[發(fā)明專利]一種用于等離子體處理設(shè)備的RF訊號傳遞裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710705141.7 | 申請日： | 2017-08-17 |
| 公開（公告）號： | CN107564792B | 公開（公告）日： | 2019-12-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 荒見淳一 | 申請（專利權(quán)）人： | 沈陽拓荊科技有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/687;H01L21/67 |
| 代理公司： | 21229 沈陽維特專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人： | 甄玉荃 |
| 地址： | 110000 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 等離子體 處理 設(shè)備 rf 訊號 傳遞 裝置 | ||
1.一種用于等離子體處理設(shè)備的RF訊號傳遞裝置，其特征在于，包含：
一金屬層，被包覆在一盤體中；
一金屬棒，用于傳遞RF訊號，該金屬棒具有一上端及一下端，該金屬棒的上端電性耦接至該金屬層，且該金屬棒的上端與該金屬層之間具有一磁性金屬接觸；該金屬層的材質(zhì)為鎢，該金屬棒的材質(zhì)為鎢或鉻。
2.如權(quán)利要求1所述的RF訊號傳遞裝置，其特征在于，該磁性金屬接觸的材質(zhì)為鎳。
3.如權(quán)利要求1所述的RF訊號傳遞裝置，其特征在于，該盤體還包含至少一加熱單元。
4.一種等離子體處理設(shè)備，其特征在于，包含：一殼體，具有一底部；及一加熱座，包含：一盤體，包覆用于傳遞RF訊號的一金屬層及一加熱單元；及一柱體，自該殼體的底部延伸以支撐該盤體于該殼體中，該柱體包覆一第一金屬棒，該第一金屬棒具有一上端及一下端，該第一金屬棒的上端電性耦接至該金屬層，且該第一金屬棒的上端與該金屬層之間具有一磁性金屬接觸；該金屬層的材質(zhì)為鎢，該第一金屬棒的材質(zhì)為鎢或鉻。
5.如權(quán)利要求4所述的等離子體處理設(shè)備，其特征在于，該磁性金屬接觸的材質(zhì)為鎳。
6.如權(quán)利要求4所述的等離子體處理設(shè)備，其特征在于，該加熱座的柱體還包覆一第二金屬棒，該第二金屬棒與該盤體的加熱單元電性耦接。
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