[發(fā)明專利]一種中心遮攔的光學(xué)成像系統(tǒng)背景輻射抑制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710705800.7
• 申請(qǐng)日: 2017-08-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109407309B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 甄政;王英瑞;李昂;周軍;歐文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京遙感設(shè)備研究所
• 主分類號(hào): G02B27/00
• 分類號(hào): G02B27/00;G06F30/20
• 代理公司: 中國(guó)航天科工集團(tuán)公司專利中心 11024
• 代理人: 姜中英

1.一種中心遮攔的光學(xué)成像系統(tǒng)背景輻射抑制方法，其特征在于具體步驟為：

構(gòu)建包括：光線追跡模塊、光線窗口分布模塊、探測(cè)器窗口遮擋模塊和背景輻射分析模塊的光學(xué)成像系統(tǒng)背景輻射抑制仿真系統(tǒng)；

光線追跡模塊完成不同視場(chǎng)下的目標(biāo)光線追跡；

光線窗口分布模塊計(jì)算目標(biāo)光線在探測(cè)器窗口分布；

探測(cè)器窗口遮擋模塊計(jì)算探測(cè)器需要遮擋的區(qū)域范圍；

背景輻射分析模塊計(jì)算對(duì)探測(cè)器窗口遮擋前后背景輻射抑制比例；

至此實(shí)現(xiàn)了中心遮攔的光學(xué)成像系統(tǒng)背景雜散輻射的降低，

其中，不同視場(chǎng)的目標(biāo)光線軌跡最終要落入到探測(cè)器窗口表面，所述的光線窗口分布模塊計(jì)算目標(biāo)光線落入到探測(cè)器窗口表面的空間分布，對(duì)光線落點(diǎn)根據(jù)8領(lǐng)域就近原則連接，得到內(nèi)層光線空間輪廓為P(x,y)；

并且其中，探測(cè)器窗口遮擋模塊計(jì)算目標(biāo)光線沒(méi)有落入到探測(cè)器窗口的區(qū)域面積，以探測(cè)器窗口中心(0，0)為原點(diǎn)計(jì)算與內(nèi)層空間輪廓P(x,y)的距離，具體公式如下：

其中，0xR,0yR，R為探測(cè)器窗口的半徑，D(,xy)為輪廓邊緣的每一個(gè)點(diǎn)P(x,y)到探測(cè)器中心的距離，從所有的D(,xy)中選擇最小距離值d，以最小距離值d為半徑的圓形面積S作為探測(cè)器窗口遮擋區(qū)域范圍：

S＝π×d² (2)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中心遮攔的光學(xué)成像系統(tǒng)背景輻射抑制方法，其特征在于：假設(shè)目標(biāo)為一個(gè)無(wú)窮遠(yuǎn)的物體，目標(biāo)光線到光學(xué)系統(tǒng)前面是一群平行光線，所述的光線追跡模塊分別分析中心、半視場(chǎng)、全視場(chǎng)三種情況下目標(biāo)光線入射到光學(xué)系統(tǒng)后的光線軌跡走向。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中心遮攔的光學(xué)成像系統(tǒng)背景輻射抑制方法，其特征在于：背景輻射分析模塊計(jì)算光學(xué)成像系統(tǒng)在探測(cè)器窗口無(wú)遮擋前的背景輻射Q1和探測(cè)器窗口遮擋S面積后發(fā)熱背景輻射Q2；光學(xué)成像系統(tǒng)背景輻射降低的比例關(guān)系如下：

由于探測(cè)器窗口遮擋S面積后目標(biāo)光線沒(méi)有造成損失，依然是100％，而光學(xué)系統(tǒng)背景輻射得到抑制，背景輻射降低至原來(lái)的100％-k。