[發明專利]偏振膜的制造方法、制造裝置及偏振膜

有效

• 申請號: 201710702706.6
• 申請日: 2017-08-16
• 公開（公告）號: CN107765356B
• 公開（公告）日: 2022-06-03
• 發明（設計）人: 住田幸司;趙天熙;金孝東
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/1335
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 朱丹

1.一種偏振膜的制造方法，是由聚乙烯醇系樹脂膜制造偏振膜的方法，所述方法包括：

染色工序，對所述聚乙烯醇系樹脂膜用二色性色素進行染色處理；

交聯工序，對所述染色工序后的所述聚乙烯醇系樹脂膜用交聯劑進行交聯處理；

電磁波照射工序，對所述交聯工序后的所述聚乙烯醇系樹脂膜照射包含紅外線的電磁波；和

清洗工序，對照射所述電磁波后的所述聚乙烯醇系樹脂膜進行清洗，

在所述電磁波照射工序中，所述聚乙烯醇系樹脂膜的所述電磁波的每單位體積的照射熱量在所述聚乙烯醇系樹脂膜的寬度方向上具有分布，

對于所述聚乙烯醇系樹脂膜的寬度方向，包含中心且不包含端部的第一區域中的所述電磁波的每單位體積的照射熱量與包含端部且不包含中心的第二區域中的所述電磁波的每單位體積的照射熱量不同。

2.根據權利要求1所述的偏振膜的制造方法，其中，

在所述電磁波照射工序中，對于所述聚乙烯醇系樹脂膜的寬度方向，包含中心且不包含端部的第一區域中的所述電磁波的每單位體積的照射熱量大于包含端部且不包含中心的第二區域中的所述電磁波的每單位體積的照射熱量。

3.根據權利要求2所述的偏振膜的制造方法，其中，

在所述電磁波照射工序中，所述第一區域的所述電磁波的照射熱量在所述聚乙烯醇系樹脂膜的每單位體積中為100J/cm³以上且50kJ/cm³以下。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的偏振膜的制造方法，其中，

在所述電磁波照射工序中，照射大于2μm且4μm以下的波長的紅外線的輻射能量的比例為全部輻射能量的25％以上的電磁波。

5.根據權利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述交聯劑包含硼化合物。

6.根據權利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述交聯工序是使所述聚乙烯醇系樹脂膜浸漬于包含所述交聯劑的水溶液的交聯浴中的工序。

7.根據權利要求6所述的偏振膜的制造方法，其中，

在所述交聯處理之后、照射所述電磁波之前，還包括除去附著于所述聚乙烯醇系樹脂膜的表面的所述水溶液的除液工序。

8.根據權利要求2或3所述的偏振膜的制造方法，其中，

在所述電磁波照射工序中，僅對所述第一區域照射電磁波。

9.根據權利要求8所述的偏振膜的制造方法，其中，

相對于所述聚乙烯醇系樹脂膜的總寬度而言的所述第一區域的寬度為60～90％。

10.一種偏振膜的制造裝置，是由聚乙烯醇系樹脂膜制造偏振膜的制造裝置，所述制造裝置具備：

染色部，其對所述聚乙烯醇系樹脂膜用二色性色素進行染色處理；

交聯部，其對所述染色處理后的所述聚乙烯醇系樹脂膜用交聯劑進行交聯處理；

電磁波照射部，其對所述交聯處理后的所述聚乙烯醇系樹脂膜照射包含紅外線的電磁波；和

清洗部，其對照射所述電磁波后的所述聚乙烯醇系樹脂膜進行清洗，

所述電磁波照射部照射所述電磁波以使得對于所述聚乙烯醇系樹脂膜的寬度方向，包含中心且不包含端部的第一區域中的所述電磁波的每單位體積的照射熱量與包含端部且不包含中心的第二區域中的所述電磁波的每單位體積的照射熱量不同。