507)一端與還原區(53)連接,另一端與廢液區(52)連接;所述儲備液區(54)包括:還原液儲備箱(512)、氧化液儲備箱(513),所述還原液儲備箱(512)與所述氧化液儲備箱(513)都位于儲備液區(54)內,還原液儲備箱(512)位于氧化液儲備箱(513)上方;所述工作控制器(1)包括:采集口(101)、采集板塊(102)、成分檢測板塊(103)、電腦信息處理板塊(104)、執行板塊(105),所述采集口(101)位于工作控制器(1)外表面上方,并且與所述采集板塊(102)連接,采集板塊(102)位于工作控制器(1)內部靠上位置,并且與所述成分檢測板塊(103)連接,檢測板塊(103)與所述電腦信息處理板塊(104)連接,電腦信息處理板塊(104)與所述執行板塊(105)連接,成分檢測板塊(103)、腦信息處理板塊(104)、執行板塊(105)都位于工作控制器(1)內部,執行板塊(105)另一端分別與風機執行器(206)、一級執行器(305)、二級執行器(406)、氧化執行器(503)與還原執行器(510)連接。
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