[發明專利]OLED顯示基板及其制作方法、OLED顯示裝置

有效

• 申請號: 201710713140.7
• 申請日: 2017-08-18
• 公開（公告）號: CN107482042B
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發明（設計）人: 孫韜;張嵩;王有為;王濤
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

1.一種OLED顯示基板，包括顯示區域和圍繞所述顯示區域的非顯示區域，所述OLED顯示基板包括設置于所述非顯示區域的擋墻，以及覆蓋所述顯示區域并延伸至覆蓋所述擋墻的封裝結構層，其特征在于：

所述OLED顯示基板還包括位于所述擋墻和所述封裝結構層之間且至少覆蓋所述擋墻的金屬鹵化物層，且所述金屬鹵化物層分別與所述擋墻和所述封裝結構層直接接觸。

2.如權利要求1所述的OLED顯示基板，其特征在于，所述金屬鹵化物層的材質包括MgF₂、AlF₃、NaF和LiF中的至少一種。

3.如權利要求1所述的OLED顯示基板，其特征在于，所述金屬鹵化物層遠離所述顯示區域的邊緣超出所述封裝結構層的邊緣。

4.如權利要求3所述的OLED顯示基板，其特征在于，所述金屬鹵化物層遠離所述顯示區域的邊緣超出所述封裝結構層邊緣10～50微米。

5.如權利要求1所述的OLED顯示基板，其特征在于，所述金屬鹵化物層包括覆蓋所述顯示區域的第一部分，以及位于所述非顯示區域的第二部分，所述第二部分環繞所述第一部分并與所述第一部分間隔設置。

6.如權利要求1所述的OLED顯示基板，其特征在于，所述OLED顯示基板在所述非顯示區域還包括依次設置的第一金屬走線層、絕緣層、第二金屬走線層和第三金屬走線層，其中：

所述絕緣層具有通向所述第一金屬走線層的第一過孔；

所述第二金屬走線層通過所述第一過孔與所述第一金屬走線層電連接；

所述擋墻設置于所述第二金屬走線層遠離所述絕緣層的一側；

所述第三金屬走線層位于所述擋墻靠近所述顯示區域一側，并與所述第二金屬走線層電連接；

所述金屬鹵化物層還覆蓋所述第三金屬走線層，以及所述第二金屬走線層被所述第三金屬走線層和所述擋墻暴露出的部分。

7.如權利要求6所述的OLED顯示基板，其特征在于，所述OLED顯示基板包括設置于所述顯示區域的多個OLED器件，以及每個所述OLED器件所對應電連接的薄膜晶體管；

所述第一金屬走線層與所述薄膜晶體管的源漏極同層制作；

所述第二金屬走線層與所述OLED器件的陽極同層制作；

所述第三金屬走線層與所述OLED器件的陰極同層制作。

8.如權利要求7所述的OLED顯示基板，其特征在于，所述絕緣層為有機絕緣層，所述第二金屬走線層具有通向所述有機絕緣層的至少一個第二過孔，所述顯示基板還包括與所述擋墻同層制作且填充所述至少一個第二過孔的填充結構。

9.如權利要求6所述的OLED顯示基板，其特征在于，所述OLED顯示基板在所述非顯示區域還包括依次設置的柔性襯底基板、緩沖層、柵絕緣層和層間絕緣層；

所述第一金屬走線層、所述絕緣層、所述第二金屬走線層、所述擋墻、所述第三金屬走線層、所述金屬鹵化物層和所述封裝結構層依次形成于所述層間絕緣層之上。

10.一種OLED顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1～9任一項所述的OLED顯示基板。

11.一種OLED顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：

形成位于非顯示區域的擋墻；

形成至少直接覆蓋在所述擋墻表面的金屬鹵化物層；

在所述金屬鹵化物層遠離所述擋墻的一側的表面形成覆蓋顯示區域并延伸至覆蓋所述擋墻的封裝結構層。

12.如權利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法具體包括：

在基板上形成位于非顯示區域的第一金屬走線層；

在所述第一金屬走線層之上形成絕緣層，所述絕緣層具有通向所述第一金屬走線層的第一過孔；

在所述絕緣層之上形成位于非顯示區域的第二金屬走線層，所述第二金屬走線層通過所述第一過孔與所述第一金屬走線層電連接；

在所述第二金屬走線層之上形成位于非顯示區域的擋墻；

在所述擋墻的層結構之上形成位于非顯示區域的第三金屬走線層，所述第三金屬走線層位于所述擋墻靠近顯示區域的一側并與所述第二金屬走線層電連接；

在所述第三金屬層之上形金屬鹵化物層，所述金屬鹵化物層覆蓋所述擋墻、所述第三金屬走線層，以及所述第二金屬走線層被所述第三金屬走線層和所述擋墻暴露出的部分；

在所述金屬鹵化物層之上形成覆蓋顯示區域并延伸至覆蓋所述擋墻的封裝結構層。