[發明專利]一種金屬表面批量處理加工方法在審
| 申請號: | 201710709141.4 | 申請日: | 2017-08-17 |
| 公開(公告)號: | CN107443020A | 公開(公告)日: | 2017-12-08 |
| 發明(設計)人: | 徐真真;高娟娟;孫啟毅;朱曉軍;徐恩燕;李金環 | 申請(專利權)人: | 萬世泰金屬工業(昆山)有限公司 |
| 主分類號: | B23P15/00 | 分類號: | B23P15/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金屬表面 批量 處理 加工 方法 | ||
技術領域
本發明涉及金屬表面處理技術,尤其涉及一種金屬表面批量處理加工方法。
背景技術
拋光在金屬表面處理過程中是很重要的一道工序,在機械拋光工藝中,目前還都是采用單件切割,單件拋光的工藝,但隨著現在人工、房租等一系列成本的增加,需要一種可以節省大量成本的批量金屬表面處理加工方法。
發明內容
本發明提供一種金屬表面批量處理加工方法,通過如下技術方案來實現:
一種金屬表面批量處理加工方法,包括如下步驟:
(1)對所需金屬料進行橫向切割,對切割完的金屬料進行疊加放置;
(2)對疊加后的金屬料進行一次性豎向切割;
(3)收集切割完成的金屬料,并使多件金屬料需被拋光面在同一水平面上;
(4)對上表面在同一水平面的多件金屬料上表面選擇下刀余量在1.0mm轉速在200r/min的旋轉表面銑床進行粗拋光;
(5)再對進行過粗拋光的多件金屬料選擇(選擇刀盤250轉速在400r/min的銑床進行表面光刀;
(6)依次用號數為:600目、1500目的砂紙進行半精拋;
(7)用拋光布輪混合磚石研磨粉或研磨膏進行研磨精拋。
優選的,所述步驟1中疊加放置時所有待切割金屬料的豎切面垂直于同一平面上。
優選的,還包括使用具有側邊雙邊刀盤的表面銑床進行雙邊銑。
優選的,還包括使用具有側邊刀盤的表面銑床進行單邊銑。
優選的,根據不同橫向尺寸的需求對疊加后的金屬料進行豎向切割。
與現有技術相比,本發明可以根據庫存和客戶需求的尺寸直接批量的對金屬表面進行拋光處理。節省了大量的時間和人力成本。
具體實施方式
為使本發明實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解,下面結合具體實施方式,進一步闡述本發明。
一種金屬表面批量處理加工方法,包括如下步驟:(1)對所需金屬料進行橫向切割,對切割完的金屬料進行疊加放置;在疊加的過程中,必須使所有的待下一步切割的金屬料的豎切面在同一垂直面上,這樣才能保證在切割的過程中不會因為材料參差不齊而在切割后產生廢料,(2)對疊加后的金屬料進行一次性豎向切割;在切割的過程中,需要用固定裝置將所有在切割中的金屬料固定,這樣才能保證在高度的切割速度和力度下不會發生位移而使得切割下來的金屬料變成廢料;另外,豎向切割的過程中,可以根據不同尺寸的要求進行相應的切割,如1m的料可以被切割成0.5m+0.5m的兩塊金屬料,也可以被切割成0.2m+0.4m+0.4m的三塊金屬料;(3)收集切割完成的金屬料,并使多件金屬料需被拋光面在同一水平面上,由于需要同時對多件金屬料進行表面處理,此時就需要根據下一步選用的刀片的大小選擇對應大小多少的金屬料并排在銑床上,但必須保證所有金屬料的表面在同一水平面上;(4)對上表面在同一水平面的多件金屬料上表面選擇下刀余量在1.0mm轉速在200r/min的旋轉表面銑床進行粗拋光;(5)再對進行過粗拋光的多件金屬料選擇(選擇刀盤250轉速在400r/min的銑床進行表面光刀,由于不同的拋光精度對刀盤的選擇以及磨損度也是不同的,在粗拋的過程中可以選用相對老舊一些的銑床和刀盤來進行粗拋光,而在進行表面光的時候就需要相對新一些的且磨損少的刀盤進行表面光,這樣既可以使機器達到最佳的使用效果,且還可以循環利用;(6)依次用號數為:600目、1500目的砂紙進行半精拋;(7)用拋光布輪混合磚石研磨粉或研磨膏進行研磨精拋。對金屬表面機械拋光一般都是對生產和切割過程中產生的氧化物或者毛刺去掉,從而得到光亮的光滑面。經過多輪的拋光可以達到2-5μ的表面粗糙度。之前的情況都是單獨對一件料進行拋光處理,使用此方法可以在減少人力物力等成本但不影響效果的情況下完成批量的金屬料表面的拋光處理。
根據客戶或庫存對需求拋光面多少的需求,還可以使用具有側邊雙邊刀盤的表面銑床進行雙邊銑或者使用具有側邊刀盤的表面銑床進行單邊銑。
以上顯示和描述了本發明的基本原理和主要特征和本發明的優點。本行業的技術人員應該了解,本發明不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理,在不脫離本發明精神和范圍的前提下,本發明還會有各種變化和改進,這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。
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