[發(fā)明專利]一種核殼結(jié)構(gòu)發(fā)白光器件及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710706337.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107316927A | 公開(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王彩鳳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 濱州學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | H01L33/08 | 分類號(hào): | H01L33/08 |
| 代理公司: | 威??菩菍@聞?wù)所37202 | 代理人: | 于濤 |
| 地址: | 264200 山東*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 結(jié)構(gòu) 白光 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種核殼結(jié)構(gòu)發(fā)白光器件,其特征在于所述的該發(fā)白光器件的底部襯底為GaN襯底層,GaN襯底層的上方設(shè)有ZnO薄膜種子層,ZnO薄膜種子層上方設(shè)有ZnO納米棒,所述的ZnO納米棒周圍包覆ZnS:Mn薄膜殼層,ZnO納米棒和ZnS:Mn薄膜殼層構(gòu)成ZnO/ZnS:Mn核殼納米棒陣列,ZnS:Mn薄膜殼層、ZnO納米棒、ZnO薄膜種子層、GaN襯底層構(gòu)成ZnS:Mn/ZnO/GaN核殼納米棒陣列器件,ZnS:Mn/ZnO/GaN核殼納米棒陣列器件在325nm波長(zhǎng)的紫外光激發(fā)下,GaN襯底層發(fā)出的藍(lán)光可以透過上面材料,并與ZnO納米棒的黃綠光和ZnS:Mn薄膜殼層的橙紅光疊加在一起,獲得白光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種核殼結(jié)構(gòu)發(fā)白光器件,其特征在于所述的ZnO/ZnS:Mn核殼納米棒陣列的陣列縫隙和頂部填充設(shè)有透明導(dǎo)電薄膜,所述的GaN襯底層表面設(shè)有Pt/Ni(50nm/30nm)電極,帶有透明導(dǎo)電薄膜的ZnS:Mn/ZnO核殼層表面設(shè)有Pt/Ti(50nm/30nm)電極,在正向電壓激勵(lì)下,該器件呈現(xiàn)白光發(fā)射。
3.種核殼結(jié)構(gòu)發(fā)白光器件的制備方法,其特征在于所述的制作步驟如下:
步驟一:清洗GaN襯底,將Mg摻雜的p-GaN外延片(以藍(lán)寶石(0001)為襯底,在未摻雜的GaN緩沖層上生長(zhǎng)了約1μm厚的Mg摻雜p-GaN薄膜),先后放入丙酮和乙醇溶液中超聲波振蕩清洗10-30min,然后用去離子水沖洗干凈,用氮?dú)獯蹈?,GaN襯底層的發(fā)光峰位為430-450nm;
步驟二:在GaN襯底層上沉積ZnO薄膜種子層,沉積ZnO薄膜種子層的方法有:脈沖激光沉積法、磁控濺射法、電子束蒸發(fā)法,沉積的ZnO的厚度為30-50nm;
步驟三:在ZnO薄膜種子層上制備ZnO納米棒,制備ZnO納米棒的方法有:水熱合成法、化學(xué)水浴沉積法、電沉積法, ZnO納米棒的發(fā)光峰位為375-387nm和560-580nm;
步驟四:在ZnO納米棒上包覆ZnS:Mn薄膜殼層,沉積ZnS:Mn薄膜殼層的方法有:脈沖激光沉積法、磁控濺射法、電子束蒸發(fā)法,ZnS:Mn薄膜殼層的發(fā)光峰位為580-610nm,ZnO納米棒和ZnS:Mn薄膜殼層構(gòu)成ZnO/ZnS:Mn核殼納米棒陣列,ZnS:Mn薄膜殼層、ZnO納米棒、ZnO薄膜種子層、GaN襯底層構(gòu)成ZnS:Mn/ZnO/GaN核殼納米棒陣列器件,ZnS:Mn/ZnO/GaN核殼納米棒陣列器件在325nm波長(zhǎng)的紫外光激發(fā)下,GaN襯底層發(fā)出的藍(lán)光可以透過上面材料,并與ZnO納米棒的黃綠光和ZnS:Mn薄膜殼層的橙紅光疊加在一起,獲得白光,色坐標(biāo)為(0.31~0.35,0.30~0.34)再進(jìn)行增加電極進(jìn)行生產(chǎn)實(shí)用;
步驟五:在ZnO/ZnS:Mn核殼納米棒陣列的頂端沉積透明導(dǎo)電薄膜,厚度為100-120nm,透明導(dǎo)電薄膜填充在ZnO/ZnS:Mn核殼納米棒陣列縫隙,并覆在ZnO/ZnS:Mn核殼納米棒陣列的頂端使ZnO/ZnS:Mn核殼納米棒陣列相互連接;
步驟六:分別在GaN襯底層制備Pt/Ni(50nm/30nm)電極,在包覆ZnO/ZnS:Mn核殼納米棒陣列表面的透明導(dǎo)電薄膜上制備Pt/Ti(50nm/30nm)電極;
步驟七:用正向電壓激發(fā)ZnS:Mn/ZnO/GaN核殼納米棒陣列,得到可見光區(qū)較強(qiáng)的白光發(fā)射,得到的白光發(fā)射光譜波長(zhǎng)范圍為350-800nm,色坐標(biāo)為(0.335~0.3393,0.3334~0.3366)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種核殼結(jié)構(gòu)發(fā)白光器件及其制備方法,其特征在于所述的透明導(dǎo)電薄膜為ITO透明導(dǎo)電薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的一種核殼結(jié)構(gòu)發(fā)白光器件及其制備方法,其特征在于所述的ZnS:Mn薄膜殼層中的Mn2+的摻雜濃度為1%~3%。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種核殼結(jié)構(gòu)發(fā)白光器件及其制備方法,其特征在于所述的ZnS:Mn薄膜殼層中的Mn2+的最優(yōu)化摻雜濃度為1%。。
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