[發(fā)明專利]黑色矩陣結(jié)構(gòu)及其制作方法、彩色濾光片及顯示面板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710706487.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107340626A | 公開(公告)日: | 2017-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許非凡;劉海亮;陳宗維;王鵬濤;嚴(yán)清濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東旭(昆山)顯示材料有限公司;東旭集團(tuán)有限公司;東旭科技集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11283 | 代理人: | 金旭鵬,肖冰濱 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇州市昆山市開*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 黑色 矩陣 結(jié)構(gòu) 及其 制作方法 彩色 濾光 顯示 面板 | ||
1.一種黑色矩陣結(jié)構(gòu),其特征在于,所述黑色矩陣結(jié)構(gòu)包括基板及形成在所述基板上的一個(gè)或多個(gè)黑色矩陣,
其中所述一個(gè)或多個(gè)黑色矩陣中的每一個(gè)黑色矩陣與所述基板相接觸的表面為不平整的表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色矩陣結(jié)構(gòu),其特征在于,所述一個(gè)或多個(gè)黑色矩陣中的每一個(gè)黑色矩陣與所述基板相接觸的表面是凸起的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的黑色矩陣結(jié)構(gòu),其特征在于,所述基板上形成有一個(gè)或多個(gè)凹槽,所述一個(gè)或多個(gè)黑色矩陣對(duì)應(yīng)的形成在所述基板的所述一個(gè)或多個(gè)凹槽處。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色矩陣結(jié)構(gòu),其特征在于,所述一個(gè)或多個(gè)黑色矩陣周期的排列在所述基板上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色矩陣結(jié)構(gòu),其特征在于,所述基板為玻璃基板。
6.一種彩色濾光片,其特征在于,該彩色濾光片包括:
權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的黑色矩陣結(jié)構(gòu);以及
彩色層,該彩色層與所述一個(gè)或多個(gè)黑色矩陣形成在所述基板的同一側(cè),并且所述彩色層形成在所述基板上的非黑色矩陣區(qū)域處。
7.一種顯示面板,其特征在于,該顯示面板包括根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩色濾光片。
8.一種黑色矩陣結(jié)構(gòu)的制作方法,其特征在于,該方法包括:
在基板的非黑色矩陣區(qū)域處進(jìn)行涂布以形成光阻圖形;
對(duì)形成有所述光阻圖像的基板進(jìn)行刻蝕以在所述基板的黑色矩陣區(qū)域形成一個(gè)或多個(gè)凹槽;
將所述光阻圖形從所述基板剝離;以及
在所述基板的所述一個(gè)或多個(gè)凹槽的每一個(gè)凹槽處形成黑色矩陣,其中形成的所述黑色矩陣與所述基板相接觸的表面是凸起的。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述基板為玻璃基板。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述對(duì)形成有所述光阻圖像的基板進(jìn)行刻蝕包括:
使用氫氟酸對(duì)形成有所述光阻圖像的基板進(jìn)行刻蝕。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東旭(昆山)顯示材料有限公司;東旭集團(tuán)有限公司;東旭科技集團(tuán)有限公司,未經(jīng)東旭(昆山)顯示材料有限公司;東旭集團(tuán)有限公司;東旭科技集團(tuán)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
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