[發(fā)明專利]一種曝光機(jī)基臺(tái)裝置及曝光機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710702380.7
• 申請日: 2017-08-16
• 公開（公告）號(hào): CN107315324B
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安予生;蔣盛超;喻琨;吳春暉;余世榮
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

1.一種曝光機(jī)基臺(tái)裝置，其特征在于，包括：基臺(tái)，所述基臺(tái)具有玻璃承載面，且所述基臺(tái)上設(shè)置有多個(gè)開口位于所述玻璃承載面的真空吸附孔，其中：

每一個(gè)所述真空吸附孔內(nèi)設(shè)置有可繞自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)的支撐機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)的自身軸線與所述真空吸附孔的軸心線平行，且所述支撐機(jī)構(gòu)具有用于支撐玻璃的支撐面，所述支撐機(jī)構(gòu)具有第一工位，且當(dāng)所述支撐機(jī)構(gòu)處于第一工位時(shí)，所述支撐面與所述玻璃承載面處于同一平面，且所述支撐面的面積小于所述真空吸附孔的面積；

每一個(gè)所述真空吸附孔內(nèi)設(shè)置有多個(gè)用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽氣孔；

在曝光開始前，每一個(gè)真空吸附孔中的支撐機(jī)構(gòu)繞自身軸線高速轉(zhuǎn)動(dòng)，以使支撐機(jī)構(gòu)的支撐面能夠均勻地對(duì)玻璃基板中與真空吸附孔相對(duì)的部位進(jìn)行均勻支撐，且為玻璃基板提供的支撐力能夠抵消真空吸附孔吸附玻璃的力，使得玻璃基板處于真空吸附孔區(qū)域部位與位于非真空吸附孔區(qū)域部位的形變狀態(tài)盡量一致。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)基臺(tái)裝置，其特征在于，至少一部分所述真空吸附孔內(nèi)的支撐機(jī)構(gòu)具有第二工位，且當(dāng)所述支撐機(jī)構(gòu)處于第二工位時(shí)，所述支撐面高于所述玻璃承載面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)基臺(tái)裝置，其特征在于，所述支撐機(jī)構(gòu)包括支撐桿，所述支撐桿與所述基臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述支撐桿的自由端設(shè)置有所述支撐面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)基臺(tái)裝置，其特征在于，所述支撐面的旋轉(zhuǎn)中心距所述真空吸附孔的邊緣的最大距離不大于所述真空吸附孔的直徑。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光機(jī)基臺(tái)裝置，其特征在于，所述支撐面投射到所述真空吸附孔的底面上的投影形狀為十字形。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)基臺(tái)裝置，其特征在于，所述支撐機(jī)構(gòu)的一端連接有驅(qū)動(dòng)組件。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光機(jī)基臺(tái)裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)組件包括氣動(dòng)元件或電動(dòng)機(jī)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)基臺(tái)裝置，其特征在于，所述抽氣孔遠(yuǎn)離玻璃基板的一端連接有抽氣裝置。

9.一種曝光機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的曝光機(jī)基臺(tái)裝置。