[發(fā)明專利]一種磁控濺射鍍膜裝置

有效

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• 申請日: 2017-08-18
• 公開（公告）號: CN107313020B
• 公開（公告）日: 2019-09-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 譚偉;魏鋒
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發(fā)明提供一種磁控濺射鍍膜裝置，所述磁控濺射鍍膜裝置包括真空腔室；所述真空腔室設(shè)置一濺射鍍膜區(qū)；磁控靶，設(shè)置于所述濺射鍍膜區(qū)內(nèi)；承載平臺，用以承載基板，位于所述濺射鍍膜區(qū)內(nèi)相對所述磁控靶移動設(shè)置；以及調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括用以調(diào)整膜層厚度的調(diào)節(jié)擋板；膜厚自動檢測儀；其中，所述膜厚自動檢測儀檢測所述基板的膜層厚度，通過所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)所述調(diào)節(jié)擋板水平移動，以修正所述基板的膜層厚度。以解決現(xiàn)有技術(shù)的磁控濺射鍍膜裝置鍍膜時，容易出現(xiàn)膜層縱向均勻性不好的現(xiàn)象。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及濺射鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種磁控濺射鍍膜裝置。

背景技術(shù)

目前市場上生產(chǎn)LCD、OLED、TP等元器件中材料很多例如：SiO2、SIN、TiO2、ITO、IZO、金屬等常用膜層材料都會用到真空磁控濺射鍍膜機(jī)(PVD)；真空濺鍍設(shè)備一般由陰極系統(tǒng)，真空系統(tǒng)、傳送系統(tǒng)等部分組成；真空鍍膜的核心在于連續(xù)穩(wěn)定的真空腔體中制備均勻的所需膜層，目前的設(shè)備和基板都往大尺寸方向發(fā)展，就需要更少的真空腔體開腔頻率，更均勻的膜層均勻行來保證設(shè)備高效穩(wěn)定的運(yùn)行。

目前的磁控濺射機(jī)的鍍膜方式一般為線式鍍膜機(jī)，陰極裝置固定，一種：基板邊移動邊濺射鍍膜，一種：基板傳動到陰極前禁止不動開始鍍膜；兩種方式都會出現(xiàn)縱向均勻性不好的現(xiàn)象，目前的調(diào)整方式主要有以下幾種方式調(diào)整：調(diào)整磁場均勻，調(diào)整陽極罩或調(diào)節(jié)擋板的形狀，工藝氣體通過分段供氣。

調(diào)整磁場均勻性和調(diào)整陽極罩形狀的方式，每次都需要破真空才能處理，每次破真空會影響生產(chǎn)效率和設(shè)備的穩(wěn)定性，且調(diào)整效果不能立即確認(rèn)，需要真空鍍膜才能確認(rèn)，有時達(dá)不到要求，需要反復(fù)修正；工藝氣體分段供氣，氣氛容易波動調(diào)整效果不穩(wěn)定，且易受基板等其它放氣影響；且以上方式調(diào)整后靶材在使用不同時間段膜厚均勻也有變化。

綜上所述，現(xiàn)有技術(shù)的磁控濺射鍍膜裝置，在基板鍍膜時容易出現(xiàn)膜層縱向均勻性不好的現(xiàn)象，且對膜厚進(jìn)行調(diào)整時，需破真空環(huán)境才能進(jìn)行，從而影響生產(chǎn)效率和設(shè)備的穩(wěn)定性。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種磁控濺射鍍膜裝置，能在不破壞真空腔室的真空環(huán)境的情況下調(diào)整位于所述真空腔室內(nèi)的基板上的膜層的厚度。

為解決上述問題，本發(fā)明提供的技術(shù)方案如下：

本發(fā)明提供一種磁控濺射鍍膜裝置，包括：

真空腔室，設(shè)置有一濺射鍍膜區(qū)，所述濺射鍍膜區(qū)位于所述真空腔室中部；

磁控靶，設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)，并且所述磁控靶位于所述濺射鍍膜區(qū)中，所述磁控靶用以向設(shè)置在所述真空腔室內(nèi)的基板濺射預(yù)定膜材；

承載平臺，用以承載所述基板，以及用以控制所述基板相對所述磁控靶移動；以及

膜厚自動檢測儀，設(shè)置于所述真空腔室底部外側(cè)，所述膜厚自動檢測儀用以檢測由濺射在所述基板上的所述預(yù)定膜材所形成的膜層的厚度，并生成所述膜層的厚度信息；

調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，設(shè)置于所述濺射鍍膜區(qū)的一側(cè)，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括調(diào)節(jié)擋板，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用以根據(jù)所述厚度信息控制所述調(diào)節(jié)擋板移動，以利用所述調(diào)節(jié)擋板遮擋或部分遮擋濺射向所述基板的所述預(yù)定膜材，進(jìn)而調(diào)節(jié)所述膜層的厚度。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括伺服電機(jī)、第一傳動齒輪、第二傳動齒輪、第三傳動齒輪、縱向調(diào)節(jié)桿以及橫向調(diào)節(jié)桿。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述伺服電機(jī)設(shè)置于所述真空腔室底部外側(cè)，所述第一傳動齒輪連接于所述伺服電機(jī)輸出軸端，所述第二傳動齒輪設(shè)置于所述縱向調(diào)節(jié)桿一端并與所述第一傳動齒輪嚙合，所述縱向調(diào)節(jié)桿通過所述真空腔室底部通孔伸入所述真空腔室，所述第三傳動齒輪設(shè)置于所述縱向調(diào)節(jié)桿另一端，所述橫向調(diào)節(jié)桿與所述第三傳動齒輪嚙合。

根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述調(diào)節(jié)擋板至少包括兩個子調(diào)節(jié)擋板，至少兩個所述子調(diào)節(jié)擋板面向所述基板在同一平面上縱向平行設(shè)置。