[發(fā)明專利]一種用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的智能軟體機(jī)器人的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710710316.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107471192B | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔣維濤;劉紅忠;李甜;牛東;陳邦道;史永勝;尹磊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安交通大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B25J7/00 | 分類號(hào): | B25J7/00 |
| 代理公司: | 西安智大知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 61215 | 代理人: | 賀建斌 |
| 地址: | 710049 陜*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 狹小 空間 內(nèi)壁 缺陷 監(jiān)測(cè) 智能 軟體 機(jī)器人 制造 方法 | ||
1.一種用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的智能軟體機(jī)器人的制造方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)先在基底(1)表面旋涂正性光刻膠層(2),然后利用曝光顯影工藝,將掩膜版圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠層(2)表面;
2)在具有掩膜版圖形的光刻膠層(2)表面濺射金屬層(3);
3)利用丙酮將基底(1)表面的光刻膠層(2)去除,光刻膠層(2)上的金屬層(3)也同時(shí)被去除;
4)以金屬層(3)作掩蔽,對(duì)圖形化基底進(jìn)行深硅刻蝕,刻蝕圖形的周期與深度均為微米級(jí),得到基底表面微結(jié)構(gòu)陣列;
5)利用酸溶液在加熱條件下對(duì)基底表面的金屬層(3)進(jìn)行剝離,得到陣列微結(jié)構(gòu)化模板;
6)利用勻膠機(jī)將配置好的聚合物混合液旋涂在陣列微結(jié)構(gòu)化模板上,然后加熱使其固化,完成軟體機(jī)器人A智能材料層(4)制備;
7)配置聚合物納米復(fù)合材料,利用刮板刮涂在A智能材料層(4)上表面的四個(gè)棱邊處,加熱使其固化,完成軟體機(jī)器人B智能材料層(5)的制備;
8)從陣列微結(jié)構(gòu)化模板上利用翻模工藝得到雙層智能材料系統(tǒng),對(duì)A智能材料層(4)下表面微結(jié)構(gòu)一側(cè)進(jìn)行表面化學(xué)修飾,制得用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的軟體機(jī)器人;
所述的一種用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的智能軟體機(jī)器人,包括A智能材料層(4),A智能材料層(4)上表面四周設(shè)有B智能材料層(5),A智能材料層(4)上表面中心搭載監(jiān)測(cè)及信號(hào)處理系統(tǒng)(6),A智能材料層(4) 微結(jié)構(gòu)側(cè)接觸狹小空間(8)內(nèi)液體,B智能材料層(5)感應(yīng)外部驅(qū)動(dòng)源(9)發(fā)射的刺激,對(duì)其實(shí)施遠(yuǎn)程驅(qū)動(dòng),監(jiān)測(cè)及信號(hào)處理系統(tǒng)(6)對(duì)狹小空間(8)內(nèi)壁缺陷進(jìn)行在線監(jiān)測(cè);監(jiān)測(cè)及信號(hào)處理系統(tǒng)(6)監(jiān)測(cè)到的缺陷圖像經(jīng)過數(shù)據(jù)傳輸單元(7)傳輸給狹小空間(8)外的信號(hào)接收及顯示系統(tǒng)(10),實(shí)時(shí)在移動(dòng)過程中監(jiān)測(cè)到的內(nèi)壁形貌圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的智能軟體機(jī)器人的制造方法,其特征在于:所述的A智能材料層(4)所用聚合物混合液為聚合物彈性體,包括聚二甲基硅氧烷PDMS。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的智能軟體機(jī)器人的制造方法,其特征在于:所述的B智能材料層(5)所用聚合物納米復(fù)合材料,納米材料包括多孔納米粒子、碳納米管、石墨稀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的智能軟體機(jī)器人的制造方法,其特征在于:所述的外部驅(qū)動(dòng)源(9)發(fā)射的刺激包括電場(chǎng)、磁場(chǎng)、光場(chǎng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的智能軟體機(jī)器人的制造方法,其特征在于:所述的陣列微結(jié)構(gòu)化模板的陣列微結(jié)構(gòu)包括微米級(jí)陣列方柱、方柱凹坑和平行光柵。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于狹小空間內(nèi)壁缺陷監(jiān)測(cè)的智能軟體機(jī)器人的制造方法,其特征在于:所述的表面化學(xué)修飾,還需要滿足軟體機(jī)器人的環(huán)境適應(yīng)性,包括用于生物體內(nèi)血管監(jiān)測(cè)的生物兼容性、用于腐蝕性管道內(nèi)壁監(jiān)測(cè)的抗腐蝕性。
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