[發(fā)明專利]一種陣列基板、液晶面板及其制作工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710707165.6 | 申請日: | 2017-08-17 |
| 公開(公告)號: | CN107315288B | 公開(公告)日: | 2021-01-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 趙彥禮;李曉吉;張智;孫賀;董興;熊麗軍;閔泰燁 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/1333;G09G3/36 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陣列 液晶面板 及其 制作 工藝 | ||
1.一種陣列基板,包括配向膜,其特征在于,還包括:
薄膜晶體管基板;
位于所述薄膜晶體管基板上方的下電極;
位于所述下電極背離所述薄膜晶體管基板一側且與所述下電極接觸的第一絕緣層;
位于所述第一絕緣層背離所述下電極一側且與所述第一絕緣層接觸的中間電極;
位于所述中間電極背離所述第一絕緣層一側且與所述中間電極接觸的第二絕緣層;
位于所述第二絕緣層背離所述中間電極一側且與所述第二絕緣層接觸的上電極,所述配向 膜位于所述上電極背離所述第二絕緣層一側;
位于所述配向膜背離所述上電極一側的液晶層;
其中,所述下電極為平面公共電極,所述上電極和所述中間電極為相互垂直的條形的像素電極;
其中,所述中間電極位于顯示區(qū)的預設范圍內(nèi)的邊緣區(qū)域,所述邊緣區(qū)域設置有隔墊物;
其中,當包括所述陣列基板的液晶面板處于顯示狀態(tài)時,所述上電極用于在所述中間電極和所述下電極之間相對電壓為零的情況下,施加第一驅(qū)動電壓,使得所述上電極和所述下電極之間形成邊緣電場,且所述邊緣電場的方向平行于所述配向膜的配向方向,以使所述液晶層中液晶分子的排列方向與所述配向膜的配向方向平行;
其中,當包括所述陣列基板的液晶面板處于非顯示狀態(tài)時,所述中間電極用于在所述上電極和下電極之間相對電壓為零的情況下,施加第二驅(qū)動電壓,使得所述中間電極與所述下電極之間形成電場,并且所述電場的方向平行于所述配向膜的配向方向,以使所述液晶層中液晶分子的排列方向保持與所述配向膜的配向方向平行。
2.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述預設范圍內(nèi)的邊緣區(qū)域為距離顯示區(qū)邊緣0微米~50微米之間的區(qū)域。
3.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述絕緣層材料包括鈦酸鋇和聚酰亞胺的有機混合物。
5.如權利要求4所述的液晶面板,其特征在于,還包括:驅(qū)動控制單元,用于在所述上電極和下電極之間相對電壓為零的情況下,向所述中間電極施加第二驅(qū)動電壓,使得所述中間電極與所述下電極之間形成電場,并且所述電場的方向平行于所述配向膜的配向方向。
6.一種陣列基板的制作工藝,包括制作配向膜的步驟,其特征在于,還包括:制作薄膜晶體管基板;
在所述薄膜晶體管基板上形成下電極;
在所述下電極上形成第一絕緣層,所述第一絕緣層與所述下電極接觸;
在所述第一絕緣層上形成中間電極,所述中間電極與所述第一絕緣層接觸;
在所述中間電極上形成第二絕緣層,所述第二絕緣層與所述第一絕緣層接觸;
在所述第二絕緣層上形成上電極,所述上電極與所述第二絕緣層接觸;
在所述上電極上形成配向膜;
在所述配向膜上形成液晶層;
其中,所述下電極為平面公共電極,所述上電極和所述中間電極為相互垂直的條形的像素電極;
其中,所述中間電極位于顯示區(qū)的預設范圍內(nèi)的邊緣區(qū)域,所述邊緣區(qū)域設置有隔墊物;
其中,當包括所述陣列基板的液晶面板處于顯示狀態(tài)時,所述上電極用于在所述中間電極和所述下電極之間相對電壓為零的情況下,施加第一驅(qū)動電壓,使得所述上電極和所述下電極之間形成邊緣電場,且所述邊緣電場的方向平行于所述配向膜的配向方向,以使所述液晶層中液晶分子的排列方向與所述配向膜的配向方向平行;
其中,當包括所述陣列基板的液晶面板處于非顯示狀態(tài)時,所述中間電極用于在所述上電極和下電極之間相對電壓為零的情況下,施加第二驅(qū)動電壓,使得所述中間電極與所述下電極之間形成電場,并且所述電場的方向平行于所述配向膜的配向方向,以使所述液晶層中液晶分子的排列方向保持與所述配向膜的配向方向平行。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司,未經(jīng)京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710707165.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





